电镀工艺条件与高饱和磁感应CoNiFe软磁薄膜的性能
《镍电镀技术篇》课件
建立镍电镀废液、废渣的回收再利用体系,降低 资源消耗。
3
绿色产品推广
鼓励绿色环保的镍电镀产品研发与推广,推动行 业的可持续发展。
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常见问题及解决方案
镀层不均匀
调整电镀参数,如电流密度和电 镀时间,确保镀层均匀。
镀层附着力差
优化前处理和浸蚀工艺,提高镀 层附着力。
表面粗糙
调整电解液浓度和温度,改善表 面质量。
03
镍电镀的优点与局限性
镍电镀的优点
高耐腐蚀性
镍镀层具有优异的耐腐 蚀性能,能有效抵抗大 气、盐雾、酸雨等环境
因素的侵蚀。
纳米镍电镀
利用纳米技术制备具有优异性能的纳米镍镀层,满足高端领域的 需求。
无氰化物镍电镀
研发无氰化物的环保型镍电镀技术,降低生产过程中的环境污染 。
非导电基材上镍电镀
突破非导电基材上镍电镀的关键技术,拓宽镍电镀的应用领域。
环保与可持续发展
1 2
清洁生产
优化生产工艺,降低能耗和减少废弃物排放,实 现清洁生产。
。
电子设备的电磁屏蔽
03
镍镀层具有良好的电磁屏蔽性能,能够减少电磁干扰对电子设
备的影响。
五金行业的应用
五金制品的装饰
镍镀层具有美丽的外观和良好的耐磨性,常用于五金制品的装饰 。
五金制品的防腐蚀
镍镀层能够提供良好的防腐蚀性能,提高五金制品的使用寿命。
五金制品的连接与固定
镍镀层具有良好的强度和韧性,能够用于五金制品的连接与固定。
环保问题
镍电镀过程中会产生废水和废 气,对环境造成一定的影响。
工艺难度大
镍电镀工艺较为复杂,需要严 格控制工艺参数,否则容易出
化学镀Co-P薄膜的磁性及研究
王海 成 等 : 学 镀 C - 化 oP薄 膜 的磁 性 及 研 究
化 学镀 C — oP薄 膜 的磁 性 及 研 究
王 海 成 , 中关 , 立锦 , 广 华 , 杜 王 于 朱逢 吾
( 京科 技 大学 材 料科 学与 工程 学 院 ,北 京 1 0 8 ) 北 0 0 3 摘 要 : 采 用化 学镀 法制备 了 C — oP磁 记 录薄膜 。 当
件 。Ta a u i mma等 人 在 C — 中掺 人 Ni R k y k Ho oP 和 e 元素 , 发现 薄膜具 有 良好 的垂 直记 录 特性 , 以应 用 于 可
轴 上并 匀速 转 动 , 高分 辨 光 编码 器 输 出的 脉 冲信 号
经分 频 电路 分 频后 可 产 生 1 2 P R、 1 P R、5 P R 04 P 52P 26P
件 之一 。为 了提 高 磁 编码 器磁 鼓 的原 始 充 磁 精 度 , 有 必 要对 磁鼓 材料 的 制 备 及 有 关 磁 性 进 行 进 一 步 的研
( AGM) 量 薄膜 的磁 性 能 。 测
充磁 测试 采 用 下 述 方 法 : 1 2 P R( ussp r 将 0 4 P p l e e
rv lt n 的高 分辨 光 编码 器 与 待充 磁 磁鼓 安 装 于 同 e oui ) o
一
介 质[ , 1 可应 用 于 高 精 度 、 分 辨 率 的 磁 传 感 元 器 ] 高
结构 中择 优取 向明显 , 晶粒较 大 , 时薄 膜 的矫 顽 力 较 此
低 。将 其 应 用 于 磁 旋 转 编 码 器 的 磁 鼓 记 录 介 质 , 成 制
直 径 04 mm 的 磁 鼓 , 0 当原 始 充 磁 磁 极 对 数 为 5 2时 , 1
Ni-Co-Fe合金代铬镀层的电镀工艺
目录摘要 (1)一Ni-Co-Fe合金代铬镀层的优点及工业现状 (2)2 电流密度,PH値以及温度对工艺的影响 (5)3 阴极电位对工艺的影响 (6)4 热处理对工艺的影响 (6)5 稀土添加剂对工艺的影响 (7)三Ni-Co-Fe合金代铬镀层的最新研究 (7)1 Ni-Co-Fe合金纳米线有序阵列的模板合成与磁性 (7)2 电沉积纳米晶Ni-Co-Fe合金镀层的热稳定性 (7)总结 (9)参考文献 (9)摘要由于铬镀层具有光亮、防变色,在大气环境下稳定性和光泽的持久性等独特的优良性能,而获得了广泛的应用。
然而镀铬均镀性较差,电流密度高,电流效率低,能耗高,同时,铬雾和含铬废水排放严重污染环境和水源,危害人体健康。
因而致力于开发代铬镀层,先后开发了电镀Sn- CO 、CO- B、Ni- CO- Tl- B等合金镀层以及化学镀Ni- MO- P、Ni- Cu- P、Ni-Sn- P、CO- W- P、Ni- W- P 等合金镀层,但是这些合金镀层的综合性能不能满足取代铬镀层的要求。
鉴于上述状况,本文就可以取代铬镀层的电镀Ni- Fe- C合金工艺的优点,镀层性能,工业现状,研究现状,发展方向等加以叙述。
从而使我们对电镀Ni- Fe- CO各个方面有一个全新的认识。
本文着重介绍Ni-Co-Fe 合金代铬镀层的电镀工艺与最新研究成果。
