集成电路布图设计与著作权法保护方式比较
集成电路布图设计保护客体研究
集成电路布图设计保护客体研究 专利法的保护客体是发明创造，著作权法的保护客体是作品，⽽集成电路布图设计保护法的保护客体则是布图设计。
集成电路芯⽚的设计⼀般分为两个步骤。
第⼀步骤称为逻辑设计，它是根据该集成电路芯⽚所要执⾏的功能，利⽤导线将⼀些基本逻辑元件(如与⾮门、或⾮门、反门、异或门、三态门、全加器、半加器、触发器、寄存器、锁存器、存储单元等)连接在⼀起，最后列出所有逻辑元件的连接⽹表(简称为⽹表)。
第⼆个步骤称为布图设计(也有⼈称之为布局设计，版图设计、掩膜设计等)，它是根据第⼀步的逻辑设计所提供的⽹表，根据所选择电路，根据具体的⼯艺条件，对芯⽚⾥所有的逻辑元件及其之间的连线进⾏⼏何配置和布局。
在设计中，元件的位置和尺⼨应满⾜电路的设计要求和设计规则(主要指极限尺⼨)。
互连层次应满⾜⼯艺规范，⽽整个芯⽚应以尽可能⼩的⾯积实现原设计的性能要求。
布图设计的“产品”是⼀套类似于照像底⽚那样的掩膜。
不过，它要⽐照像底⽚精细得多，⽬前⼯艺可以做到0.4微⽶或更细。
我们所讨论的法律要保护的就是体现于这组掩膜上的布图设计。
⽣产集成电路芯⽚实际上就是将这组掩膜嵌⼊(三维复制)到硅⽚或其他半导体材料中，⽬前集成电路芯⽚的制造主要是⽤硅(半导体)作材料，它是在硅单晶⽚上按光掩膜上的图形利⽤⽣长和沉积等技术⼀层⼀层地做。
因此，⼀个芯⽚上的光掩膜是⼀组⽽不是⼀张，这样⼀组光掩膜就呈现⼀个三维的图形。
版图设计师所要做的就是根据半导体芯⽚制作原理将各个电路在空间的位置作出合理的安排，即把⼆维的电路图变成⼀个三维的图形，这个三维的图形是⽤分层来表⽰的。
将⼆维电路图转换成这样⼀组光掩膜是个很耗费时间的过程，也是开发芯⽚的主要投资。
相对⽽⾔，从芯⽚上将这组光掩膜复制出来就显得容易得多，所需的主要设备就是⼀个精密的⾼放⼤倍数的照相机，例如可放⼤400倍的照相机。
复制者拿来⼀块半导体芯⽚，想法将塑料或陶瓷的外壳打开，⽤照相机把顶上的⾦属联接层照下来之后，⽤酸把这层⾦属溶解掉，这样就可以照下⾯那层的半导体材料的图形，照完了后改变⼀下照相机上的焦距再照更下⼀层。
集成电路布图设计的登记和法律保护
集成电路布图设计的登记和法律保护集成电路布图设计的登记和法律保护所谓的知识产权是智力成果的创造者对其创造成果所享有的专有权。
一般分为两个领域：版权及与版权相关的权利和工业产权。
知识产权保护的对象除了常见的商标、专利等，还包括集成电路布图设计。
知识产权日益受到重视，她是国际图政治、经济、科技、文化交往中一个普遍受关注的问题。
特别是中国加入WTO后，TRIPS（关贸总协定知识产权协议）的达成使国际知识产权保护提高到新水平知识产权的特点有时图性、地域性和独占性。
布图设计是知识产权的组成部分，她的保护是知识产权保护的组成部分。
集成电路是指通过一系列特定的加工工艺，将晶体管、二极管等有源器件和电阻、电容等无源器件，按照一定的电路互连，“集成”在一块半导体单晶片上，并封装在一个外壳内，执行特定电路或系统功能。
集成电路的原料是硅石片，经过人的创新设计和一系列创新的工艺技术加工制造，将人类的智慧与创造固化在硅芯片上，便构成知识创新的载体，成为集成电路芯片。
随着集成电路技术的发展，整机、电路与元器件之图的明确界限被突破，器件问题、电路问题和整机系统问题已经结合在一起，体现在一小块硅片上，这就形成了固体物理、器件工艺与电子学三者交叉的新技术学科——微电子学。
集成电路产业和微电子科技构成信息社会经济发展的基石。
集成电路的优点是集信息处理,存储,传输于一个小小的芯片中、低成本,高效率, 大批量生产，可靠性高, 耗能少。
“布图设计”是指集成电路中多个元件，其中至少有一个是有源元件，和其部分或全部集成电路互连的三维配置，或者是指为集成电路的制造而准备的这样的三维配置。
布图设计具有专有权和著作权，有工业实用性，并且对技术水平有一定要求，而专利法保护的客体是具有新颖性、创造性和实用性的新的技术方案。
美国率先制定国内法对集成电路布图设计予以保护。
其他发达国家如日本、欧洲等纷纷于1985年和1986等争相效仿。
迄今为止，共有50多个国家和地区制定了保护集成电路布图设计的国内法。
论集成电路布图设计知识产权的刑法保护
论集成电路布图设计知识产权的刑法保护作者：赵军来源：《法制博览》2019年第01期摘要：集成电路布图设计（以下简称布图设计）是当今世界最为活跃也最为需要保护的前沿性知识产权，无论是从经济角度还是其他战略角度，都是无可替代的。
我国在保护布图设计的过程中虽然吸纳了国外的优秀立法经验，给予了布图设计行政立法保护，但是忽视了布图设计的刑法保护。
由于布图设计蕴含巨大的经济价值，专利、著作权等又不能提供有效保护，从长远发展战略来看对侵权行为有必要予以入罪设置。
因此，布图设计理应和专利、著作权一样完全有必要给予刑法保护。
