膜厚测试数据Sn
真空技术-薄膜厚度的测量
• 交流电桥法 电感法
法
• 晶体振荡法—石英振频法
• 电子射线法
扫描电子显微镜 俄歇电子谱法
• 光电极值法
变厚极值法 变角极值法
变波长极值法—红外干涉法
• 干涉法
辨色法-比色法
斜阶条纹法 目视弯度法
弯度法
测微目镜法 光电狭缝法
摄影测量法
光
条纹对正法 等色级条纹法 钠光内标法
学
法
• 偏光法
偏光干涉法 偏光椭度法—椭偏仪
p波和s波振幅比
Rp （ （AApp） ）反 入
Rs （ （AAss） ）反 入
因为Rp和Rs一般为复式，所以写成
（Ap）反
Rp Rs
Rp eip Rs eis
（ （AAps） ）反 入
（As）入
定义：
tg
Ap As 反
Ap As 入
e i ( p )反 ( p )入 (s )反 (s )入
• 测量灵敏度高，可达10*10-9 g.cm-2.Hz-1.对应一般材料膜厚控制精度可 达10-2 nm量级。
• 石英晶振使用寿命
椭偏仪
椭圆偏振法：利用偏振光照射在各向 同性均质薄膜上（光学平面的基片上 的无吸收或有吸收的薄膜），在根据 测量其反射光的偏振状态来确定薄膜 厚度及各种光学参数。
这种方法已成功应用于测量介质膜、 金属膜、有机膜、和半导体膜的厚度、 折射率、消光系数和色散等
以无吸收薄膜为例，看看椭偏仪的测量膜厚的基本原理
基本原理
• 空气 n0 0
• 薄膜 n
• 基片 n’ '
• dp为膜厚
波长λ光入射（空气薄膜界面）——反射、折射——进入 薄膜的光多次反射、折射（薄膜空气、薄膜基片界面）— —总反射光由多光束光合成。
膜厚测试作业指导书
LOGO膜厚测试作业指导书Film Thickness Testing Operational Guidelines一、目的 为了确保使用检查的仪器准确的检验出涂膜厚度，特指定本作业指导书。
二、适用范围 本指导书适用于膜厚计QNIX 4500规格的内置探头式规格。
三、作业步骤见下图及说明1、启动归零2、校验3、校验4、模式选择5、单位选择取出膜厚计并将膜厚计归零测量调零板，接触后不要抬起，用另一只手按住红色按键，听到响声后，拿开仪器，调零完毕取出调零板专用的校正片并确保放置于平面 的调零板上 将探头对准校正片并根据膜厚计显示的数值与标准校正值对照，如数值有差异，按键或键和显示屏显示的步骤进行调整到标准校正片的相同数值为准。
根据产品基材选择按下按钮选择合适的选项Fe ：基材铁 NFe ：基材非铁，如铝、铜等Fe/Nfe ：自动选择基材模Unit 为公英制选项，在Unit 选项短暂停留进入单位选择选项。
6、测量7、记录8、收纳注意事项：1、请保持标准校正片表面的清洁，并尽可能不要把表面磨损；2、屏幕提示“BAT”时，则表明电量不足、需换电池，请正确使用对应规格的两节 5# 电池3、请在使用过程中轻拿轻放，不准摔、碰、磕的储存及放置和搬运的过程；4、请现场部门与品管部门所使用的仪器要分开使用，确保仪器的准确性的互相监督！测量时，分别选择被测产品的5 个不同的点进行测量，去除其中的最大和最小值的平均 值即为该产品的涂膜厚度所得数值。
将检查得到的数值记录在《喷塑质量检验记 录表 》或相关表单上。
使用完毕后，将膜厚仪收进盒中，仪器无操作10秒自动关机编制/日期： 审核/日期： 核准/日期：013/A00。
工艺调试过程中各个参数对膜厚和折射率的影响
膜厚 83.0000 2.0440 79.9000 2.0511
炉尾前
86.2000 2.0480 86.7000 2.0607
炉中
84.4000 2.0487 85.1000 2.0587 82.9000 2.0506 87.0000 2.7500
炉口后
81.6000 2.0550 86.1000 2.0675
对比后的结果为：