AbstractAs with bright chrome plating, anti-discoloration, under atmospheric conditions, stability and durability and other unique luster excellent performance, and access to a wide range of applications. However, poor chrome-plated, high current density, low current efficiency, high energy consumption, while chromium and chromium-containing wastewater discharge fog serious pollution of the environment and water and endanger human health. Therefore committed to the development on behalf of chrome plating.Has developed a plating Sn-CO, CO-B, Ni-CO-Tl-B alloy plating andelectroless plating, etc. Ni-MO-P, Ni-Cu-P, Ni-Sn-P, CO-W-P, Ni - W-P alloy coating, etc., but the overall performance of the alloy coating can not satisfy the requirements substituted chromium plating. Given the above situation, this article can replace chrome plating electroplating Ni-Fe-CO Alloy advantages of coating performance, industry status quo, research status and development direction to be described. So that we have a new understanding in electroplating Ni-Fe-CO from all its aspects..we will focus on introduce the production technology and latest investigation of Ni-Fe-CO .一Ni-Co-Fe合金代铬镀层的优点及工业现状Ni-Co-Fe合金代铬镀层,在很大层度上改善了镀层的色泽,得到了与铬镀层极为相似的合金镀层,且镀层经热处理后其硬度与铬相当,。
Ni-P底层对化学镀Co-P薄膜性能的影响
界每年 有数亿个 硬盘 要进行 化学 镀镍 处 理 。随 着微 纳 加工技 术的发展 , 现在许 多功能 器件 , 如铝 合金 上化 诸 学镀 钴 系合 金 磁性 薄 膜 , 多用 Ni 也 — P作 为底 层 [ 5。 2 ]  ̄ 大多文献 只着 重 分析 了实验 工 艺参 数 对 Ni — P性 能 的 影 响 , 者 是 工 艺 条 件 对 功 能 薄 膜 性 能 的 影 响 卅] 或 , Ni - P底层 对功 能薄 膜性 能 的影 响 只是 提 及 , 具 体影 但
柠檬 酸 为 2 ~ 2 g L; 酸 为 1 ~ 2 g L, - 8 ℃ , O 5/ 乳 6 0 / T- 5
pH 一 4 5~ 6 0。 . .
研 究 了非 晶无磁 Ni — P底层 对 C - oP薄膜 的 生长及 性 能 的影 响 。研 究 结果 表 明 : 晶 无磁 Ni 非 - P底 层 对 C — oP
1O 1 5 / ; O ~ 0 g L T一 7  ̄ 8 ℃ , H=7 O 8 0 0 6 p .~ . 。
粒 尺寸为 1 o 10 m; 高 C — o~ 5 n 提 oP薄膜 的磁 性 能 , 顽 矫
力 可 达 4 5 × i m。 当 记 录 信 号 脉 冲 时 , 铝 基 . 4 0 A/ 与
化学 镀 C — 镀 液 成 分 及 操 作 条 件 ; o O oP C S ・
7 O 为 2  ̄2 g L; H2 O2 H2 5 8 / Na P ・H2 为 2  ̄2 g L; O 3 6/ C H5 3 ・2 O 为 l O 1 0 / ; NH4 2O4为 6 NaO7 H2 1~ 2g L ( )S
硬度 、 耐磨和耐 腐蚀 等综合 物理 化学 性能 , 因而 在航 空 航天 、 学 系 统 ( 远 镜 、 望 镜 、 航 系 统 、 星 成 光 望 潜 导 卫 像 ) 汽车工业 、 、 电子计 算机 工业 、 门制造 业 等方 面具 阀 有广 泛的应用 , 尤其是 计算 机 薄膜硬 磁盘化 学 镀 Ni 占 有相 当大 的市 场 份 额 [ 。计 算 机 用 薄 膜 磁 盘 一 般 用 1 ]
镀NiFe合金膜的磁性与热稳定性研究
镀NiFe合金膜的磁性与热稳定性研究磁性材料是当代物理学和材料科学中的重要研究领域之一,广泛应用于电子、信息、医疗、能源等各个领域。
镀NiFe合金膜是一种重要的磁性材料,具有良好的磁性和化学稳定性,在磁盘存储器等领域应用广泛。
本文将从磁性和热稳定性两个方面对镀NiFe合金膜进行探究。
一、磁性镀NiFe合金膜的磁性可以通过磁性测试进行研究。
磁性测试的常用指标有饱和磁化强度、易磁化轴和薄膜的矫顽力等。