关键词：集成电路布图设计;集成电路;刑法保护;知识产权中图分类号：D923.4文献标识码：A文章编号：2095-4379-（2019）02-0040-04Abstract： Layout-designs of integrated circuits（hereinafter referred to as layout-design）is the most active in the world today is also the need to protect the frontier of intellectual property rights，whether from the perspective of economic or other strategic point of view，is irreplaceable in our country in the process of protection of layout-designs while absorbing the excellent foreign legislative experience，given the layout-design administrative legislation protection，but ignored the layout design of the criminal law protection due to the layout design contains the huge economic value，such as patent，copyright and does not provide effective protection，from the long-term development strategy is necessary for the infringement crimes set so，layout design is supposed to and patent Copyright is also necessary to give criminal protectionKey words：Integrated circuit;Protection of criminal law;Integrated circuit layoutdesign;Intellectual property rights一、问题的提出随着AI、物联网等高科技的兴起，我国集成电路①产业也进入了转型升级的黄金期，仅2018年上半年国家知识产权局共收到布图设计申请量1993件，有效布图设计1636件②。
集成电路布图设计专有权的侵权判定
集成电路布图设计专有权的侵权判定集成电路布图设计是现代电子设计中不可或缺的一部分。
它可以实现在一个芯片上集成多个电路功能模块，从而提高电路的效率、可靠性和整体性能。
然而，由于其特殊性，集成电路布图设计也被视为一种知识产权，其专有权保护具有重要意义。
本文将探讨集成电路布图设计专有权的侵权判定问题。
一、集成电路布图设计的专有权1.1 集成电路布图设计的定义集成电路布图设计是指将电路的设计原理图转化为实际的电路版图的过程，包括元器件的布局、线路的连接和制造层次的确定，从而实现电路功能的实现。
1.2 集成电路布图设计的专有权集成电路布图设计依据我国《专利法》的规定，包括专利权和专有权两个方面，其中专有权也称为板块图设计权，属于著作权范畴。
专有权保护的是集成电路布图设计的图形表现，即设计师原创的布图图案。
1.3 集成电路布图设计的专有权保护标准根据我国《著作权法》相关规定，集成电路布图设计必须具备原创性、表达性和创作独立性的特征。
同时，由于集成电路布图设计具有实用性、技术性和创新性的特质，因此其保护标准要求相对较高，必须具有一定的独创性，且满足实际应用需求。
二、集成电路布图设计侵权2.1 集成电路布图设计侵权定义集成电路布图设计侵权是指没有获得设计权人同意，擅自使用、复制、出版、转载、展示、发行集成电路布图设计的行为。
2.2 集成电路布图设计侵权形式集成电路布图设计侵权形式多种多样，主要包括以下几种：（1）盗用他人的集成电路布图设计；（2）擅自修改、复制、利用他人的集成电路布图设计；（3）未获得专有权人的授权，利用和复制其设计；（4）贩卖、出售盗版集成电路布图设计；（5）抄袭他人的集成电路布图设计等。
2.3 集成电路布图设计侵权的法律责任针对集成电路布图设计专有权侵权行为，我国法律规定了针对性的法律法规。
依据相关法律规定，集成电路布图设计专有权的侵权行为需要承担民事、行政和刑事责任，具体如下：（1）民事责任对于侵犯他人集成电路布图设计专有权的行为，受害人可以依据《著作权法》相关法律规定，向法院提起民事诉讼，要求停止侵权、撤销侵权行为、赔偿损失等。
集成电路布图设计法律保护模式比较
要】 集成电路是信 息产业发展 的重要基础 ， 对集成电路进行知识 产权保 护已经成为各 国共识 。集成 电路布 图设计凝 集成集成电路开
发者的创造性 智力劳动， 对其进行有 效的保护 ， 可以实现 对集成 电路 的保护 。本 文从 集成 电路布 图设计的特性分析 ， 探讨对其进行 著作 权法保 护、 专利 法保护 、 专有权利保 护等模 式的优 劣。
２１ ０ １年
第２ ５期
Ｓ Ｉ Ｎ Ｅ＆Ｔ Ｃ Ｎ Ｏ ＣＥ Ｃ Ｅ Ｈ ＯＬ ＧＹＩ Ｆ信息
集成 电路布 图设计法律保护模式比较
任 啸雷 李 杰俊 （ 波市 江东 区人 民检 察 院 浙 江 宁 波 宁
【 摘
３ ４ ） １０ ２ ５
【 关键 词】 集成电路 ； 布图设 计； 护模 式 保
