陶氏化学针对电子行业的先进技术解决方案

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Ø 高纯度 Ø 极强的溶解力 Ø 多样的挥发速度 Ø 可控ppb级金属离子含量
• 电子级丙二醇甲醚
DOWANOL™ PM E, AE-5 • 电子级丙二醇甲醚醋酸酯
DOWANOL™ PMA E, AE-5, AE-20 • 二丙二醇甲醚/丙二醇丁醚
DOWANOL™ DPM, PnB • 二乙二醇甲醚/乙醚/丁醚
-10.0%
-20.0% 2014
$ Bn 全球FPD市场
200
YoY Growth 20.00%
150
14.6%13.5% 10.8%
15.00% 10.00%
100
50
-4.3%
5.6% 3.65%.00% 0.00%
-5.00%
0
-10.00%
2010 2011 2012 2013 2014 2015 2016
CARBITOL™ BuCb, MeCb, CbSv • 乙二醇醚系列
CELLOSOLVE™ glycol ethers • 3-乙氧基丙酸乙酯
UCAR™ Ester EEP
光刻胶、彩色光阻、边缘去除剂/稀释剂 14
有机胺及溶剂用于光刻胶剥离剂
• 为光刻胶剥离剂产品提供优异性能 • 铜制程配方开发及技术支持
超滤(UF) DOWTM UF Modules : SFP2860, SFP-2880 DOWTM IntegraFlo UF Modules :IW-102, IW-74
19
Make Real Progress 取得真正的进步
– 通过产品创新,水处理系统可以节能减排!
100
Standard
225 psi
Double Pass RO
Single Pass RO + CDI or EDI
IX
Storage Tank
Polishin g Mixed Bed
Secondary Loop (Polishing Stage)
UV Final Polisher
UF
Reclaim (Recovery) System
• 包装: 为客户提供一个独特的方案,通过“包装工作室”合作 • 农业:通过植物生物技术帮助实现高产量潜力 • 电子产品:使电子显示器和普通照明质量更好 • 交通:帮助制造有助于更轻,更节能高效的车 • 水:以可持续的方式解决水的挑战
2013年陶氏授权美国专利 – 历史最高 陶氏全球精英研发团队
研发项目净现值
• TFT-LCD • 光刻胶 •溶剂 • 晶边去除剂 •溶剂 • 彩色光阻 •溶剂 • 刻蚀剂 •表活 • 光刻胶剥离剂 •胺和溶剂
• PDP •溶剂用于浆料 • OLED •与TFT-LCD类似
• 覆铜板胶液 • 溶剂
• 抗刻蚀剂 • 溶剂
• 镀铜 • PEG, EO/PO聚合物 • 表活 • 螯合剂
• 很强的光刻胶溶解力 • 较低的金属腐蚀性(适用于铜制程) • 有效的抗再沉积性能 • ppb级金属离子含量 • 高纯度
光刻胶剥离机理—溶剂型配方
胺 溶剂
光刻胶
金属膜
胺类产品线 • 胺剥离剂 Amine Stripper • 电子级单乙丙醇胺 MIPA EG • 电子级单甲基二乙醇胺 MDEA EG • 乙醇胺系列 MEA, DEA, TEA • 单甲基乙醇胺 NMEA
陶氏化学针对电子行业的先进技术解决方案
Dow.com
陶氏化学(中国)投资有限公司
内容
• 陶氏化学简介 • 陶氏化学对电子行业的发展趋势理解 • 陶氏化学对电子行业提供的解决方案
• 工业解决方案业务部 • 水处理业务部 • 电子材料业务部
• 总结
2
陶氏化学概况
中国 - 陶氏全球第二大海外市场
总投资:12亿美元 2013年销售额45亿美元 ~3,500员工
• 工业解决方案业务部 • 电子材料业务部 • 水处理业务部
• 总结
7
消费性电子产品 - 功能及生产的需求
薄型,轻量 一体化
• 玻璃薄化技术处理 • 提升结构设计之坚固性 • 可穿戴
容易使用
• 易于操控的人机介面 => 轻薄的触控面板
• 类纸式显示器 • 智能家居,智能汽车等
高效“绿色” 的生产
• 稳定可靠的生产工艺 • 低废品率 • 低碳排放量
反渗透(RO)