例如,通过横向磁性测试和纵向磁性测试可以了解薄膜在不同方向下的磁特性。
磁性测试可以通过霍尔效应测试、振动磁强计测试、电磁振荡测试等不同测试方法进行,不同测试方法的适用范围和精度存在差异,需要根据实际情况进行选择。
通过磁性测试可以得出镀NiFe合金膜具有高的饱和磁化强度和良好的磁各向异性。
磁各向异性指的是物质在磁场中的磁化方向偏好性。
当物质的磁各向异性越强时,其在磁场中的磁化方向越容易沿着某一个方向固定,从而提高了磁性能的稳定性,在磁盘存储器等高精度应用场合尤为重要。
二、热稳定性热稳定性是指材料在高温环境下的物理和化学性质是否稳定,对于磁性材料来说,尤其需要考虑其抗热衰减的能力。
镀NiFe合金膜作为常用的磁记录材料,需要在复杂的热环境下正常工作。
因此,研究其热稳定性十分重要。
针对镀NiFe合金膜的热稳定性问题,研究人员通过控制材料的合成工艺和材料组成,提高了其热稳定性。
具体来说,对于典型的NiFe合金薄膜,热稳定性在400℃左右即开始衰减,而改变Ni/Fe的原子比例可以提高NiFe合金膜的热稳定性。
此外,通过热处理和掺杂等方法,还可以调节薄膜的晶体结构和组成,从而提高其热稳定性。
综上所述,镀NiFe合金膜的磁性和热稳定性是影响其应用性能的两个关键因素。
研究人员需要运用现代测试和分析手段,深入研究其物理和化学性质,并针对实际应用场景对其进行优化和改进。
今后,镀NiFe合金膜的研究不仅有助于提高磁盘存储器等领域的性能和可靠性,同时也对提高我国的材料科学研究水平具有重要意义。
《镍电镀技术篇》课件
表面处理技术
研究表面处理新技术,如等离子体处理、激光处理等,提高镀层 附着力和耐腐蚀性。
环保技术
研究环保型的电镀添加剂和回收技术,降低环境污染。
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定期检查设备
检查设备的各个部件是否正常 工作,及时发现并解决潜在问
题。
清洁设备
定期清洁设备表面,去除污垢 和杂质,保持设备的清洁和整 洁。
更换磨损部件
对于磨损严重的部件,应及时 更换,确保设备的正常运行和 使用寿命。
定期保养
根据设备的使用情况和说明书 的要求,进行定期保养,如更
换滤芯、清洗设备等。
04
事故报告
按照相关规定及时报告事故,配合 有关部门进行调查处理。
06
镍电镀的发展趋势与展 望
镍电镀技术的发展趋势
环保化
随着环保意识的提高,镍电镀技 术将更加注重环保,减少对环境
的污染。
高性能化
为了满足各种复杂应用需求,镍 电镀技术将不断追求高性能,提
高镀层质量。
智能化
随着工业4.0的推进,镍电镀技 术将逐步实现智能化,提高生产
脉冲镀镍与直流镀镍
脉冲镀镍可以改善镀层质量,提高沉 积速度,降低能耗;而直流镀镍设备 简单,操作方便,但沉积速度较慢。
03
镍电镀的设备与材料
镍电镀的主要设备
电源设备
提供电镀所需的直流电流或脉 冲电流。
过滤设备
用于去除电镀溶液中的杂质和 颗粒物。
镀槽
用于容纳电镀溶液和待镀工件 ,通常由耐腐蚀材料制成。
《镍电镀技术篇》ppt 课件
目录
• 镍电镀技术概述 • 镍电镀的原理与工艺流程 • 镍电镀的设备与材料 • 镍电镀的质量控制与检测 • 镍电镀的环保与安全 • 镍电镀的发展趋势与展望
磁性薄膜材料
磁性薄膜材料
磁性薄膜材料是一种具有磁性的薄膜材料,广泛应用于磁存储、传感器、磁性
电子器件等领域。
磁性薄膜材料具有磁性和薄膜特性的优势,可以在微型化、高密度、高性能的电子器件中发挥重要作用。
磁性薄膜材料通常由铁、镍、钴等磁性金属或合金制成,其厚度通常在几纳米
到几微米之间。
这种薄膜材料具有优良的磁性能,如饱和磁化强度、矫顽力、磁导率等,同时具有较高的化学稳定性和机械强度。
磁性薄膜材料的制备方法多种多样,常见的包括物理气相沉积、溅射沉积、化
学气相沉积、溶液法等。
这些方法可以制备出不同结构、形貌和磁性能的薄膜材料,满足不同应用场景的需求。
磁性薄膜材料在磁存储领域具有重要应用,例如硬盘驱动器、磁存储芯片等。
其高饱和磁化强度和低磁滞损耗使得磁性薄膜材料成为理想的磁存储介质。
同时,磁性薄膜材料还被广泛应用于传感器领域,如磁传感器、磁阻传感器等,用于测量磁场强度、位置、速度等参数。
除此之外,磁性薄膜材料还在磁性电子器件中发挥重要作用,如磁隧道结构、
磁电阻效应等。
这些器件在信息存储、传输、处理等方面具有重要意义,而磁性薄膜材料的磁性能和薄膜特性为其提供了良好的基础。
总之,磁性薄膜材料具有重要的应用前景和发展潜力,其在磁存储、传感器、
磁性电子器件等领域的应用将进一步推动电子技术的发展和进步。
随着科学技术的不断进步,磁性薄膜材料必将在更多领域展现出其优越性能和巨大价值。
电镀铁氧体磁铁
电镀铁氧体磁铁电镀铁氧体磁铁是一种广泛用于电子设备中的重要元件。
它由铁氧体材料制成,并经过电镀处理,具有优异的磁性能和耐腐蚀性。
本文将介绍电镀铁氧体磁铁的制造工艺、性能特点以及应用领域。
一、制造工艺电镀铁氧体磁铁的制造过程主要包括以下几个步骤:1. 配料:将铁氧体粉末、粘结剂、润滑剂等原料按照一定比例混合,制成均匀的浆料。
2. 成型:将浆料注入模具中,经压制、烧结等工艺,制成所需形状的铁氧体磁铁。
3. 电镀:将成型的铁氧体磁铁进行电镀处理,以提高其耐腐蚀性和外观质量。
