浅析中国《集成电路布图设计保护条例》

浅析中国《集成电路布图设计保护条例》
国务院颁布的《集成电路布图设计保护条例》，立足自身的实际情况，借鉴美国、日本等国家和地区的先进立法，在立法中结合我国的实际情况，进行充分协调，这种做法在中国现行知识产权法中是十分可取的，这标志着我国集成电路布图设计专有权制度的初步建立。

这有利于保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展。

标签：集成电路布图设计；法律保护；知识产权
集成电路的出现是微电子技术革命的动力源与受动者，在技术领域和信息社会具有革命性的意义。

集成电路产业同时是关系到国民经济和社会发展具有战略先导性的行业，是信息产业发展的关键。

根据世界知识产权组织《关于集成电路的知识产权公约》的规定，集成电路布图设计是指集成电路中多个原件，其至少由一个有源元件组成，或者全部集成电路互连的三维配置，以执行某种电子功能。

集成电路布图设计作为人类高科技成果，是知识产权的客体之一。

目前我国集成电路出现核心技术受制于人，缺乏自主创新能力的局面。

针对存在的这一系列问题，我国需借鉴其他国家立法及国际公约的先进经验，加强对该智力成果的法律保护，也为激励集成电路布图设计人自主创新提供强有力的保障。

一、主要国家的立法概况
美国是集成电路的发源地，于1984年率先实施《半导体芯片保护法》，以单独立法的方式来保护集成电路布图设计。

该法对集成电路的掩膜层的专有权利中规定权利人有权进口或销售包含有该掩膜层的半导体芯片产品。

这种产品包含两层含义：一是含有布图设计图层的芯片，二是用前项制造出的产品。

美国这种立法模式影响到1989年缔结的《华盛顿条约》和1994年达成的《TRIPS协定》。

继美国出台的《半导体芯片保护法》之后，日本于1985年5月31日颁布了《半导体集成电路的线路布局法》，该法的立法体与内容同美国《半导体芯片保护法》极为相似，也将布图作为单独民事关系客体来保护。

受美国和日本立法的影响，欧共体于1986年12月16日颁布了《关于保护半导体芯片产品拓图委员会指令》，要求各成员国根据指令，通过授予专有权的形式来保护半导体产品的布图设计。

随即，英国、德国、荷兰、法国、西班牙等国也相继以专门立法的形式出台了保护布图设计的法律。

二、我国集成电路布图设计权的法律保护
1984年我国颁布了专利法。

1985年我国加入了《保护工业产权巴黎公约》,中国知识产权保护水平上了一个新台阶。

1987年颁布的《技术合同法》使得技术成果在流通领域中的关系有了调整的依据。

1990颁布了《著作权法》，1999年颁布了新的《合同法》，这些法律条文的颁布使我国初步具备了保护集成电路布图设计权的基本条件。

集成电路的布图设计实质上是一种图形设计,如果根据该设计生产出的集成电路产品符合专利法所规定的条件,就可取得专利权。

但由于大多数的集成电路的布图设计缺乏专利保护所具备的新颖性和创造性要求，因此很难得到专利法的有效保护。

集成电路的布图设计具有独创性特征，故而在我国也受到著作权法保护。

但集成电路的布图设计不属于作品，同时，对集成电路布图设计的复制与著作权法中复制作品的含义不同。

另外，著作权法的保护期限过长，不利于集成电路布图设计的长期发展。

因此，希望通过著作权法有效保护集成电路布图设计也是不现实的。

集成电路布图设计的终极目的是使生产者能生产出能在市场上流通的电子产品，一旦电子产品进入市场，那么集成电路布图设计作为附着于其中的一部分就可以受到商标法的保护，但商标法保护的重点是品牌而非实物，所以商标法对集成电路布图设计的保护力度也是有限的。

集成电路布图设计作为一种重要的技术，可以通过技术合同来获得合同法的保护。

要想得到合同法的有效保护，设计者必须作为技术合同的一方与另一方签订合同，然而这种保护仅在集成电路设计者与确定的合同相对人之间存在法律保护，实际上有些设计并不能满足这一条件，因而就失去了这种保障。

综上所述，这几种法律无法对集成电路布图设计形成有效的保护，因此需要一种针对性强的法规来弥补这一系列缺失。

在这种情况下，我国于2001年10月1日施行的《集成电路布图设计保护条例》，立法目的是为了保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展。

该《条例》规定了主体、权利取得方式、权利内容、保护期限及权利限制五个部分的内容，以下对其中部分内容作简要介绍。

1.主体部分
为达到鼓励集成电路技术创新的立法目的，《条例》贯彻了著作权法上的保护作者权利的原则，规定布图设计专有权通常由布图设计的创作人享有；多人共同完成的，根据民法中的共有原理，由参加创作者共同享有。

