论集成电路布图设计保护模式

论集成电路布图设计保护模式探讨

摘要：现今集成电路已是信息产业发展的基础，本文从集成电路布图设计的含义出发，探讨了不同的保护模式的利弊，并分析了trips协议对集成电路布图设计的保护方式。

关键词：集成电路；保护模式

一、集成电路布图设计的含义

集成电路的布图设计，《华盛顿条约》和《与贸易有关的知识产权协议》（trips）将布图设计与拓朴图视为同义，统称为布图设计。据《华盛顿条约》，布图设计是指”集成电路中多个元件，其中至少有一个是有源元件，和其部分或全部集成电路互联的三维配置，或者是指为集成电路的制造而准备的这样的三维配置。”我国的相关立法也采类似的定义。

集成电路芯片的设计一般分为两个步骤。第一步是逻辑设计，根据该集成电路芯片所要执行的功能，利用导线将一些基本逻辑组件连接在一起，最后列出所有逻辑组件的连接网表。第二步是布图设计，根据第一步所提供的网表，根据所选择电路，根据具体的工艺条件，对芯片里所有的逻辑组件及其之间的连线进行几何配置和布局。在设计中，组件的位置和尺寸应满足电路的设计要求和设计规则。互联层次应满足工艺规范，而整个芯片应以尽可能小的面积实现原设计的性能要求。

集成电路布图设计保护，主要保护的是体现集成电路设计原理与技术反映各层材料之间各元件三维配置的图像。无形的布图设计，

通过掩膜板、磁带、磁盘、芯片等载体表现出来，即体现为图像。

二、集成电路布图设计保护模式比较

自1958年第一块集成电路出现以来，集成电路便得到了广泛的应用，产生了独立的技术价值。研制开发新的集成电路，需要耗费大量的人力、物力、财力，而布图设计的可复制性使得其极易被复制。为了保护技术开发者积极性，维护集成电路产业的发展，各国及相关的国际组织都加强了对集成电路布图设计的保护。

集成电路布图设计具有复杂性与非任意性、可复制性与易被复制性、无形性、创造性与实用性。针对这些特点，对集成电路布图设计的保护模式，主要有以下几种思路。

（一）著作权法保护模式

对于集成电路布图设计的著作权法保护，首先要确定的是集成电路布图设计是否符合著作权法规定的受保护的作品的条件。

我国的《著作权法》上构成作品的条件是智力成果具有独创性。独创性是指作品系独立构思而成，源自作者本人的且具有一定创作高度。独创性是作品受法律保护的前提条件。集成电路的布图设计与著作权法保护的作品，均属于无形财产。布图设计是集成电路产品的组成元件及其线路的三维配置方案，固化于掩膜版或芯片时，表现为一系列图形的组合；存储于磁盘中时，表现为一系列的数字编码。在不同的载体上有不同的表现形式，符合著作权法所保护的作品的条件。

但实际上，集成电路布图设计并未采取著作权保护模式，学说上

认为其原因如下：

第一，集成电路布图设计的表现形式有限。集成电路由一系列电子元件及联结这些元件的导线组成，以执行一定电子功能，其使用目的及布图设计的图形构造，还受到参数要求、生产工艺水平、材料特征、物理定律等条件的限制，这些客观限制不允许设计人员进行任意发挥。布图设计仅仅是集成电路制作中的一个环节、一个中间产品，可以说是一种”纯功利主义的实用物”，不符合著作权法关于保护对象的要求。布图设计则是通过元件之间的线路来进行三维配置，其表现形式看似图形设计，实无思想表达方式和艺术性，给予其著作权法上的保护，显然并不合适。即便是对布图设计的设计图纸给予著作权法的保护，但这种保护不延及根据该图纸制造的实用物品。受技术和使用目的所限，能达到”独创性”标准，获得著作权法上的保护的布图设计，仅限于在技术上有一定创新或难度的布图设计。

第二，集成电路布图设计更新换代较快，著作权法上的长保护期不利于集成电路产业整体发展。著作权法上的作品保护期一般为作者有生之年加上死后50年，而集成电路布图设计的发展趋势是不断地提高集成度，节约材料和降低能耗。如采用著作权法的保护模式，则有可能形成垄断，影响技术交流，不利于集成电路产业的发展。而且，在集成电路产业中广泛应用的反向工程，也有可能被认定为侵权，不利于集成电路产业发展。

（二）专利法保护模式

可否对集成电路布图设计进行专利法上的保护，首先要明确的是授予专利条件。

专利的授予条件有多方面的规定，主要的构成要件是新颖性、创造性和实用性，即”三性”标准。

学说上认为不适合采专利法保护的原因如下：

第一，在新颖性方面，大部分集成电路布图设计略显不足。大部分集成电路布图设计一般采用相当数量的通用性的设计，且严守工程设计的基本原理、方法和规范。故而，集成电路的布图设计往往缺乏新颖性。

第二，集成电路布图设计的创造性要求，和专利法上规定的创造性要求存在一定差异。现有的集成电路技术的发展主要表现在光刻线条的不断减小和集成规模的不断提高，这些都是工艺水平不断提高的结果，其布图设计少有根本性的改进，很难达到专利法所要求的创造性的高度。利用专利权法最多可以对集成电路中的特定部分给予保护，而很少可能达到对整个布图设计的专利保护。

第三，专利申请与审批的需要较长的时间，成本较高，而集成电路技术更新换代快，这使得集成电路技术实际上无法在专利法中及时获得保护。

（三）专有权保护模式

通过上述著作权法和专利法对集成电路布图设计进行保护，均存在不足之处，故对集成电路布图设计，各国和相关的国际组织，倾向于选择特别立法，保护集成电路布图设计的专有权。如美国的《半

导体芯片保护法》、日本的《半导体集成电路的线路布局法》，均将布图设计视作单独的民事权利客体来进行保护。我国的《集成电路布图设计保护条例》也采相类似的做法。

集成电路布图设计权的保护，既有著作权法的保护条件和方式，也有专利法的保护条件和方式，是著作权和专得法的交融。集成电路布图设计专有权的保护模式，实质上是以著作权法的受保护条件和程序，给予布图设计以类似专利的保护。此种保护模式，是著作权法和专利法相结合而形成的一个独立的知识产权法保护模式。

三、trips协议对集成电路布图设计的保护

（一）第三十五条：与集成电路知识产权条约的关系

trips协议第三十五条规定了与《华盛顿条约》的关系。trips 协议特别提出了应遵守集成电路知识产权条约中的第12条与第16条3款。集成电路知识产权条约第12条内容是集成电路条约的缔结，不得影响成员国履行《伯尔尼公约》与《巴黎公约》要求履行的义务。第16条3款允许成员国不保护在其加入条约前已经出现的集成电路布图。这与条约著作权与邻接权保护上要求”有追溯力”形成鲜明的对照。这主要因为集成电路布图更新快，要求”追溯力”是没有积极意义。美国在乌拉圭回合谈判中，精力也更集中在其占有优势的计算机软件上，强调对它们必须追溯保护，而并不强调对日本（乃至韩国）占有优势的集成电路保护的追溯力。（二）第三十六条：保护的范围

trips协议第三十六条规定了集成电路布图设计的保护范围：”