4. 检测与包装:对电镀后的铁氧体磁铁进行性能检测,合格后进行包装。
二、性能特点1. 优异的磁性能:电镀铁氧体磁铁具有较高的磁导率和矫顽力,能够产生较强的磁场。
2. 耐腐蚀性:经过电镀处理,电镀铁氧体磁铁具有较好的耐腐蚀性,能够适应恶劣环境下的使用。
3. 良好的稳定性:电镀铁氧体磁铁的物理和化学性能稳定,不易受环境因素的影响。
4. 易于加工:电镀铁氧体磁铁易于切割、钻孔、打磨等加工操作,方便后续的装配和使用。
三、应用领域电镀铁氧体磁铁广泛应用于电子设备中,如电机、发电机、变压器、传感器等。
在电机中,电镀铁氧体磁铁被用于产生旋转磁场,驱动电机旋转。
在发电机中,电镀铁氧体磁铁用于产生感应电流。
在变压器中,电镀铁氧体磁铁用于改变电压和电流的大小。
在传感器中,电镀铁氧体磁铁用于检测磁场的变化,从而实现对物理量的测量和控制。
此外,电镀铁氧体磁铁还可应用于医疗器械、航空航天等领域。
例如,在医疗器械中,电镀铁氧体磁铁可用于磁共振成像设备;在航空航天领域,电镀铁氧体磁铁可用于导航系统和通信设备。
四、总结电镀铁氧体磁铁作为一种重要的电子元件,具有优异的磁性能和耐腐蚀性,广泛应用于各个领域。
随着科技的不断发展,电镀铁氧体磁铁的性能和应用领域将不断拓展和创新。
电镀镍铁合金(3篇)
第1篇摘要随着工业技术的不断发展,电镀技术在材料表面处理领域发挥着越来越重要的作用。
镍铁合金作为一种优良的耐腐蚀、耐磨、耐高温材料,在航空、航天、汽车、石油、化工等行业得到广泛应用。
本文介绍了电镀镍铁合金的基本原理、工艺流程、性能特点以及应用领域,旨在为电镀镍铁合金的研究和应用提供参考。
一、引言电镀镍铁合金是一种具有优良性能的表面处理材料,它具有以下特点:1. 耐腐蚀:镍铁合金具有良好的耐腐蚀性能,在多种腐蚀性环境中都能保持稳定。
2. 耐磨:镍铁合金具有较高的耐磨性,适用于高速、重载的场合。
3. 耐高温:镍铁合金具有良好的耐高温性能,适用于高温环境。
4. 磁性:镍铁合金具有一定的磁性,可用于磁性材料的生产。
二、电镀镍铁合金的基本原理电镀镍铁合金的基本原理是利用电解质溶液中的镍离子和铁离子在电极上还原沉积,形成镍铁合金层。
具体过程如下:1. 电解质溶液:电解质溶液中含有镍离子、铁离子以及适量的辅助添加剂。
2. 电极:电极通常采用不锈钢或钛材料制成。
3. 电解:在电解过程中,电解质溶液中的镍离子和铁离子在电极上还原沉积,形成镍铁合金层。
4. 后处理:电镀完成后,对镍铁合金层进行清洗、烘干、热处理等后处理工艺。
三、电镀镍铁合金工艺流程1. 溶液准备:根据需要电镀的镍铁合金成分,配制电解质溶液。
2. 电极制备:制备不锈钢或钛电极。
3. 电解:将电极放置在电解槽中,通入电流,使电解质溶液中的镍离子和铁离子在电极上还原沉积。
4. 清洗:电镀完成后,将工件取出,用去离子水清洗表面。
5. 烘干:将工件放置在烘箱中,进行烘干处理。
6. 热处理:对烘干后的工件进行热处理,以提高其性能。
四、电镀镍铁合金性能特点1. 耐腐蚀性:电镀镍铁合金具有优良的耐腐蚀性能,适用于多种腐蚀性环境。
2. 耐磨性:电镀镍铁合金具有较高的耐磨性,适用于高速、重载的场合。
3. 耐高温性:电镀镍铁合金具有良好的耐高温性能,适用于高温环境。
4. 磁性:电镀镍铁合金具有一定的磁性,可用于磁性材料的生产。
化学镀Co-Ni-P在超级电容器中的应用
159管理及其他M anagement and other化学镀Co-Ni-P 在超级电容器中的应用颜秉建,魏 超(中国矿业大学徐海学院,江苏 徐州 221000)摘 要:本文采用化学镀Co-Ni-P 的方法制备超级电容器的电极材料,探究Co 和Ni 的最佳比值以达到超级电容器的最佳性能。
实验结果表明:以钴为主加元素,并且在化学镀Co-P 的工艺和配方的基础上得出当Co-Ni 百分比为6%时在所有的Co-Ni 比例当中电极材料的电化学性能最好。
电极材料在1mol/L 的氢氧化钾溶液中,电流密度为1 A/g 时比电容最高为153F/g。
通过蓝电电池测试系统,在电流密度为10A/g 的情况下,经过5000次的循环恒流、充放电之后,电容值下降了12.5%,为最初复合材料电容值的87.5%,电极材料的电化学稳定性也较高。
关键词:超级电容器;化学镀;Ni-Co-P ;性能表征中图分类号:TQ153.2 文献标识码:A 文章编号:11-5004(2020)23-0159-2 收稿日期:2020-12基金项目:江苏高校哲学社会科学研究项目(No.2019SJA2173)和江苏省高校“青蓝工程”资助。
作者简介:颜秉建,男,生于1993年,汉族,吉林长春人,硕士,助教,研究方向:材料科学与工程。
超级电容器是一种新型的电化学能量储存和转换装置。
与传统意义上的电容器相比有着更高的法拉第比电容量和能量密度;与蓄电池相比则具有功率密度高、充放电时间短、循环性好、使用寿命长、便于维护的特点[1]。
所以从某种意义上可以说超级电容器有着传统电容器和电池的双重功能,因而填补了这两个传统技术间的空白。
电极材料是超级电容器的核心组成部分,其物理、化学结构性质对超级电容器的性能起决定性影响[2]。
本文采用化学镀Co-Ni-P 的方法制备超级电容器的电极材料,探究Co 和Ni 的最佳比值。
