ProE特征复制教程文件

2020/6/11
不为失败找理由，只为成功找方法！
移动（旋转）复制
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阵列
矩形阵列:通过使用驱动尺寸并指定阵列的增量变 化来控制阵列。尺寸阵列可以为单向或双向。
圆形阵列:通过使用拖动控制滑块设置阵列的角增 量和径向增量来创建自由形式径向阵列。也可将阵 列拖动成为螺旋形
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PRO/E直接建模特征：筋特征
筋特征：在两个或两个以上的墙面间加入材料， 作为支撑墙面的肋。
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创建筋特征步骤
单击草绘图标，选择草绘平面和参照平面。 绘制肋的草图（须开放线条，绘制时注意参
照的选择）。 单击筋工具。 确认筋材料方向。 输入筋深度。（注意添加深度方向） 单击仪表板确定按钮，完成肋的创建。
填充阵列:通过根据选定栅格用实例填充区域来控 制阵列
阵列表:通过使用阵列表并为每一阵列实例指定尺 寸值来控制阵列。
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矩形阵列
阵列是需要先选特征，然后才可以使用的命令
矩形 阵列
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（DXD、D1XD2、角度XD及45XD) 单击仪表板确定按钮，结束特征定义。
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PRO/E直接建模特征：简单倒圆角
倒圆角：在相邻两个曲面之间创建圆角平滑过 渡，使相邻曲面间的锐边变得圆滑。
倒圆角类型 简单倒圆角：使用缺省的倒圆角形状和转接。 高级倒圆角：使用用户自定义的倒圆角形状和
创建孔特征（径向范例 ）
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注
取可置位意
方 法 更 方 便 。
用 “ 放 置 ” 下 的 选
( )
。 移 动 定 位 把 手 时
置
最 好 是 大 致 位
： 单 击 选 取 曲 面 的
，
创建孔特征（草绘孔范例）
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转接。
简单倒圆角
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创建不同半径圆角
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创建变半径圆角
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通过曲线倒圆角
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创建完全倒圆角
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拔模特征的创建
操作步骤如下： 1、特征工具栏“拔模工具”（或主菜单：插入→拔
模……）→出现操控板→选取欲拔模的面 2、按下操控板处的“单击此处添加项目”→选取一
个平面、一条边、或一条曲线作为拔模枢轴 3、按下操控板处的“单击此处添加项目”→选取一
个平面、一条边、一个轴、或两个点作为拖动方 向→ 修改拔模角及拔模方向 4、按下鼠标中键（或点选操控板中的）
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拔模特征范例
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实体特征的复制和阵列
实体特征的复制常以Pattern(阵列)或编辑→ 特征复制 → 复制(Copy)来完成
− Pattern 可一次复制出多特征，对每一特 征的操纵性较低
− Copy一次仅能复制出一个特征，但其对 特征的操纵性较高
孔特征的创建步骤
点选孔特征图标，选择创建孔平面。 由仪表板选择孔的中心轴定位方式包括： 1、线性，圆孔的中心轴位置以距离两个边(或两个平
面)的尺寸来标注。 2、径向，圆孔的中心轴位置以极坐标(半径)的方式来
标注，须指定轴线及平面。 3、直径，圆孔的中心轴位置以极坐标(直径)的方式来
标注，须指定轴线及平面。 4、同轴，此圆孔与另一个已存在的圆孔或任何有轴线
的特征共享轴线。
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孔特征的创建步骤
指定特征的定位尺寸。 输入相关数值（孔径、孔深等）。 单击仪表板确定按钮，结束特征的定义。
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创建孔特征（线性范例）
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圆形阵列范例
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填充阵列范例
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Helical sweep(螺旋扫描)
ProE特征复制
工程特征
工程特征附含工程的意义，如圆孔、薄壳、 加强肋、拔模斜面、倒、切斜角。此类特征 的截面大多呈现规则的几何形状，因此用户 不须绘制其截面造型，只要指定特征的放置 部位、特征的定位尺寸及其他相关尺寸，即 可描述出特征的几何数据。
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创建孔特征（标准孔范例）
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PRO/E直接建模特征：抽壳
壳特征：删除实体的一个或多个曲面，然后 掏空实体内部，留下指定壁厚的壳。
指定曲面
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指定厚度
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完成的壳特征
壳特征的应用注意事项
可以创建不同的厚度的壳体。 可以移除多于一个曲面。 能够增加或删除材料。 不能在有圆角的壳体上抽壳。
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PRO/E直接建模特征：边倒角
边倒角：从选定的边中除去一平截面的材料， 在共有选定边的两个面之间创建斜面。
选择要倒角的边
选择倒角命令
完成倒角的边
2020/6/11
不为失败找Hale Waihona Puke Baidu由，只为成功找方法！
边倒角步骤：
选择一个或数个倒角的边。 单击倒角工具。 确定倒角类型并修改倒角数值。
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新参考复制
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移动（平移）复制