护． 但这种保护不延及根据该图纸制造的实用物品 受技 术和使 用 目 的所 限． 能达到“ 独创性” 标准 ． 获得著作权法上 的保护 的布 图设 计 ． 仅 集成电路是微 电子技 术的核心． 信息产 业发展 的重要 基础 。 集 是 《 限于在技术上有一定创新或难度的布图设计 成电路知识产权条 约》 又称 《 （ 华盛顿条 约》 认为 ， 成电路 的布 图设 ） 集 第二． 集成 电路 布图设计更新 换代较快 ． 著作 权法上 的长保 护期 计是指“ 集成电路中多个元件 ． 其中至少有一个是有源元件 ． 和其部分 不利 于集成 电路产业整体发展 著作权法上的作品保护期 一般 为作者 或全部集成电路互联的三维配置 ． 或者是指为集成 电路 的制造 而准备 有生之年加上死后 ５ Ｏ年 ．而集成 电路布 图设计 的发展趋 势是不断地 的这样的三维配置 ”哦 国的相关立法也采类 似的定 义 ｉ 提 高集成度 ， 节约材料和降低能耗 。 如采用著作权法 的保护模式 ． 则有 集成电路是根据要实现的功能和规格而设计的 ． 图设计 的重要 布 可能形成垄 断， 影响技术交流 ， 不利于集成 电路产业 的发展。而且 ， 在 不在于它的艺术性 ， 而在于它与集成 电路规格 的对应 性和功能性。 布 目 集成 电路 产业 中广泛应 用的反 向工程 ． 也有可能被认 定为侵权 ． 不利 图设 计是凝 集着集成电路开发者的创造性智力劳动 ． 过对布图设计 通 于集 成电路产业发展 的保 护 ． 可以有 效的实现对集成电路 的保护。 第三 ． 图设计 的作用与著作权法所保护 的作 品明显 不同 著作 布 集成电路布图设计保护 ． 主要保护的是体现集成 电路设计 原理与 权法 所保护 的作 品的作用 主要是供人欣赏 ． 而布 图设计及 含布图设计 技术反映各 层材料之间各元件三维配置的图像 呒 形的布图设计 ． 口 通 的集成 电路是为 了执行 电子 电路的功能 电子产 品 在 功能性 上 ． 布图 过掩膜板 、 磁带 、 磁盘 、 芯片等载体表现出来 ， 即体现为图像。 设计 与著作权法 中的图形作 品存在本质上的不同 ２２ 专利法保护模式 ． ２ 集 成 电 路布 图设 计 保 护模 式 比较 可否对集成 电路布 图设计进行专利法上 的保护 ． 首先 要明确的是 自 １５ ９ ８年第一块 集成电路出现以来 ．集成 电路便得 到了广泛的 授予专利条件 。 应用 ． 推动了现代计算机技术发展 ． 改造 了传统 电子产业 和机械产业 。 专利 的授予条件有多方面的规定 ．主要 的构成要 件是新 颖性 、 创 随着技术 的成熟 ． 集成 电路 的布图设计 与工艺技术 相分离 ， 生了独 造 性 和实 用 性 ． 三性 ” 准 产 即“ 标 立的技术价值 ， 成为投资者猎取的对象。 了保护技术开发者积极性 ， 为 新颖性 ． 是指在 申请 日以前没有 同样 的发 明或者实用新 型在国 内 维护集成电路产业的发展 ． 国及相关的 国际组织都加强 了对集成电 外 出版物上公开发表过 、 国内公开使用过或者 以其他方 式为公众所 各 在 路布图设计的保护 集成电路布图设计具有复杂性与非 任意性 、 可复 知 ． 也没有 同样 的发 明或者实用新型 由他人 向专利 局提 出申请 并记载 制性与易被复制性 、 无形性 、 创造性与实用性。 针 对这些特点 ， Ｈ 对集成 在 申请 日以后公布 的专利 申请文件 中 创造性是指专利应具有 的突 出 电路布图设计的保护模式 ． 主要有以下几种思路 实质性特点 和显著进步 实用性 ． 是指该发 明或者 实用新 型能够制造 ２１ 著作权法保护模式 ． 或者 使用 ． 能够产生积极效果 并且 对于集成电路布图设计的著作权法保护 ． 首先要确定 的是集成电 学说 上认为对集 成电路 的布 图设 计不适合 采专 利法保护 的原 因 路布图设计是否符合著作权法规定的受保护的作品的条件 。 如下 ： 作品的条件 ． 可分为形式条件和实质条件 形式条件 是指著作权 第 一 ． 新 颖 性 方 面 ． 部 分 集 成 电路 布 图 没计 略 显 不 足 大 部 分 在 大 法所规定的作品的种类 。我国的《 著作权法》 ３ 第 条规 定 ： 本法所称 的 集 成电路 布图设计都是对 已知 电路 的重新设计 。 计时遵守工程设计 设 作品 ， 包括 以下 列形式创作 的文学 、 术和 自然科学 、 艺 社会科 学 、 工程 的基 本原理 、 方法和规范 ， 采用相 当数量 的通用性 的常规设 计。故而 ， 技术等作品 其 中第 ７项规定了工程设计 图 、 品设计 图等图形作 品 集成 电路 的布图设计往往 缺乏专利授权必须的新颖性 产 和模型作品 实质条件是指独创性 和可复制性 著作权法所称 的作 品， 第二 ． 集成 电路 布图设计 的创 造性要求 ． 和专利法 上规定的创造 须同时满足法律规定的形式要件和实质要件 性要求存在一定差 异 现有 的集成 电路技术 的发展主要表现在光刻线 独创性 是指作 品系独 立构思而成 ． 属于作者 自己 的创作 ， 完全不 条的不断减 小和集 成规模 的不断提高 ． 这些都是 １ 艺水平不断提高 的 二 是或基本不是从另一作品抄袭而来的 品反映作者的思想感情或对 结果 ． 作 其布图设计 少有根本性 的改进 ， 很难达 到专利法所 要求 的创造 客观世界的认识 ， 其独创性是法律保护作 品表达方 式的客观依据与前 性 的高度 利用 专利权法最 多可以对集成 电路 中 的特定 部分给予保 提条件 ． 也是作品受保护的实质条件 可复制性是指作 品能以有形形 护 ． 