1 实验1.1 实验方法实验主要过程分三个部分,首先是准备工作,清洗镍网,配制镀液;然后通过化学镀法在镍网上镀上Co-Ni-P ;最后配制电解液并测试材料性能。
磁性薄膜材料
磁性薄膜材料
磁性薄膜材料是一种具有特殊磁性性质的薄膜材料,具有广泛的应用前景。
磁
性薄膜材料可以用于磁存储、传感器、磁头、磁性电子器件等领域,其在信息存储和传感器技术方面的应用尤为突出。
本文将对磁性薄膜材料的特性、制备方法、应用领域等方面进行介绍。
磁性薄膜材料具有优良的磁性能,其主要表现为饱和磁感应强度高、矫顽力大、磁滞回线窄、磁导率高等特点。
这些特性使得磁性薄膜材料在信息存储领域具有重要的应用价值。
在制备磁性薄膜材料时,通常采用溅射、磁控溅射、激光热解、离子束沉积等方法,通过调控材料的成分、结构和工艺参数,可以实现对薄膜磁性能的调控和优化。
磁性薄膜材料在磁存储领域具有广泛的应用。
其在硬盘、磁带、磁卡等磁存储
介质中的应用已经成熟,随着信息技术的不断发展,对磁存储介质性能的要求也在不断提高,磁性薄膜材料的研究和应用将会更加深入。
此外,磁性薄膜材料还在磁传感器、磁头、磁性电子器件等领域发挥着重要作用,其在新型磁性材料、磁性器件和磁性传感器方面的研究也备受关注。
总之,磁性薄膜材料具有重要的应用价值,其在信息存储和传感器技术方面具
有广阔的应用前景。
随着材料科学和信息技术的不断发展,磁性薄膜材料的研究和应用将会更加深入,为信息社会的发展做出更大的贡献。
希望本文对磁性薄膜材料的研究和应用能够有所帮助,推动该领域的进一步发展。
化学镀制备垂直记录Ni—Co—P磁膜的研究
化学镀制备垂直记录Ni—Co—P磁膜的研究
李东林;陈文坉;谢建林
【期刊名称】《南方冶金学院学报》
【年(卷),期】1989(10)2
【摘要】用化学镀的方法,在以铝合金为基材的Ni—P合金上(30×30mm^2)镀N—Co—P磁膜,用振动样品磁强计测定矫顽力Hc及饱和磁矩Ms和剩磁Mr,研究了N、Co相对量的变化与Hc的变化关系,选定原子比为1:1时的N—Co—P镀液,测定了pH值为9.10,9.30和9.70时的Hc,并观察了施加与镀片平行和垂直两个方向的磁场对Hc的影响。
【总页数】7页(P116-122)
【关键词】磁膜;垂直记录;化学镀
【作者】李东林;陈文坉;谢建林
【作者单位】南方冶金学院基础部
【正文语种】中文
【中图分类】TP333.32
【相关文献】
1.化学镀制备垂直记录Ni-Co-P磁膜的研究 [J], 李东林;陈文坉;谢建林
2.磁性多层膜CoFeB/Ni的垂直磁各向异性研究∗ [J], 俱海浪;王洪信;程鹏;李宝河;陈晓白;刘帅;于广华
3.MgO/Pt界面对增强Co/Ni多层膜垂直磁各向异性及热稳定性的研究∗ [J], 俱
海浪;向萍萍;王伟;李宝河
4.化学镀钴基垂直磁记录膜的微观结构研究 [J], 刘志辉;杨程
5.DyFeCo磁光记录膜的制备及其磁光记录特性的厚度效应 [J], 熊锐;李佐宜因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买。
电镀膜评估
电镀膜评估电镀膜是一种通过电解沉积的方法,在金属表面形成一层保护性或装饰性的薄膜。
对于电镀膜的评估主要包括以下几个方面:膜层的外观、厚度、结构和附着力、耐蚀性、硬度和平整度。
首先,膜层的外观是电镀膜评估的一个重要方面。
好的电镀膜应该具有均匀、光滑、无杂质和无明显缺陷的外观。
观察膜层表面是否有裂纹、气泡、穿孔或颗粒等缺陷,以及膜层颜色、光泽度和均匀度是否符合要求。
其次,膜层的厚度也是评估电镀膜性能的重要参数。
测量膜层的厚度可以使用一些常见的手段,如X射线荧光光谱仪、原子力显微镜等。
膜层的厚度直接影响到膜层的保护性能和装饰效果,一般要求膜层的厚度均匀一致。
第三,膜层的结构和附着力也需进行评估。
结构主要指膜层的晶粒大小和分布,以及晶粒之间的结合情况。
附着力是指膜层与基材之间的结合程度,通常使用刮削测试和交叉切割测试来评估。
膜层的结构和附着力直接关系到膜层的耐磨性和耐腐蚀性。
此外,膜层的耐蚀性也是评估电镀膜性能的一个关键指标。
耐蚀性主要通过盐雾试验、湿热试验、腐蚀电流密度测试等来评估。
优质的电镀膜应该能够在较长时间内保持其耐蚀性能,不易出现生锈和脱落。
最后,膜层的硬度和平整度也需要被评估。
硬度是指膜层的抗划伤性能,常用洛氏硬度计进行测试。
平整度则指膜层表面的平坦度和光滑度,可以通过观察和触摸来进行评估。
膜层的硬度和平整度直接影响到膜层的装饰效果和使用寿命。
综上所述,对于电镀膜的评估主要涵盖膜层的外观、厚度、结构和附着力、耐蚀性、硬度和平整度等方面。
通过对这些性能的评估,可以判断电镀膜的质量和适用性,并对其应用领域进行合理选择和优化。
Ni-Co磁性薄膜的电化学沉积及磁性能
Ni-Co磁性薄膜的电化学沉积及磁性能
曹颖;葛洪良;卫国英;余云丹;楼俊尉;孟祥凤
【期刊名称】《电镀与环保》
【年(卷),期】2013(033)005
【摘要】研究了电流密度和温度对电沉积Ni-Co薄膜形貌、晶体结构及磁性能的影响.结果表明:随着电流密度的增加,Ni-Co薄膜的比饱和磁化强度先增大后减小,在200 A/m2时达到最大值;电流密度对薄膜的结晶度和晶粒尺寸均有影响;在较高温度下制备的薄膜表面较粗糙,这是由于温度的升高致使析氢加剧.