对委托人与受托人之间布图设计专有权的归属，则兼采尊重意思自治与保护创作人利益的方法，即双方有约定的从约定，没有约定或约定不明的，专有权由受托人享有。

由于集成电路产业迅猛发展，制造工艺日益复杂，依靠单个创作做出具有世界领先水平的布图设计较为困难，大多数国家和地区的立法参照专利法上职务发明模式，规定由布图设计完成人所属的法人享有专有权，但我国《条例》对此未作明文规定。

2.客体部分
《条例》限定了受保护的布图设计的条件，即独创性。

专利法规定的独创性要求受保护的技术发明具有突出的实质性特点和显著的技术进步，但布图设计往往达不到这种创造性承担，所以《条例》将独创性界定為“是创作者自己的智力成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计”。

我国台湾地区1995年8月公布的“集成电路布局保护法”第16条也有类似表述：“本法保护之电路布局权，应具备所列各款要件：一、由于创作人之智能努力而非抄袭之设计。

二、在创作是就集成电路产业即电路布局设计
者而言非属平凡、普通或习知者。

以组合平凡、普通或习知之组件或连续线路所设计之电路布局，应仅就其整体组合符合前项要件者保护之。

”
布图设计仅是集成电路制造的一个中间产品，要保护专有权人的利益，就必须从保护其复制权与商业利用权入手。

布图设计专有权人经济利益的实现主要依靠布图设计的权利人对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制。

《条例》第2条对复制进行了界定，即重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为。

布图设计权的另一重要内容是商业使用权，商业使用权的主要权项集中于进口权、销售权及发行权。

除复制和商业利用以外，对于未经权利人许可而进行的其他行为，《华盛顿条约》还允许缔约方将其确定为违法。

TRIPS第36条规定的商业利用范围，除布图设计、含布图设计的集成电路之外，还将范围扩大到含有上述集成电路的物品，其范围最广。

《条例》的第2条也采用了TRIPS的三层保护模式，对含有布图设计的集成电路的物品也予以保护。

三、布图设计权与公共利益的平衡
根据《条例》第24条的规定，布图设计、含有布图设计的集成电路或含有该集成电路的物品，由布图设计权利人或经其许可投放市场后，他人再次商业利用的，可以不经布图设计权利人的许可，并可以不向其支付报酬。

作为促进公共政策目标实现，维护公共利益的手段，法律规定了布图设计权人的权利，也划定了例外情形作为该权利的边界。

1.反向工程
所谓反向工程，是指利用特殊技术手段，从集成电路成品着手了解他人集成电路产品的功能设计特点，获得布图设计。

运用反向工程对布图设计进行复制，不构成侵权，但该行为须具备以下条件：一是其目的在于对他人的布图设计进行分析、评价、用于教学或在他人的布图设计运用的基础上创作新的布图设计，单单出于商业目的不能对他人的布图设计运用反向工程；二是利用反向工程所创作出的新的布图设计必须符合原创性的要求；三是对于所复制他人的布图设计不能进行商业利用。

作为一项重要的技术手段，反向工程的采用促进了日本集成电路产业的发展，甚至使其在一段较长的时间里超过了美国。

对反向工程的合理性与合理范围的界定在国内存在不同看法。

反向工程能很好地促进集成电路的发展，在合理限度内实施反向工程应不视为侵权。

较明显的是，这种非商业性行为的例外与版权法中的合理使用制度非常相似。

2.合理使用
各国关于布图设计保护的法律一般都规定，为个人学习目的或为教学研究所进行的复制或利用他人受法律保护的布图设计的行为，不视为侵权。

对于布图设计人的专有权来说，合理使用是一种例外，它允许第三方在特定环境下使用版权材料。

3.权利用尽
布图设计权利人或经其授权的人将布图设计或含有该布图设计的集成电路或含有该集成电路的产品投放市场后，对该布图设计有关的商业利用行为，不再享有控制权，即进口、销售或以其他方式来使用该布图设计的行为无效征得布图设计权利人或其授权人的许可。

就此而言，该原则限制了布图设计人在产品销售后对布图设计的控制权，购买者可以行使自由处分行为。

我国《集成电路布图设计保护条例》还规定了一种特殊的权利限制制度，对自己独立创作的与他人相同的布图设计，即使其未通过登记取得专有权，但由于其付出了创造性的劳动，仍然应该予以肯定，以此来保护独立创作人的利益。

结语
国务院颁布的《集成电路布图设计保护条例》，能立足自身的实际情况，借鉴美国、日本等国家和地区的先进立法，在立法中结合我国的实际情况，充分进行协调，这在中国现行知识产权法中是十分可取的，这标志着我国集成电路布图设计专有权制度的初步建立。

但随着集成电路产业的发展，许多新的法律问题不断涌现，有必要不断完善建立一套相对完整的法律保护体系，提升该法的位阶效力，加强具有自主知识产权集成电路产品的开发与保护。

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