而很 少可能达到对 整个布 图设计 的专利保护 式复制 ． 但可复制性实质上应指作品的一个属性 而非作 品受保护 的形 第三 ． 利申请 与审批 的需要较长 的时 间 ， 专 成本 较高 ， 而集成 电路 式要件。 ｊ 技 术更新换代快 ． 术的生命周期 非常短 ． 技 这使 得集成 电路技 术实际 集成 电路的布 图设计与著作权法保护 的作 品 ，均属于无形财产 。 上 无 法 在 专 利法 中 及 时 获 得保 护 布图设计是集成电路产品的组成元件及其线路 的三维 配置方案 ， 固化 ２３ 专有权保护模式 ． 于掩膜版或芯片时 ， 表现为一系列 图形的组合 ； 存储 于磁盘 中时 ， 表现 通过上述著作权法 和专利法对集成 电路 布图设计进行保护 ， 均存 为一系列的数字编码 。在不同的载体上有不 同的表 现形式 ， 符合著作 在不足之处 ． 故对集 成电路 布图设计 ， 国和相关的国际组织 ． 向于 各 倾 权法所保护 的作 品的条件 选择特别立法 ． 保护集成电路 布图设计 的专有权 。 如美 国的《 导体 芯 半 各 国的立法对集成 电路布 图设计并未采取 著作 权保护模式 ， 学说 片保护法》 日本的《 、 半导体 集成电路的线 路布局法》 均将布 图设计视 ， 上认为其原 因如下 ： 作单独的民事权利客体来 进行 保护。我国的《 集成电路布图设计保 护 第一 ． 电路布 图设计 的表现形式有 限。布图设计仅仅是集成 条例》 集成 也采相类似的做法。 电路制作 中的一个环节 、 一个 中间产 品， 可以说是一种 “ 功利 主义的 纯 集成电路布图设计权的保护 ．既有著作 权法的保护条件和 方式 ， 实用物” 不符合著作权法关于保护对 象的要求 。ｍ ． 著作权 法保 护的是 也有专 利法的保护条件和方式 ， 是著作 权和专得法的交融 。㈣集成 电 作者的思想表现形 式 ， 以由语言 、 可 文字 、 图形 、 号或其他组 合等多 路布 图设计专有权 的保护模式 ， 符 实质上是 以著作权法 的受保 护条件和 种形式来加 以表现 即便是对布 图设计 的设计 图纸给予著作权法的保 程 序 ． 给予布 图设计 以类似专利 的保护 。此种保护模 （ 下转第 ３ ５页） ９
知识产权分类最全整理篇
知识产权分类最全整理篇知识产权是指人们在创造知识、技术等方面所享有的权益，它是推动社会创新和经济发展的重要保护手段。
知识产权的分类非常多样化，根据不同的创造对象和保护方式，可以将知识产权分为著作权、专利权、商标权、商业秘密以及集成电路布图设计权等多个类别。
1. 著作权著作权是对以文学、艺术、科学等方式表达的独创作品的法律保护。
它是指对作品的原创性和独立性给予作者的专有权益，包括文学作品、音乐作品、美术作品、戏剧作品、建筑设计等。
著作权保护的对象是作品本身，而非作品背后的概念或观点。
2. 专利权专利权是对发明的一种法律保护，它是指对发明者的创造成果进行独占性的权益。
专利权可以包括发明、实用新型和外观设计等多个领域。
发明是指对于产品或者方法的新的技术方案，实用新型是指对于产品的形状、结构或者其组合的新的技术方案，外观设计是指产品的形状、图案和色彩等的新的设计方案。
3. 商标权商标权是对商品或服务的标识使用权的法律保护。
商标是用于区别本企业产品或服务与他人的产品或服务的标志，如文字、图形、标识、颜色等。
商标权的核心是保护商标的独占使用权，防止他人在相同或相似商品或服务上使用相同或相似的标志。
4. 商业秘密商业秘密是指由企业所有或所掌握的，能够为企业带来经济利益并且具有保密性的信息。
商业秘密的范围很广，包括技术秘密、经营秘密和客户秘密等。
对商业秘密的保护主要通过协议、保密措施等手段来实现。
5. 集成电路布图设计权集成电路布图设计权是对集成电路布图设计的法律保护。
集成电路布图设计是指将半导体产品中的芯片、电路和组件等元件进行布局、连接和设计的过程。
它对于半导体芯片的制造具有重要意义。
除了以上几种主要分类的知识产权外，还有其他一些重要的知识产权形式，如植物新品种权、地理标志保护、软件著作权和域名等。
6. 植物新品种权植物新品种权是对新培育的植物品种的法律保护。
它是用于保护由人工培育、授粉或其他手段繁殖得到的新的植物品种。
自考《知识产权法》复习资料第二十四章
自考《知识产权法》复习资料第二十四章第二十四章：集成电路布图设计权（选、简）一、概念：集成电路是一种综合性技术成果，它包括布图设计和工艺技术。
集成电路：指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或全部互连线路集成在基片之中或基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或最终产品。
集成电路布图设计：是附着于各种载体上的电子元件和连接这些元件的连线的有关布局设计。
（我国的保护：必须具有原创性，才能受到法律保护）。
二、立法保护（专利法、著作权法不能给集成电路不图设计有效的保护）：（一）集成电路布图设计实质上是一种图形设计，但并非是工业品外观设计，不适用专利法保护，理由：1、布图设计并不取决于集成电路的外观，而决定于集成电路中具有电子功能的每一元件的实际位置。
2、布图设计景观需要专家的大量劳动，但设计方案不会有多大的改变，其设计的主旨在于提高集成度，节约材料、降低能耗，因此不具备创造性的专门要求。