【总页数】3页(P28-30)
【作者】曹颖;葛洪良;卫国英;余云丹;楼俊尉;孟祥凤
【作者单位】中国计量学院材料科学与工程学院,浙江杭州310018;中国计量学院材料科学与工程学院,浙江杭州310018;中国计量学院材料科学与工程学院,浙江杭州310018;中国计量学院材料科学与工程学院,浙江杭州310018;中国计量学院材料科学与工程学院,浙江杭州310018;中国计量学院材料科学与工程学院,浙江杭州310018
【正文语种】中文
【中图分类】TQ153
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1.用表面磁光克尔效应实验系统测量铁磁性薄膜的磁滞回线 [J], 刘平安;丁菲;陈希江;陆申龙
2.基于矢量磁光克尔效应测试的外延磁性薄膜磁化翻转与反磁化机制研究 [J], 冯心薇;张慧;薛珂磊;詹清峰
3.影响磁性薄膜微波磁谱测量精度的因素 [J], 江建军;彭显旭;杜刚;张秀成;何华辉
4.SrFe_(12)O_(19)化学镀Ni-Co合金的磁与吸波性能 [J], 何晓勇;李巧玲;刘晓霞
5.电化学沉积方法对聚苯胺涂层抗腐蚀性能及电化学性能的影响 [J], 任延杰;陈荐;何建军;曾潮流
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电沉积法制备Co-Pt合金薄膜的结构及其磁性能
电沉积法制备Co-Pt合金薄膜的结构及其磁性能杨祎n;王峰;刘景军【期刊名称】《北京化工大学学报(自然科学版)》【年(卷),期】2009(036)006【摘要】采用酒石酸铵为络合剂,碱性溶液作为电解液沉积体系,利用电化学共沉积法在铜基底上制备得到了Co-Pt合金薄膜,并对制备得到的合金薄膜进行了不同温度的退火热处理.电化学极化曲线研究表明,酒石酸铵络合剂的加入有效地使两种金属离子沉积电位接近.原子吸收光谱研究表明,合金薄膜中金属成分比率易受电解液中金属离子比率和沉积电流密度的影响.X射线衍射(XRD)研究表明,电沉积制备得到的不同组分Co-Pt合金薄膜均为无序排列面心立方(fcc)结构,经过450℃退火热处理后部分转变为L1_0型超晶格结构.磁性研究表明,经过450℃退火热处理后的合金薄膜具有较好的磁晶各向异性.【总页数】5页(P61-65)【作者】杨祎n;王峰;刘景军【作者单位】北京化工大学,材料科学与工程学院,北京,100029;北京化工大学,材料科学与工程学院,北京,100029;北京化工大学,材料科学与工程学院,北京,100029【正文语种】中文【中图分类】TG1【相关文献】1.电沉积铁镍合金纳米晶薄膜微结构与耐蚀性能 [J], 卢琳;刘天成;李晓刚2.电沉积铁镍纳米合金薄膜的结构和性能研究 [J], 刘天成;卢志超;李德仁;孙克;周少雄;卢燕平3.脉冲电沉积制备的纳米晶钴-镍合金薄膜的摩擦学性能 [J], 苏峰华;刘灿森4.电沉积铁镍合金薄膜及其结构与磁性能的研究 [J], 杨锋;周少雄;朱弢;朱熠;孙永红5.电沉积制备La-Mg-Ni贮氢合金薄膜及其性能的研究 [J], 夏同驰;李晓峰;董会超;梅金富;姬娜娜因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买。
FeCo基纳米晶软磁薄膜材料的制备及性能研究的开题报告
FeCo基纳米晶软磁薄膜材料的制备及性能研究的开题报告题目:FeCo基纳米晶软磁薄膜材料的制备及性能研究一、研究背景和意义软磁材料在电磁设备、信息技术、能源变换等领域中有着广泛的应用。
磁性纳米晶材料由于具有高磁导率和低磁滞损耗等优异的磁性特性,在软磁材料中应用前景十分广阔,因此受到越来越多的研究关注。
FeCo基合金作为一种优秀的软磁材料,其具有良好的磁性能和较高的饱和磁化强度,因此成为了纳米晶软磁薄膜材料制备研究的热点。
同时,磁性纳米晶材料的制备技术也是当前磁性材料领域中的一个重要议题。
因此,本课题旨在通过研究FeCo基纳米晶软磁薄膜材料的制备方法和相关性能,深入探究其应用前景和潜在的技术应用。
二、研究内容和目标1. 研究FeCo基纳米晶软磁薄膜材料的制备方法,包括物理气相沉积、化学气相沉积等。
2. 对制备的FeCo基纳米晶软磁薄膜材料进行结构表征,包括X射线衍射、透射电子显微镜等。
3. 研究FeCo基纳米晶软磁薄膜材料的磁性能,包括饱和磁化强度、磁滞损耗等。
4. 分析制备方法对FeCo基纳米晶软磁薄膜材料的性能影响,并探究其应用前景。
三、研究方法和计划1. 采用物理气相沉积和化学气相沉积的方法制备FeCo基纳米晶软磁薄膜材料。
2. 对制备的FeCo基纳米晶软磁薄膜材料进行结构表征,包括X射线衍射、透射电子显微镜等,分析其晶体结构、形貌等。
3. 采用霍尔效应测试系统、磁滞回线测试系统等磁性测试仪器,测量制备的FeCo基纳米晶软磁薄膜材料的磁性能。
4. 分析制备方法对FeCo基纳米晶软磁薄膜材料的性能影响,并探究其在电磁设备、信息技术、能源变换等领域中的应用前景。
研究计划:第一年:1. 确定研究方法和计划,进行文献阅读和外文文献的调研。
