场效应管及其基本电路详解
合集下载
相关主题
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
03.06.2019
模拟电子技术
23
3―2―1 绝缘栅场效应管的结构 3―2―2 N沟道增强型MOSFET
(Enhancement NMOSFET) 一、导电沟道的形成及工作原理
S
N+
GD
N+
PN结(耗尽层)
P型衬底
UGS=0,导电沟道未形成
03.06.2019
模拟电子技术
24
S UGS
N+
GD
iD ID0(1UuGGSSof)f 2
ID0表示uGS=0时所对应的漏极电流。
ID0
unCoxW(U2GSo)ff 2L
03.06.2019
模拟电子技术
35
N+
N+
导电沟道(反型层)
P 型衬底
B
UGS=0,导电沟道已形成
图 N沟道耗尽型MOS场效应管的沟道形成
03.06.2019
模拟电子技术
电 4阻
U GS = 0V
区 3
恒
-0.5V
击 穿
2
流
-1V
区
区
-1.5V
1
-2V
U GSoff
0
5
10
15
20 uDS /V
截止区
(b)输出特性曲线
图3―3JFET的转移特性曲线和输出特性曲线
03.06.2019
模拟电子技术
15
当uDS很小时, uDS对沟道的影响可以忽略, 沟道的宽度及相应的电阻值仅受uGS的控制。输 出特性可近似为一组直线,此时,JFET可看成一 个受uGS控制的可变线性电阻器(称为JFET的输 出电阻);
D
G P
P U DS
U GS S
(b) uGD<UGSoff(预夹断后)
由于夹断点与源极间的沟道长度略有缩短,呈现
的沟道电阻值也就略有减小,且夹断点与源极间的电
压不变。
结型场效应三极管漏源电压对沟道的控制作用.avi
03.06.2019
模拟电子技术
13
3―1―2 结型场效应管的特性曲线 一、输出特性曲线
3―2―2 N沟道增强型MOSFET
一、导电沟道的形成及工作原理
二、转移特性
三、输出特性
(1)截止区
(2)恒流区
(3)可变电阻区
03.06.2019
模拟电子技术
2
3―2―3 N沟道耗尽型 MOSFET
3―2―4各种类型MOS管的符号及特性对比
3―3 场效应管的参数和小信号模型
3―3―1场效应管的主要参数
31
(3)恒流区 预夹断后所对应的区域。 uGS>UGSth uGD<UGSth(或uDS>uGS-UGSth)
·曲线间隔均匀,uGS对iD控制能力强。 ·uDS对iD的控制能力弱,曲线平坦。
03.06.2019
模拟电子技术
32
三、转移特性
iD≥0 (1)当uGS<UGSth时,iD=0。 (2)当uGS>UGSth时,iD >0,二者符合平方律关系。
03.06.2019
模拟电子技术
17
3. 截止区
当UGS<UGSoff时,沟道被全部夹断,iD=0, 故此区为截止区。
4.击穿区 随着uDS增大,靠近漏区的PN结反偏电压
uDG(=uDS-uGS)也随之增大。
03.06.2019
模拟电子技术
18
二、转移特性曲线
uGS≤0, iD≥0
iDf(uGS)uD SC 恒流区中: iD IDS(S1UuGGSSo)ff2
(c)
图3―10N沟道耗尽型MOS管的特性及符号
(a)转移特性;(b)输出特性;(c)表示符号
03.06.2019
模拟电子技术
38
3―2―4各种类型MOS管的符号及特性对比
JFET
N 沟道 D
P 沟道 D
G
G
S
S
图3―11各种场效应管的符号对比
03.06.2019
模拟电子技术
39
M O SFET
36
iD/mA
uDSuGSUGSoff+ 6V
4 UGS=+ 3V
3 0V
2 -3V
1
0
5
10
15
20 uDS/V
(b)
图3―10N沟道耗尽型MOS管的特性及符号
(a)转移特性;(b)输出特性;(c)表示符号
03.06.2019
模拟电子技术
37
iD D
ID 0
B
G
U G Soff
0
uGS
S
(a )
图3―3JFET的转移特性曲线和输出特性曲线
03.06.2019
模拟电子技术
20
iD/mA
iD/mA 可
转移特性曲线.avi
IDSS
5
变 uDS=uGS-UGSoff
电
4
4阻
UGS=0V
区
恒 -0.5V
击
3
3
穿
2
2
流 -1V
区