DOW FILMTECTM : HRLE-440i, BW30HR-440i, SG30LE-440i, XFRLE-440i, BW30XFR-400/34i
Storage Tank
Point of Use
离子交换树脂(IX)
AMBERLITETM AMBERJETTM DOWEXTM MARATHONTM DOWEXTM MONOSPHERETM
陶氏工业解决方案产品 陶氏电子材料产品线 线








陶氏水处理产品线
★ ★
11
工业解决方案业务部面向的市场
• 陶氏化学工业解决方案业务部的产品被用在电子行业中的很多个配方中, 提供优异的性能。
半导体/集成电路
平板显示器
印刷电路板
• 切削液 •PEG, EO/PO共聚物 •表活 • 化学机械平坦化 •表活 •有机胺 • 光刻胶 •溶剂 • 晶边去除剂 •溶剂 • 刻蚀剂 •表活 • 光刻胶剥离剂 •胺和溶剂
个行业的需求。
气体 特殊气体 大宗气体
沉积 化学机械研磨
光刻胶助剂 光刻胶
液晶
光学膜
湿态化学品 金属化
光刻胶及助剂 气体
硅片
基材
气体及化学品 密封剂 陶瓷材料
塑料基材
总额: 107$bn
基材
硅片 切割线
引线框架
抗蚀剂、助 剂及光罩 金属化 化学品及
气体
焊接材料
浆料
粘接 材料
封装材料 背板材料 玻璃基板
9
内容
• 陶氏化学简介 • 陶氏化学对电子行业的发展趋势理解 • 陶氏化学对电子行业提供的解决方案
• 工业解决方案业务部 • 水处理业务部 • 电子材料业务部
• 总结
10
陶氏解决方案助力您的新产品开发和可靠生产
消费电子产品需求
薄型,轻量 一体化 高分辨率 高画质表现 容易使用
低能耗
高效“绿色”的生产
2B3T System (Packed bed
RO
System)+RO
Pre-treatment System
Raw Water
Storage Tank
Multi Media Filter or UF
OPTIONAL
Storage Tank
UF
Single Pass RO + Working Mixed Bed
控泡 抑泡 减少空气引入 切割液 镀铜
与金属离子形 成络合物 金属离子失活 镀铜
出色热稳定性 氧化稳定性 高闪点 高火点 低泡
水溶性流体 适用于线切割 硅及钛酸锂片 镀铜
• MEA, DEA,
TEA • Amine
Stripper • MIPA EG • MDEA EG • NMEA etc
• DOWANOL
Aquatech China 2013 创新奖
2012-2013 水业膜元 件供应商用户满意设 备品牌
Dow UF成功帮助TSMC回收晶背研磨( BG)废水/化学机械抛光(CMP)废水
摘自TSMC 2013企业社会责任报告
18
典型产品在电子行业的应用
Primary Loop (Roughing Stage)
总的电子材料
来源: LINX 咨询报告及陶氏内部资料
$Bn 全球半导体市场
400
350
32.0%
300
250 200 150 100 -9.2%
7.2% 0.4% 0.4%
50
0
2009 2010 2011 2012 2013
YoY Growth
40.0%
30.0%
20.0% 4.4% 10.0%
0.0%
™ EO/PO
共聚物 • TERGITOL
™ L 系列非
离子表活
• Versene™, Versenex™, Versenol ™ 螯合剂
• UCON™ 焊 接辅助流体
• CARBOWA X™ 聚乙二 醇
13
含氧溶剂用于稀释剂、彩色光阻、光刻胶等配方
• 为客户提供广泛的配方设计空间 • 严苛的质量控制体系 • 帮助客户提高良率 • 提供有效配方开发及技术支持
5
上海陶氏中心: 亚太区的创新中枢
一体化的业务与研发中心,包括技术服务、应用开发和全球性研发工作
• 10万平方米; 500多名研发人员 • 主要目标:
加速地区性增长 (80%) 利用全球技术 (20%)
客户创新中心
材料工程中心
核心科学与业务 研究实验室
市场及应用开发 实验室
实物原型实验室
6
内容
• 陶氏化学简介 • 陶氏化学对电子行业的发展趋势理解 • 陶氏化学对电子行业提供的解决方案
高分辨率 高画质表现
• 高解析度 • 广视野角 • 高色彩再现度 • 高反应速度 • 高抗外光干扰 • 大尺寸
低能耗