2. 学习物理气相沉积、化学气相沉积等制备方法,进行相关设备的调试。
3. 制备FeCo基纳米晶软磁薄膜材料,并进行初步结构表征。
第二年:1. 对制备的FeCo基纳米晶软磁薄膜材料进行更加详细的结构表征和磁性性能测试。
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度B 是 由三种金 属元 素 的相 对组 成决 定 的 , 随 电流
密度增 加 , 膜层 中 F e和 C o的 含 量 相 对 下 降 , Ni 含
量 相对增 加 , 从 而使 B 略 有增 加 [ 6 ] 。但 电流密 度过 大, 镀层将 被烧 黑或 烧焦 , 而 导致 Hc 值 增加 和 B 降
控制、 沉 积速率 高等 优点 , 特别适 合 在微机 械 和微器 件 的集 成化工 艺 中应 用 _ l 。
研究中, 在 电镀 液添 加十二 烷 基硫 酸 钠 ( Na L S )
采用振 动 样 品 磁 强 计 ( VS M9 5 0 0 ) 测 试 膜 层 的
矫 顽力 H 磁 化 强度 及 磁滞 回线 。 饱 和磁 化强 度
影响 以及镀层 厚度 与磁性 能 的关 系 , 从 而确 定 最佳 电镀工 艺 条 件 , 制备高饱和磁感应 C o Ni F e软磁 薄
膜样 品 。
2 试验 结 果 与 分 析
2 . 1 电镀 工 艺条件 对镀 层 沉积 速率 和 膜 层磁性 能 的影 响 2 . 1 . 1 电流 密 度 。电 流密 度对 沉 积速 率和 膜 层磁
合 金 的异 常共 沉 积 现象 【 1 5 ] 引起 的 , 因为 p H 的改 变
引 起 了薄 膜合 金 组 成 的变 化 , 从 而 引 起 了 磁性 能 的
电流密度 / ( m A. c m )
图1 电流密 度对 沉积 速度 的影 响
Fi g . 1 E f f e c t o f c K r r e I l t d e n s i t y o n f i l m d e p o s i t i n g r a t e
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第5 8卷 笫 1期 2 0 0 6年 2 月
有 色 金 属
No n f e r r o u s Me t a l s
Vo 1 . 5 8.No. 1
Fe b r u a r y 2 0 0 6
镀层 光 亮 、 致密 . 有 较 好 电磁 特 性 , B 达1 . 9 T, 矫 顽 力 H 为1 . 1 5 O e 。 电阻 率 为 4 5 n・ c m。 在l MHz 下 磁 导率 为 6 0 2
关键词 : 金属材料 ; 高B 软磁膜 ; 电沉积 ; 钴 镍铁合 金 中图分类号 : T Q I 5 3 . 2 ; T M2 7 1 . 2 ; T G I 4 6 . 1 文献标识码 : A 文章编号: 1 0 0 1 —0 2 1 1 ( 2 0 0 6 ) 0 1 — 0 0 3 5 — 0 4
先是 减少然 后 增 加 , 而 饱 和 磁化 强 度 B 先 略有
增 加后下 降 。 这 是 因为矫 顽力 与 晶体 的颗粒 尺 寸
相关 , 颗 粒越 小 , 就越小 。随 电流密度 增 加 , 必 然
增 大阴极 极化 过 电位增 加 , 电沉 积 时成 核速度 增加 ,
从 而使沉 积 颗 粒 尺 寸 得 到 控 制 [ 1 4 ] 。而 饱 和 磁 化 强
大、 电 流效 率降 低 , 沉 积速 度 减缓 。
图 4是 p H对膜 层 磁性 能 的 影 响。从 图 4可 以 看 出, 随p H 升高 , 矫顽 力 H 值增 大 , 而饱 和磁 化 强
度 B 先增 大后 下 降 。这 一 方 面可 能是 由于 C o Ni F e
5 1 f ) 1 5
采用 P t 板作 阳极 。 阴 极 移 动 式 进行 搅 拌 , 外 加 磁 场 为1 3 0 ~2 0 0 0e 。电 镀基 片为溅 射 有 T a ( 5 n m) i F e ( 1 0 0 n m) 涂层 的玻 璃 片 , 玻 璃 片 的规 格 是 4 0 am × r
3 0mm × l m m。
图3 p H 对沉积 速度 的影 响
F i g. 3 E f f e c t o f p H o n f i l m d e p o s i t i n g r a t e
p r o p e r t i s e o f a l l o y f i l m
从 图 2可以看 出, 随电 流密度 增 加 , 薄膜 矫 顽力
求, 已研究 了多 种制备 高 B 的薄 膜材 料 的方法 并在
实践 中获 得 了应 用 。 如 电 沉 积 C o Ni F e薄 膜【 J 、 C o F e 基 薄 膜[ ’ 一 , 溅射 F e基 纳 米 晶 薄 膜 [ 一 。 。 , 溅
射F e — N 基 薄膜 _ 1 卜l 2 】 等 。在诸 多 的制 备方 法 中用 电沉 积制 备软磁 薄 膜 材料 有 批 量 生 产 成本 低 、 易于
Fe z
,