3、集成电路技术发展迅速，产品更新换代很快，其布图设计不适宜采用耗费时间较多的专利审批程序。
（二）集成电路布图设计是一种三维配置形态的图形设计，但不属于著作权法意义上的图形作品或造型艺术作品，理由：1、布图设计由电子元件及其连线所组成，执行某种电子功能，不表现任何思想。
2、布图设计是多个元件合理分布并相互关联的三维配置，是一种电子产品，不以其"艺术性"作为法律保护条件3、著作权保护期长，如果将布图设计作为一般作品保护，不利于集成电路产业的发展。
（三）各国大抵采取单行立法，确认布图设计专有权，即给予其他知识产权的保护。
美国最先进行立法保护。
世界知识产权组织在华盛顿召开的专门会议上通过《关于集成电路的知识产权条约》。
我国《集成电路布图设计保护条例》。
三、集成电路布图设计专有权：是一项独立的知识产权，是权利持有人对其布图设计进行复制和商业利用的专有权利。
（一）专有权的取得：1、主体资格：中国自然人、法人或其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权；外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权；外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。
我眼中的知识产权概念
我眼中的知识产权概念知识产权是指人们就其智力劳动成果所依法享有的专有权利。
它是一种无形的财产权，是人们通过创造性智力活动所取得的成果。
在现代社会，知识产权的重要性日益凸显，它不仅是保护创新和创意的重要工具，也是促进经济发展和社会进步的重要因素。
以下是我对知识产权概念的理解和认识，主要包含专利权、商标权、著作权、版权、集成电路布图设计权、商业秘密权、植物新品种权和反不正当竞争权等方面。
1.专利权专利权是指发明人或申请人就其发明成果向专利局申请专利，经审查合格后获得授权的专有权利。
它包括发明专利、实用新型专利和外观设计专利三种类型。
专利权具有独占性、地域性和时间性的特点，它赋予权利人在一定期限内的排他权，保护其发明成果不被他人侵权。
2.商标权商标权是指商标注册人就其注册商标享有的专有权利。
商标是区分商品或服务来源的重要标志，商标注册人享有商标专用权，即在同类商品或服务上禁止他人使用相同或近似的商标。
商标权的有效期为10年，可续展。
商标注册人可以通过许可、转让等方式行使商标权，获取经济利益。
3.著作权著作权又称版权，是指作者对其创作的文学、艺术和科学作品享有的专有权利。
著作权包括著作人身权和著作财产权两个方面。
著作人身权包括发表权、署名权、修改权和保护作品完整权；著作财产权包括复制权、发行权、表演权、出租权和信息网络传播权等。
著作权自作品创作完成时自动产生，无需申请登记。
4.版权版权是指文学、艺术和科学作品的作者及其相关主体依法对作品所享有的人身权利和财产权利。
版权与著作权含义类似，但它在某些情况下涵盖了更广泛的内容，例如翻译权、改编权等。
版权是一种法律保护机制，旨在鼓励人们创作、传播和保护文化成果。
5.集成电路布图设计权集成电路布图设计权是指集成电路布图设计者就其布图设计享有的专有权利。
这种权利保护的是集成电路的物理结构及其电子功能的设计方案。
布图设计者可以通过登记或销售等方式行使权利，获得经济利益。
论集成电路布图设计的法律保护
促进国际合作与协 调
加强对发展中国家 和地区的支持与援 助
推动技术进步和创 新发展
我国法律制度的完善方向
强化侵权行为的法律责任， 加大对侵权行为的打击力度。
建立更加完善的法律保护体 系，加强国际合作与交流。
完善集成电路布图设人的保护，提高权利人的维权
建立集成电路布图设计权利人合法 权益保障机制，提供法律援助和司 法救济途径。
完善行政保护的建议
制定专门的集成电路布图设计保护法规，明确保护标准和要求。 建立专门的集成电路布图设计行政审批和登记制度，确保权利的合法性和有效性。 加强行政执法力度，严厉打击侵犯集成电路布图设计知识产权的行为。 建立集成电路布图设计知识产权快速维权机制，为权利人提供更加便捷和高效的维权途径。
集成电路布图设计的法律 保护
目录
单击此处添加文本 集成电路布图设计概述 集成电路布图设计的国际法律保护 我国集成电路布图设计的法律保护现状
完善我国集成电路布图设计法律保护的建议
集成电路布图设计法律保护的未来展望
集成电路布图设计的定义
添加标题
集成电路布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路 的三维配置，或者为制造集成电路而准备的这样的三维配置。
《华盛顿公约》的保护
保护范围：涵盖集成电路布图设计的国际法律保护 成员国：要求成员国对来自其他成员国的集成电路布图设计提供法律保护 权利要求：承认集成电路布图设计为智力成果，并给予权利要求保护 保护期限：规定了对集成电路布图设计的最低保护期限
《欧共体条约》的保护
保护范围：包括集 成电路的布图设计 及其功能描述
添加标题
集成电路布图设计是对集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路 的三维配置，以及其中元件之间相互连接关系的设计。
其他知识产权之集成电路布图设计权