• 低耗电延长电池寿命 • LTPS技术架构提升反应速度
8
电子——巨大而且持续增长的市场
• 亚太区的占全球电子市场产值份额超过85%。
• 中国快速增长的平板显示器产能。
• 陶氏化学提供多种解决方案以满足从半导体,平板显示到印刷电路等多
™ PM, PMA,
DPM, PnB • CARBITOL™
glycol
ethers • CELLOSOLV
E™ glycol
ethers • UCAR™
Ester EEP
• TRITON™, TERGITOL™ , and ECOSURF™ 非离子表活
• DOWFAX™
阴离子表活 • DOWFAX
Low Energy 150 psi
(1.03 MPa)
7000
8000
9000 10000 11000 Permeate Flow Rate (gpd)
12000
13000
14000
通过创新性膜技术,在不降低产水水质情况下,能耗可节约多达30% 20
实际Baidu Nhomakorabea用案例分析
环保&又省钱
项目
运行数据
运行压力 (bar) 产水量 (m3/Hr) 产水硅含量 (ppb)
• 齐备的技术和产品
• 整体工艺解决方案提供 商
• 全面&专业的技术服务 能力
DOW™ UF Modules
DOWEX™ Ion Exchange Resin
TEQUATIC™ PLUS Fine Particle Filter
DOW FILMTEC™ RO Elements
DOW™ EDI Modules
总部 7个业务中心 1个业务流程中心 18个生产基地
§ 1897年在美国密歇根州米德兰 市成立
§ 2013年全球销售额571亿美元 § 提供多元化的产品和服务,客
户遍及全球约180个国家 § 在36个国家建有生产基地,共
有201家工厂,拥有6,000多种 产品 § 全球共有员工约53,000人
3
关注关键市场 - 以创新和本地化为发展策略
胺: 溶解光刻胶薄膜和粘结促进 剂,并防止残渣再沉积
溶剂: 溶胀并溶解薄膜,降低粘度 ,提高渗透性,延长剥离剂 使用寿命
15
内容
• 陶氏化学简介 • 陶氏化学对电子行业的发展趋势理解 • 陶氏化学对电子行业提供的解决方案
• 工业解决方案业务部 • 水处理业务部 • 电子材料业务部
• 总结
16
陶氏水处理及过程解决方案
• 阻焊油墨 • 溶剂 • UCONTM SAF
• 助焊剂清洗液 • 溶剂 •胺
12
工业解决方案业务部产品线
电子行业相关产品
有机胺
溶剂
表面活性剂 泡沫控制剂
螯合剂
焊接辅助流 体
聚乙二醇
碱性 抗腐蚀 光刻胶去除 电路板清洗
光刻胶 彩色光阻 边缘去除 光刻胶去除 导电浆料 环氧树脂固化 剂溶解
润湿 易漂洗性能 低/不稳定泡 沫切割液 化学机械研磨 刻蚀液 镀铜
健康与营养
农业 食品和包装 健康
消费品
电子与通信 家用和个人护理 家用电器
能源与环保
节能 环境保护 可替代能源与原材料
交通与基础设施
建筑 水 交通和汽车
2008年
新兴市场 28%
发达市场
2011年
新兴市场 32%
发达市场
2013年
新兴市场 35%
发达市场
4
陶氏创新在行动
通过在化学,生物学和物理学交叉领域强有力的合作和创新,陶氏科学 家提供客户想要的价值和世界所需的解决方案。
AMBER™ Ion Exchange Resin
• 11家工厂遍布全球 • 8大研发中心 • 设在上海,世界顶级
的亚太研发中心,全 心为本地客户服务
17
行业创新引领者
l 反渗透、离子交换树脂和超滤技术的创新引领者; l 在中国,连续9年被评为“行业领先的反渗透膜和组件供应商” l 多年来,与客户携手共成长,得到客户的广泛认可:
99.5
(1.55 MPa)
BW30-400
BW30HR-440i
BW30-440i
ECO-440i
HRLE-440i
BW30-345 99
LE-440i
BW30-400
BW30LE-440
FILMTEC™ RO
98.5
产品创新优化
Salt Rejection (%)
98
97.5 6000
BW30-8040 BW30LE-400 BW30-330
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