炉尾 膜厚 中间 折射率 膜厚 边上 折射率 -0.0036 -0.0107 0.0112 -0.0003 0.0202 0.0106 0.0046 -0.0040 5.3000 0.0120 -0.1000 0.0063 3.9000 0.0041 1.6000 0.0011 3.6000 0.0014 2.1000 0.0035 2.7300 3.1000 炉尾前 4.1000 炉中 1.9000 4.4000 炉口后 4.5000 炉口 4.2000 平均值 3.8700
由于假片用的时间较长，对镀膜会存在一定的影响，大约去掉1.38nm）
膜 厚：1.5nm/100W（经验值：1nm/100W) 折射率：0.001/25W
三、NH3（sccm）： 选用炉管5-2，初始流量6300sccm，测试结果：
炉尾 膜厚 中间 折射率 膜厚 边上 折射率 2.0684 2.0837 2.0911 2.0840 2.1248 2.0864 2.0488 88.7000 2.0852 89.0000 2.0766 89.9000 2.0689 90.4000 2.0755 88.4000 2.0696 88.3000 86.5000 炉尾前 91.1000 炉中 89.9000 87.8000 炉口后 88.0000 炉口 86.9000
涂膜厚度怎么测？检测标准有哪些？
涂膜厚度怎么测？检测标准有哪些？展开全文涂漆产品根据其用途和使用环境状况,对涂膜厚度有直接的要求，另外,涂膜的各项性能也必须以厚度作为条件参数，即漆膜性能只有在同等厚度下才有可比性。
因此，漆膜厚度是涂料施工过程中很重要的一项检测指标。
漆膜厚度分别有湿膜厚度和干膜厚度。
湿膜厚度用于施工现场对漆膜厚度的直接控制和调整,干膜厚度则用予质量监控与验收。
1.湿膜厚度测定湿膜厚度用带有深浅依次変化的餐齿金属板或回盘,垂直压在湿膜表面,直按法取首先沾有湿膜的锯齿刻度。
（嘉峪检测网推荐仪器：湿膜规）2.干膜厚度测定干膜厚度测定分磁性法和涡流法两大类.(1)磁性法本方法适用于磁性金属基体上非磁性涂层的厚度测定，它是以探头对磁性基体磁通量或互感电流为基准,利用其表面非磁性涂层的厚度不同,通过磁通量或互感电流的线性变化值来测定涂层厚度。
（嘉峪检测网推荐仪器：磁性涂层测厚仪）根据其测量原理,测试仪器又分永磁测厚仪和电磁感成测厚仪两种,永磁测厚仪具有结约简单、实用、价廉的优点,非常通合于携带和现场测试,早先的永磁测厚仪测量精度和准确度都较差,最新的永磁测厚仪采用稀土钻金属永久磁体,磁化钨探头.既耐磨损耐用,又能长期保持准确性,另外述有一种笔形测厚仪,测量不受表面形状限制,并能在高达230℃的表面进行测量,测量范围5~500µm。
电磁感应测厚仪则已经由原来的指针式发展为数显式,如国产QUC-200型数显式磁性测厚仅,操作过程如下:接通电源预热20min→“选择”开关置于“电压”,检测电池是否在16.5V以上→再将“选择”开关置于“厚度”→调零→用100.0µm标准片校准一测量。
用磁性法测量马口铁皮表面涂膜时,由子马口铁度太薄(0.5~0.8mm),测量误差较大,可在马口铁皮背面衬以厚铁板或仪器所带标准基板进行调零、标准和测试,测量取距高试板边缘1cm以外的上、中、下三个点的平均值。
对于国外一些更先进的测厚仪,具有自动调校、数据贮存、统计和打印输出功能,能满足IS09000质量管理标准的要求。
膜厚测试方法
膜厚测试方法膜厚测试是一种常见的测试方法，用于测量材料或物体表面上薄膜的厚度。
它在各种工业领域中得到广泛应用，如电子、光学、化学等领域。
本文将介绍膜厚测试的原理、常用的测试方法以及测试过程中需要注意的事项。
一、原理膜厚测试的原理是根据不同的测试方法来确定薄膜的厚度。