• 以上图表可以看出，布图设计专有权与著 作权相比更具有工业实用性，这是一般著 作权作品不具有的；同时其独创性又是一 般专利产品不具有的，而且又允许反向工 程，具有其自身特征。从保护期限看，也 仅有10 年，且创作完成15 年后将不受保护， 符合其技术更新较快的特点。特别值得指 出的是，条例允许“平行进口”。
集成电路布图设计权
• 集成电路布图设计权 • 集成电路布图设计权是一项独立的知识产 权，是权利持有人对其布图设计进行复制 和商业利用的专有权利。布图设计权的主 体是指依法能够取得布图设计专有权的人， 通常称为专有权人或权有以 下三种：登记制；有限的使用取得与 登记制相结合的方式；自然取得制。 关于布图设计权的保护期，各国法律 一般都规定为10年。
•
根据条例第24 条规定，“受保护的 布图设计… ，由布图设计权利人或者 经其许可投放市场后，他人再次商业 利用的，可以不经布图设计权利人许 可，并不向其支付报酬。”而按照条 例第2 条规定，商业利用是指“为商业 目的进口、销售或者以其他方式提供 受保护的布图设计… 的行为”。从而， 按照条例的规定，只要布图设计合法 投放市场后，权利在全世界用尽，可 以不经再次许可而进口、销售等。
•
集成电路布图设计专有权与著作权、发 明专利权保护的异同比较 • 集成电路布图设计专有权既不同于版 权，又不同于专利或商标，但其保护制度 既具有部分版权保护的特征，又具有部分 工业产权，特别是专利权保护的特征。这 一点从以下的图表中可以较清晰地表明：
• 电路布图设计权舆著作权及专利权对比
• 根据《关于集成电路的知识产权条约》的 要求，布图设计权的保护期至少为8年。 《知识产权协议》所规定的保护期则为10 年。我国《集成电路布图设计保护条例》 第十二条规定，布图设计专有权的保护期 为10年，自布图设计登记申请之日或者在 世界任何地方首次投入商业利用之日起计 算，以较前日期为准。但是，无论是否登 记或者投入商业利用，布图设计自创作完 成之日起15年后，不再受该条例保护。
集成电路布图设计确权和侵权的司法鉴定
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内容提要ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
• 集成电路布图设计定义 • 集成电路布图设计保护的法律要件 • 集成电路布图设计的独创性研究 • 集成电路布图设计的独创性判断 • 布图设计侵权取证方法
2
一、集成电路布图设计定义
• • • 集成电路定义 芯片和管芯 集成电路布图设计定义
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集成电路定义
– 这是著作权的中的理论，同样适合于集成电路电路； – 如果对唯一或非常有限的表达进行保护，就相当于对思想进行了 保护。
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布图设计保护的法律要件分析
• 受法律保护的布图设计必须具备法定的程序要件和实质要 件
– 受保护的布图设计的实质要件是独创性； – 各个国家对独创性的规定均包含两个原则：
• 该布图设计是创作者自己的劳动成果； • 该布图设计不是公认的常规设计，受保护的由常规设计组成的布图设 计，其组合作为整体也应当不是常规的。
– – – – 化学分析法（湿法） 等离子体刻蚀法（干法） 化学机械研磨法（CMP） 辅助性离子刻蚀法（AIE）
45nm Intel Z5 Poly
90nm Intel PIV Poly
65nm DDR3
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芯片染色
• 阱染色（Well Stain）
– Single well/Twin well
• ROM码点染色
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布图设计独创性的判断方法
• 独立创作性判断方法
– 可采取“接触”举证方法； – 也可采用“技术证据证明接触”同“被告非接触申诉”相结合方 法。
• 创造性的判断方法— 逐步瘦身法
– 去除布图设计中不受保护的“设计思想”部分； – 去除布图设计中不受保护的“常规设计部分”； – 去除布图设计中不受保护的“唯一或有限表达部分”；
集成电路布图设计侵权判定方法（深圳邱戈龙律师）
集成电路布图设计侵权判定方法（深圳邱戈龙律师）邱戈龙律师认为，关于集成电路布图设计侵权的判定方法，可以参考著作权法对作品保护的判定原则。
由于集成电路布图设计表现形式近似于著作权对产品设计图的规定，《条例》也规定对布图设计的保护不及于设计原理，主要保护的是布图设计的表现形式。
因此，它与专利对产品设计的结构及连接方式需要考虑设计原理不同，更接近于作品的表现形式。
故应以著作权对作品的剽窃原则(“接触”+“实质性相似”)进行判断。
在判定双方芯片是否实质相同时，考虑到毕竟世界上两个布图设计完全相同的概率微乎其微，因此在比对时应当首先确定权利人布图设计的独创性部分，其次考虑被告是否有实际接触或者接触布图设计的可能。
在对比独创部分的一致性比例(又称“近似度”)这一问题上，建议结合鉴定报告书并参考计算机软件侵权判定的对比原则来具体认定。