区 -1.5V
1
1
-2V
0
-3 -2 -1 0 uGS/V
5 10 15 20
UGSoff
截止区
从输出特性曲线作转移特性曲线示意图
UGSoff uDS/V
03.06.2019
模拟电子技术
21
3―2 绝缘栅场效应管(IGFET)
一、简介 栅极与沟道之间隔了一层很薄的绝缘体,其阻 抗比JFET的反偏PN结的阻抗更大。功耗低,集 成度高。
绝缘体一般为二氧化硅(SiO2),这种IGFET称 为金属——氧化物——半导体场效应管,用符
一、直流参数
二、极限参数
三、交流参数
3―3―2 场效应管的低频小信号模型
03.06.2019
模拟电子技术
3
3―4 场效应管放大器 3―4―1 场效应管偏置电路 一、图解法 二、解析法 3―4―2 场效应管放大器分析 一、共源放大器 二、共漏放大器
03.06.2019
模拟电子技术
4
第三章 场效应管及其基本电路
号 MOSFET 表 示 ( Metal Oxide Semiconductor
Field Effect Transistor)。此外,还有以氮化硅
为绝缘体的MNSFET等。
03.06.2019
模拟电子技术
22
二、分类 MOSFET
N沟道 P沟道
增强型 N-EMOSFET 耗尽型 N-DMOSFET 增强型 P-EMOSFET 耗尽型 P-DMOSFET
式中:IDSS——饱和电流,表示uGS=0时的iD值; UGSoff——夹断电压,表示uGS=UGSoff时iD为零。
03.06.2019
模拟电子技术
19
iD /mA
I DSS
5
4 为保证场效应管正
源自文库3 常工作,PN结必须加 反向偏置电压
2
1
-3 U GS off
-2 -1 0 uGS /V
(a)转移特性曲线
一、结型场效应管的结构
Drain 漏极
D
Gate栅极
G
N
P
型 沟
P
道
Source源极 S
ID
实际 G 流向
D 箭头方向表示栅 源间PN结若加 正向偏置电压时
S 栅极电流的实际 流动方向
(a)N沟道JFET
结型场效应三极管的结构.avi
图3―1结型场效应管的结构示意图及其表示符号
03.06.2019
模拟电子技术
第三章 场效应管及其基本电路 3―1 结型场效应管
3―1―1 结型场效应管的结构及工作原理 3―1―2 结型场效应管的特性曲线 一、转移特性曲线 二、输出特性曲线 1. 可变电阻区 2.恒流区 3. 截止区 4.击穿区
03.06.2019
模拟电子技术
1
3―2 绝缘栅场效应管(IGFET)
3―2―1 绝缘栅场效应管的结构
(1)了解场效应管内部工作原理及性能特点。 (2)掌握场效应管的外部特性、主要参数。 (3)了解场效应管基本放大电路的组成、工作原 理及性能特点。 (4)掌握放大电路静态工作点和动态参数(
A u、 R i、 R o、 U o)m的分析方法。
03.06.2019
模拟电子技术
5
双极型晶体管主要是利用基区非平衡少数载流子 的扩散运动形成电流。
P沟道:iD 0
结型P 沟
增强型 耗尽型 P沟 P沟
MOS (a)转移特性
图3―12各种场效应管的转移特性和输出特性对比
03.06.2019
模拟电子技术
42
N沟道:iD 0 P沟道:iD 0
模拟电子技术
9
D
横向电场作用:
P
P
︱UGS︱↑ → PN结耗尽层宽度↑
→沟道宽度↓
U GS
S
(b) UGS负压增大,沟道变窄 图3―2栅源电压UGS对沟道的控制作用示意图
03.06.2019
模拟电子技术
10
D
P
P
UGSoff——夹断电压
UGS
S
(c) UGS负压进一步增大,沟道夹断 图3―2栅源电压UGS对沟道的控制作用示意图
D 输出 电流
S
S
MOSFET:利用栅源电压( 输入电压)对半导体
表面感生电荷量的控制来改变导电沟道的宽度,从
而实现对漏极电流(输出电流)的控制。
03.06.2019
模拟电子技术
41
N沟道:iD 0
iD MOS
耗尽型 增强型 N沟 N沟 I DSS
结型N 沟
ID0 UGSth
UGSoff
0
uGS
场效应晶体管(场效应管)利用多数载流子的 漂移运动形成电流。
场效应管FET (Field Effect Transistor)
结型场效应管JFET (Junction FET)
绝缘栅场效应管IGFET (Insulated Gate FET)