常见的测试方法包括光学测量、电子显微镜测量和X射线衍射测量等。
光学测量是利用光的干涉或散射原理来测量薄膜厚度的方法。
通过测量入射光和反射光之间的相位差或强度变化，可以计算出薄膜的厚度。
电子显微镜测量是利用电子束与膜样品相互作用的原理来测量薄膜厚度的方法。
通过测量电子束穿过薄膜样品的衰减情况，可以计算出薄膜的厚度。
X射线衍射测量是利用X射线与薄膜样品相互作用的原理来测量薄膜厚度的方法。
通过测量入射X射线经过薄膜样品后的衍射图案，可以计算出薄膜的厚度。
二、常用的测试方法1. 厚度计测量法：使用厚度计直接测量薄膜的厚度。
这种方法适用于较厚的薄膜，但对于较薄的薄膜则不太适用。
2. 交流阻抗测量法：通过测量薄膜表面的电阻和电容来计算薄膜的厚度。
这种方法适用于导电性较好的薄膜。
3. 透射电镜测量法：使用透射电镜观察薄膜的厚度。
这种方法适用于较薄的薄膜，可以达到亚纳米级的测量精度。
4. 扫描电子显微镜测量法：使用扫描电子显微镜观察薄膜的厚度。
这种方法适用于较薄的薄膜，可以达到纳米级的测量精度。
三、测试过程中的注意事项1. 根据薄膜的性质选择合适的测试方法，以获得准确的测量结果。
2. 在进行测量之前，需要对测试仪器进行校准，以确保测量结果的准确性。
3. 在进行测量时，需要保持薄膜样品的表面清洁，以避免污染对测量结果的影响。
4. 测量过程中需要注意避免外界干扰，如振动、温度变化等因素可能影响测量结果的准确性。
5. 测量结束后，需要对测量结果进行分析和处理，以获得薄膜的厚度值。
四、总结膜厚测试是一种常见的测试方法，可以用于测量材料或物体表面上薄膜的厚度。
镀层厚度测试
涂/镀层厚度测试目的：检查涂覆、电镀、化学镀所形成镀层厚度及其镀层均匀性涂/镀层产品来料厚度检验方法：截面法（仲裁方法）X射线荧光膜厚法依据标准：截面法：GB/T 6462-2005，ASTM B 487-85(2002)，ASTM B748-1990(2010)X射线荧光膜厚法：ASTM B 568-98，GB/T 16921-2005，ISO 3497典型图片：金相显微镜测量镀层厚度SEM测量镀层厚度链接：一、截面法之显微镜测试二、截面法之SEM测试三、X射线荧光膜厚测试镀层厚度测量的最高倍数1000X，最低可测试至0.8µmthe Maximum magnific ation of the optic al mic roscope is 1000X, the size measured c an be as low as 0.8μm）铁基体上镀锌层厚度测量Zn layer thickness measurement on iron substrate渗碳层深度测量The depth measurement of carburizing layer第3层第2层第1层基材漆膜层厚度测量多层镀层厚度测量Cr layerSubstrate Cu layerNi layer链接三：X射线荧光膜厚测试X-RAY荧光测厚仪（X-Ray fluorescence thickness tester）具体可针对如Sn/Fe（基材）、Zn/Cu（基材）、Ni/Cu（基材）、Cr/Ni/Fe（基材）、Au/Ni/Cu（基材）等数十种电镀工艺镀层进行厚度测量，具有测量精度高、简便快捷、无损的优点，特别是对微薄镀层厚度（一般指小于0.2微米）测量效果较佳。