一、集成电路布图设计独创性判断标准我国《条例》对集成电路布图设计独创性有专门规定，受保护的布图设计应当具有独创性，即布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。
由此可知，集成电路布图设计的独创性要求包含两个内涵，一是布图设计应当是设计者自己创造：一是布图应为该领域的非常规设计。
对于非常规设计的判断属技术层面的经验性问题，一般很难列出详细的判断原则和方法。
但可以确定的是，这种非常规的要件即创造性的要求并不追求专利法中的非显而易见的发明跨度，而只要求比常规设计一定进步的差异性。
因此，掌握集成电路布图设计是否为独立创作和是否具有创造性的判断方法，就可以应对审查和司法审判中的问题。
关于独立创作的判断，理论界多数主张采用著作权法中的“接触”和“实质相似”的判断方法。
也就是说，判断集成电路布图设计为独立创作的前提必须是原告提出有接触的证据存在，或者至少证明存在接触的可能性，只有在对接触进行认定之后，才应当进行实质相似的判断。
集成电路布图设计与著作权法保护方式比较
集成电路布图设计与著作权法保护方式比较集成电路布图设计是一种高科技的结晶，其中凝结了开发者大量创造性的脑力劳动，是智力成果的一种重要形式。
由于知识产权是人们基于自己的智力活动创造的成果和经营管理活动中的经验、知识的结晶而依法享有的民事权利。
因此，最初人们很自然地试图在各种已有的知识产权法律当中寻找合适的一种为集成电路布图设计提供保护。
著作权保护，集成电路布图设计的结果是一种图形，人们自然也寄望于著作权能予以保护。
集成电路诞生在美国，可美国法院却在长时间内找不到保护集成电路布图设计的法律。
1979年，美国伊利诺斯州北区联邦法院及第七巡回法院在处理一个仿制集成电路布图设计的诉讼案时，就感到本来应当在著作权法中找到判决的依据，而实际上却没有找到。
对集成电路布图设计提供著作权保护的构想进行深入思考后，人们发现：(1)著作权保护客体的限制。
著作权保护作品的表现形式，不保护作品的思想。
作品是由语言、文字、图形或符号构成的，表现一种思想的智力成果。
集成电路布图设计，既不是由语言文字，也不是由任何图形符号构成的，而是由一系列电子元件及连接这些元件的导线构成的立体布局。
不论对各国立法及有关版权条约中的作品做出多么广泛的解释，均无法将集成电路的这种立体布图设计包括在内。
（2）著作权保护内容的限制。
将版权法中的作品扩及集成电路布图设计，著作权法仍然无法提供充分有效的保护。
著作权法对作品提供保护的最重要的方式之一，就是禁止他人未经著作权人同意非法复制作品。
但是许多国家著作权法规定，对立体作品的非接触复制，不被著作权法禁止。
对集成电路布图设计的复制，恰恰就是这种对立体作品的非接触复制，因而在许多国家不被著作权法禁止。
德国学者认为，工程设计、产品设计图一类的作品，著作权只保护到图纸的复制这一层，不禁止按照图纸施工，甚至将实施图纸后的客体再重新绘成图纸，只要是独立绘制而不是抄袭原图纸，都不违反法律规定。
如果实施图纸后的产品属于著作权法保护的作品，例如建筑艺术作品，这种实施行为则是著作权法所指的复制行为，须经著作权人的许可。
电路示意图版权怎么保护
电路⽰意图版权怎么保护电路⽰意图也是需要设计、打造，在⽬前也有很多的设计师设计画出了⾃⼰的电路⽰意图。
在设计了电路⽰意图之后它就同时有版权了，为了避免⾃⼰作品的电路⽰意图版权被侵犯很多⼈希望能登记注册保护它。
店铺⼩编给出下⾯意见。
⼀、电路⽰意图版权怎么保护在数字作品流传和交流过程中，经常出现版权所属不清的现象。
⽐如数码图⽚存在复制容易、原件与备份很难识别的特点。
在这种情况下，⼀张数码图⽚发到⽹上被⼴泛转载后，如果产⽣版权纠纷，很难判断到底谁是图⽚的原作者，甚⾄图⽚被恶意更改后，很难确定原图⽚到底是什么样。
如今，随着⾼科技的发展和互联⽹的普及，数字化作品因权属侵害⽽引发的纠纷已呈愈演愈烈之势。
如何保护这些以数字形式存在的作品著作权，已成为⼈们的共同⼼声!根据《中华⼈民共和国著作权法》规定："中国公民、法⼈或者⾮法⼈单位的作品，不论是否发表，依照本法享有著作权"。
从这⼀规定可以看出：作品产⽣即拥有著作权，只要是作品(不论是传统印刷品，还是数字化⽅式)，就⼀定会受到著作权法的保护。
我国实⾏的是著作权保护制度，作品只要完成作者就享有当然的著作权。
因此，作者要在将来可能发⽣的侵权纠纷中保护⾃⼰，最好的就是保留⾃⼰是原始和唯⼀作者的证据。
⾯对数字作品容易被⽆痕篡改，证据效⼒低且举证困难的问题⼴⼤著作权⼈⼜该怎么办为了解决数字时代的版权保护问题，在国内著名法官、学者和版权保护专家的指导下，由国家授时中⼼和联合信任共同建设的时间戳服务中⼼推出了时间戳版权保护服务，为著作权⼈提供了⼀种⽅便、快捷、有效的版权保护⽅法。
⼆、法律规定根据国家版权局《作品⾃愿登记试⾏办法》的有关规定，凡作者、其他享有著作权的公民、法⼈或者⾮法⼈单位和专有权的所有⼈及其代理⼈，均可申请作品登记。
申请步骤为准备材料(申请表、作品打印稿或电⼦稿、创作意图说明等)、提交中国版权保护中⼼受理(也可以委托代理公司)、审查通过发放证书。
著作权、专利权、布图设计专有权的比较
专利权（发明专利）
布图设计专有权
受保护的条件
独创性；可复制性；（软件+可感知性）
新颖性；实用性；创造性
独创性；非一般性
权利的产生
自动
非自动（须经实质性审查）
非自动（须登记）
保护期限
作者终生加死后50年