基金项 目: 国家 自然科学基金 资助项 目( 5 0 3 4 2 0 1 7 ) ; 北京 市 自然科
学基金( 2 0 4 2 0 1 9 ) 。
Ni 2 更 易 于获得 电子而 还原 成 c o — Ni — F e 合 金
镀层 。同时 电流 密 度增 大 , 阳极 和 阴极 之 间 的 电场
0. 0 0 5 ~ 0. 0 4 5 mo i / L; C O S O4 ‘ 7 H2 O 0. 0 3 ~
0. 0 4 5 mo l 几 ; NH4 C1 0. 2 8 mo l / L; H BO3 0. 4 mo l / L;
合 金膜 的 B 在0 . 9 ~1 . 0 T, 电阻率 l 。 为2 0 ~2 5 n・ c m, 在高 密度磁 记 录中 Ni F e 合金 由于 B 和l 0 较低 ,
1 实 验 方 法
采用 简 单 的金 属硫 酸 盐 配制 电镀 溶 液 , 镀 液 的
收 稿 日期 : 2 0 0 5 — 0 6 — 2 8
性能 的影 响 见 图 1和 图 2 。从 图 1可 以看 出 , 随 电
流密度增大, 镀层沉积速率增加。这是 因为增大电
流密度 , 阴极 上单 位 面 积 积 累 的 电荷 数 增 加 , C o 2 ,
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3 6
一 7 u I E T 1 ) ,
¨ 坦
有 色
嚣s
金 属
第5 8卷
度相 应 提高 。这 是 由于在 酸性镀 液 中 , 过 电位 随 p H
¨
增大 而 升 高 。 当 p H 低 时, 阴 极 过 电位 低 、 析 氢 量
O
2
媾
0
l
0
l
O
l
0
8
6
4
2 . 4
2 . 5
26
2 . 7 p H
2 . 8
2 . 9
3 . ( I
图2 电流 密度对 C o N i F e 合 金 薄膜
磁 性 能的影 响
F i g. 2 Ef f e c t o f c u r r e n t d e n s i t y o n ma g n e t i c
o f C o Ni F e a l l o y f i l m
2 . 1 . 3 温 度 。温 度 是 影 响 电沉 积 Ni F e合 金 的 重 要 参数 之 一 。温 度 低 时 C o2 , F d , Ni 2 的 活性
较低 , 在 阴极 表面 还 原 能 力 较 小 , 沉 积 速 度慢 , 甚 至
作者简介 : 邓福铭( 1 9 6 3 一) , 男. 湖南桂 阳县人 , 副教 授, 博士 , 主要
从事表T 丽 工程 材 料 及 纳 米 材 料 等 方 面 的 研究 。
力增大, 在 电泳 作 用 下 , C o 2 , F e , Ni 向 阴 极 移
动速度 加快 , 从 而加 速 电沉积 。
变化 。另 一方 面 由 于 p H升 高 , 非磁性 物质如金 属氢 氧化物 或金属 氧化 物 等杂 质 共沉 积到镀 层 中的含 量
增加而引起磁性能下降。结果表明, 当渡液的 p H为
2 - 8时 , G 。 N i F e 合金镀 层 的饱 和磁化 强度 且 最大 。
^ l - u . 自j 越
B 由公式 B ( T)=4 7 r M, ( e mL 1 ) / V( a m ) 计算。 用 光
洁度 测试 仪 ( T AL YS UF )测试 膜 层 的厚 度 。 膜 层 的
电阻 率 P和磁 导率 分 别用 四探针 法 和高频 阻抗 测
试 仪测 定 。
和糖精 ( S a c c ) 制备 C o Ni F e 薄膜 样 品 , 系 统 考察 电流 密度 、 p H、 温 度 等 工 艺 条 件 对沉 积 速 度 和磁 性 能 的
低 。 同时由于 电镀 C o , Ni , F e 及 其 合 金 时 总是 伴 随
图4 p H与 C o Ni F e 台 金薄 膜磁 性能 的关 系
F i g . 4 E f f e c t o f p H o n ma g n e t i c p r o p e r t i e s
应用 受 到 限 制_ 3 J 。 为 了 满 足 在 高 密 度 磁 记 录 的 要
Na L S 0 . 0 1 ~0 . 3 g / L; S a c c 0 . 1 ~0 . 6 g / L 。工 艺条 件
为: 温度 2 3 ℃; p H=2 . 8 ; 电流密度 i d: 1 0 mA/ c m 。
摘 要 : 研究 电沉积钴镍铁合金工艺条件 如电流密 度、 p H和温度以及镀层厚度对膜层性 能的影响。用振动样 品磁 强计测试
膜屡 的矫顽力 H 、 ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ化强度 M 及磁滞 回线 , 用高频 电感法测试膜层的磁导率 f , 用 四探针法测 试膜层 的电阻率 p 。结果表明 , 膜 层的电磁性能 与镀覆工艺条件相关 , 在最佳镀覆工艺条件下 ( 电流密度 1 0 mA/ c m 。 p H=2 + 8 . 施镀 温度 2 5 ℃, 时问 1 0 ml n ) 所得合金