X-Ray fluorescence thickness tester, being highly accurate, fast and easy-to-operate, non-destructive, is mainly used for the thickness measurements of plating layers, such as Sn/Fe (substrate), Zn/Cu (substrate), Ni/Cu (substrate), Cr/Ni/Fe(substrate) and Au/Ni/Cu (substrate). Especially good for the thickness measurement of extra-thin coatings(generally less than 0.2 um).典型样品：连接器引脚。
膜厚测量方法综述
薄膜厚度是否均匀一致是检测薄膜各项性能的基础。
很显然，倘若一批单层薄膜厚度不均匀，不但会影响到薄膜各处的拉伸强度、阻隔性等，更会影响薄膜的后续加工。
对于复合薄膜，厚度的均匀性更加重要，只有整体厚度均匀，每一层树脂的厚度才可能均匀。
因此，薄膜厚度是否均匀，是否与预设值一致，厚度偏差是否在指定的范围内，这些都成为薄膜是否能够具有某些特性指标的前提。
薄膜厚度测量是薄膜制造业的基础检测项目之一。
1. 各种在线和非在线测厚技术发展快速包装材料厚度的测试最早用于薄膜厚度测量的是非在线测厚技术。
之后，随着射线技术的不断发展逐渐研制出与薄膜生产线安装在一起的在线测厚设备。
上个世纪60年代在线测厚技术就已经有了广泛的应用，现在更能够检测薄膜某一涂层的厚度。
同时，非在线测厚技术也有了长足的发展，各种非在线测试技术纷纷兴起。
在线测厚技术与非在线测厚技术在测试原理上完全不同，在线测厚技术一般采用射线技术等非接触式测量法，非在线测厚技术一般采用机械测量法或者基于电涡流技术或电磁感应原理的测量法，也有采用光学测厚技术、超声波测厚技术的。
2. 在线测厚较为常见的在线测厚技术有β射线技术，X射线技术和近红外技术。
2.1 β射线技术β射线技术是最先应用于在线测厚技术上的射线技术，在上世纪60年代就已经广泛用于超薄薄膜的在线厚度测量了。
它对于测量物没有要求，但β传感器对温度和大气压的变化、以及薄膜上下波动敏感，设备对于辐射保护装置要求很高，而且信号源更换费用昂贵，Pm147源可用5-6年，Kr85源可用10年，更换费用均在6000美元左右。
2.2 X射线技术这种技术极少为塑料薄膜生产线所采用。
X光管寿命短，更换费用昂贵，一般可用2-3年，更换费用在5000美元左右，而且不适用于测量由多种元素构成的聚合物，信号源放射性强。
X射线技术常用于钢板等单一元素的测量。
2.3 近红外技术近红外技术在在线测厚领域的应用曾受到条纹干涉现象的影响，但现在近红外技术已经突破了条纹干涉现象对于超薄薄膜厚度测量的限制，完全可以进行多层薄膜总厚度的测量，并且由于红外技术自身的特点，还可以在测量复合薄膜总厚度的同时给出每一层材料的厚度。
用薄膜测厚仪测量薄膜厚度及折射率
用薄膜测厚仪测量薄膜厚度及折射率【实验目的】1、了解测量薄膜厚度及折射率的方法，熟悉测厚仪工作的基本原理。
2、通过本实验了解薄膜表面反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成反射谱原理。
3、借助光学常数，对薄膜材料的光学性能进行分析。
【实验原理】SGC-10薄膜测厚仪，适用于介质，半导体，薄金属，薄膜滤波器和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。
该薄膜测厚仪采用new-span公司先进的薄膜测厚技术，基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数（折射率n，消光系数k）。
它通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱，用相应的软件来拟合运算，得到单层或多层膜系各层的厚度d，折射率n，消光系数k。