发明20年，实用新型10年，从申请日算起
10年，从登记或者投入商业利用之日算起，但自创作之日起不得超过15年
权利的内容
发表权、署名权、修改权、保护作品完整权、使用权
独占实施权
（产品：为生产经营目的制造、使用、销售、许诺销售、进口；方法略）
复制权；
商业利用权（进口、销售、其他方式）只要能证明其行为合法或者复非法制件有合法来源，免除承担责任
无过错但能够指明合法来源的，侵权仍成立，但不承担赔偿责任
不知情者，不视为侵权；知情后可完成商业利用；须支付许可费
非商业利用
合理使用可豁免责任
不在专利权的范围内
合理使用可豁免责任
强制性许可
无（但有法定许可）
有3种
有1种
著作权、专利权、布图设计专有权的比较
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集成电路布图设计与著作权法保护方式比较集成电路布图设计是一种高科技的结晶，其中凝结了开发者大量创造性的脑力劳动，是智力成果的一种重要形式。
由于知识产权是人们基于自己的智力活动创造的成果和经营管理活动中的经验、知识的结晶而依法享有的民事权利。
因此，最初人们很自然地试图在各种已有的知识产权法律当中寻找合适的一种为集成电路布图设计提供保护。
著作权保护，集成电路布图设计的结果是一种图形，人们自然也寄望于著作权能予以保护。
集成电路诞生在美国，可美国法院却在长时间内找不到保护集成电路布图设计的法律。
1979年，美国伊利诺斯州北区联邦法院及第七巡回法院在处理一个仿制集成电路布图设计的诉讼案时，就感到本来应当在著作权法中找到判决的依据，而实际上却没有找到。
对集成电路布图设计提供著作权保护的构想进行深入思考后，人们发现：
(1)著作权保护客体的限制。
著作权保护作品的表现形式，不保护作品的思想。
作品是由语言、文字、图形或符号构成的，表现一种思想的智力成果。
集成电路布图设计，既不是由语言文字，也不是由任何图形符号构成的，而是由一系列电子元件及连接这些元件的导线构成的立体布局。
不论对各国立法及有关版权条约中的作品做出多么广泛的解释，均无法将集成电路的这种立体布图设计包括在内。
（2）著作权保护内容的限制。
将版权法中的作品扩及集成电路布图设计，著作权法仍然无法提供充分有效的保护。
著作权法对作品
提供保护的最重要的方式之一，就是禁止他人未经著作权人同意非法复制作品。
但是许多国家著作权法规定，对立体作品的非接触复制，不被著作权法禁止。
对集成电路布图设计的复制，恰恰就是这种对立体作品的非接触复制，因而在许多国家不被著作权法禁止。
德国学者认为，工程设计、产品设计图一类的作品，著作权只保护到图纸的复制这一层，不禁止按照图纸施工，甚至将实施图纸后的客体再重新绘成图纸，只要是独立绘制而不是抄袭原图纸，都不违反法律规定。
如果实施图纸后的产品属于著作权法保护的作品，例如建筑艺术作品，这种实施行为则是著作权法所指的复制行为，须经著作权人的许可。
如果实施图纸后得到的客体是著作权保护的文学、艺术和科学作品，这种实施行为就属于著作权法所称的复制；如果得到的客体不是著作权保护的文学、艺术和科学作品，而是工业产品，则这种实施行为不在著作权法禁止之列。
⑧著作权保护的前提过低。
著作权保护的前提是“独创性”和“可固定性”，大陆法系对于“独创性”中“创造性”的要求比英美法系高。
按照大陆法系关于“独创性”的标准来衡量，依然远较专利法的“先进性”标准为低，实践中布图设计均具有一定的“独创性”而无“先进性”，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，但却只是在布图设计创作者和集成电路制造者中公认的“常规设计”，类似于专利法中所称的“公知技术”，应处于人们自由使用的领域。
可是按照著作权保护的要求，这类大量（甚至占全部集成电路一半以上）的“常规设计”均应受到著作权保护，这样势必限制集成电路产业的发
展。
而且，著作权保护的自动获得原则也不适应集成电路布图设计的实际需要。
（4）著作权保护的期限过长。
依摩尔定律，集成电路芯片上的半导体元件数目每隔18个月就翻一番。
据业界人士称，只有CPU之类的芯片的“寿命”可能长达三至五年，一般芯片的“寿命”通常只有一年至一年半，一些“短、平、快”芯片的“寿命”只有半年。
而著作权提供的保护期限是作者终生加死后50年，甚至70年。
这种远远超过一般情况下的集成电路布图设计“自然寿命”的法律保护实在没有必要，更重要的是，这会严重制约集成电路的技术进步和产业发展。
（5）集成电路布图设计的表现形式极为有限，甚至有的最优化方案只有一种表现形式。
而著作权所保护的是表现形式，而不是内在思想，适合用于保护有多种表现形式的客体，但不宜保护集成电路布图设计。
（6）按著作权保护集成电路布图设计，则合理的“反向工程”也会成为侵权行为。
反向工程，又称还原工程，就是对已有的集成电路产品进行解剖分析，在彻底了解该电路机理的基础上重新设计出新的芯片，其布图与原产品不同，但功能相当。
这种做法有利于更快地设计出基本功能相同，但性能更好、尺寸更小、成本更低的集成电路产品。
而且，采用反向工程开发产品仍然需要作相当的投资。
经验表明，完全独立开发一种新的芯片，要花三至三年半时问，用在对类似产品实施还原工程的基础上重新设计则只要花一年到一年半；如果直
接复制，只需花三至五个月。
因此，进行还原工程并不过分背离公开竞争原则。