03.06.2019
模拟电子技术
6
3―1 结型场效应管
3―1―1 结型场效应管的结构及工作原理
S (c )符号
衬底的箭头方向表示 PN结若加正向电压时 的电流方向
图3―6 N沟道增强型MOS场效应管的沟道形成及符号
03.06.2019
模拟电子技术
26
UDS UGS
N+
N+
P 型衬底 B
图 uDS增大,沟道预夹断前情况
03.06.2019
模拟电子技术
27
UDS UGS
N+
N+
预夹断
P 型衬底 B
03.06.2019
模拟电子技术
11
ID>0 D
沟道预夹断
ID >0 D
G P
P U DS
G P
P U DS
U GS
S
U GS S
(a)uGD>UGSoff(预夹断前)
uGD=UGSoff(预夹断时)
纵向电场作用:在沟道造成楔型结构(上宽下窄)
图3―4 uDS
03.06.2019
模拟电子技术
12
I D 几乎不变 沟道局部夹断
uGS≤0, uDS≥0 1. 可变电阻区
预夹断前所对应的区域。 uGS>UGSoff uGD>UGSoff(或uDS<uGS-UGSoff)
iD的大小同时受uGS 和uDS的控制。
03.06.2019
模拟电子技术
14
iD /mA
漏极输出特性曲线.avi
可 变 u DS = u G S-UGSoff
7
D
ID
P
D
G
型
N
N
沟
道
实际
G
流向
S
S
(b)P沟道JFET
图3―1结型场效应管的结构示意图及其表示符号
03.06.2019
模拟电子技术
8
二、结型场效应管的工作原理
iDf(uG,SuD)S D
N
G
P
P
S
(a) UGS =0,沟道最宽
图3―2栅源电压UGS对沟道的控制作用示意图
03.06.2019
预夹断前所对应的区域。 uGS>UGSth uGD>UGSth(或uDS<uGS-UGSth)
03.06.2019
模拟电子技术
30
iD
可
uDSuGSUGSth UGS = 6V
变
恒
5V
电
阻
流
4V
区
区
3V
2V 0
截止区
击 穿 区
uDS
(a)输出特性 图3―8输出特性
03.06.2019
模拟电子技术
图3―9 uDS增大,沟道预夹断时情况
03.06.2019
模拟电子技术
28
UDS UGS
N+
N+
P 型衬底
B
漏源电压VDS对沟道的影响.avi
图 uDS增大,沟道预夹断后情况
03.06.2019
模拟电子技术
29
二、输出特性
uDS≥0 (1)截止区
uGS<UGSth 导电沟道未形成,iD=0。 (2)可变电阻区
N+
PN 结(耗尽层) P 型衬底
B
(a) UGS<UGSth,导电沟道未形成
开启电压:UGSth 图3―6 N沟道增强型MOS场效应管的沟道形成及符号
03.06.2019
模拟电子技术
25
栅源电压VGS对沟道的影响.avi
D
U GS
N+
N+
G
B
导电沟道(反型层)
P 型衬底 B
(b) UGS>UGSth,导电沟道已形成
当uDS较大时, uDS对沟道的影响就不能忽略, 致使输出特性曲线呈弯曲状。
03.06.2019
模拟电子技术
16
2.恒流区 预夹断后所对应的区域。
uGS>UGSoff uGD<UGSoff(或uDS>uGS-UGSoff)
iD的大小几乎不受uDS的控制。
(1)当UGSoff<uGS<0时,uGS变化,曲线平移,iD与uGS 符合平方律关系, uGS对iD的控制能力很强。 (2) uGS固定,uDS增大,iD增大极小。
iDunC 2oxW L(uGSUGS)t2h
k(uGSUGS)t2h
03.06.2019
模拟电子技术
33
iD/mA 5 4 3 2 1
0
12 3
uGS /V
UGS th
图3―7 NMOSFET的转移特性曲线
03.06.2019
模拟电子技术
34
3―2―3 N沟道耗尽型 MOSFET (Depletion NMOSFET)
增强型
耗尽型
N沟道 D
G
B
P沟 道 D
B G
N沟道 D
B G
P沟 道 D
B G
S
S
S
S
图3―11各种场效应管的符号对比
03.06.2019
模拟电子技术
40
JFET:利用栅源电压( 输入电压)对耗尽层厚度 的控制来改变导电沟道的宽度,从而实现对漏极
电流(输出电流)的控制。
G
输入 电压
uGS
FET
iD