【实验仪器及材料】测厚仪、已制备好薄膜数片、参考反射板（硅片）【实验过程及步骤】运行程序，如果出现下面错误提示窗口，请确认USB线已连接好仪器与计算机。
关闭程序，连接好USB线，并重新启动程序。
第一次按“Measure”键时，如果出现下面的错误窗口，则是因为没有把软件安装在默认目录下。
这时，请按下“Continue”按钮（也许需要连按5次），再切换到“Measurement Setting”面板，选择薄膜层数4，再从材料数据库中选择基底和四层薄膜的材料（随便选取），然后按“Save Setting”，以后就不会再出现错误窗口了。
各部分功能1 注册界面（Registration）第一次运行程序会出现下面的注册界面。
其中的“Serial #”会从仪器自动读出，如果运行后还是空白的，请确认你的USB线是否连接好了。
如果仍旧是空白的，请参考安装说明重新安装软件。
“License #”需要你手动输入，其由你的供货商提供。
输入注册码后请用鼠标左键点击界面上的“Enter”按钮完成注册，而不是按键盘上的“Enter”键。
2 测量设置界面（Measurement Setting）各部分功能描述3 测量界面（Measurement）各部分功能描述数据格式（以硅为例）三列数，第一列是波长（单位是纳米），第二列是折射率n，第三列是消光系数k，中间用“Tab”键分开。
膜厚和淀积速率的测量与监控
f2 1 ，称为质量灵敏度。 令： Cm N
膜厚和淀积速率的测量与监控
当膜厚不大，即薄膜质量远小于石英基片质量时，晶 片谐振频率变化不大，Cm 可认为常数。
df Cm mdx
对于特定的石英晶体测量膜厚，随薄膜厚度增加，频率
和厚度的关系偏离线性。
石英晶体片起始频率越高，质量灵敏度越高。
1. 当 n0 、 n f 、 ns 确定后，反射率只与薄膜厚度有关； 2. 薄膜厚度连续变化时，反射率出现周期性极值； 3. 当采用白光照射时，出现干涉色。
膜厚和淀积速率的测量与监控
例题：设计淀积 2m厚的SiO薄膜，已知SiO的折射率为2.0， 监控片的折射率为 1.5，单色光波长为1m，假设薄膜吸收为 零，如何监控？ 根据干涉原理：
优点：测量简单，能够即时测量厚度、生长速度
缺点：测量的是沉积到石英晶体上的薄膜的厚度，当石英
晶片位置改变或蒸发源形状改变时，需要重新校正。
膜厚和淀积速率的测量与监控 ★ 电学方法
利用电阻与电阻体形状 有关这一原理测量膜厚的方 法称为电阻法。测量金属薄 膜厚度最简单的方法。
阻法
L L R S d W
一般采用补偿规测出参与气体。
膜厚和淀积速率的测量与监控 ★ 光学方法
光吸收法
测量薄膜透射光强度。
2
I I0 (1 R) exp(t )
式中， I 0 为入射光强度， I 透射光强度， t 膜厚， 吸收 系数， R 薄膜与空气界面的反射率。 方法简单 适合于连续薄膜
膜厚和淀积速率的测量与监控
膜厚和淀积速率的测量与监控
m t A
dt dm t m
优点：灵敏度高，能测量淀积质量的绝对值；能在比较
一种适用于在线检测的纳米薄膜厚度精确测量方法
Ｋｅ ｙ ｗｏｒ ： ｔ ｉ ｌ ； ｈｉｋ ｅ ｓ ｄ ｔ ｒ ｎ ｔ ｏ ｐ ｅ ｉｅ ｄｓ ｈ ｎ ｆ ｍ ｔ ｃ ｎ ｓ ； ｅ ｅ ｍｉ ａ ｉ ｎ； ｒ ｃ ｓ ｉ
０ 引 言
自２ 世纪 ７ 年代 以来 ， ０ ０ 薄膜 技术和 薄膜材
料得 到 了迅速 发 展 ，已成 为 当代 真 空技术 和 材 料 科学 中最 活跃 的研 究 领域 。由于跨 学 科 的综 合设 计与 高精 尖 的制造 技术 已使 得薄 膜 技术 渗
Ｅ－ ａｌ ｍ ｉ：３６ ６ ５ ６ ｑ ｃ ｍ ２ ７ ４７ ＠ ｑ．ｏ
ｈ ｐ ／ ｕｎ１ｔ． ． ／ｗ ｔ ： ｊ ｒ ． ｐ ｃ ｎｈ ｔ ／ ｏ ａｓ ａ ｃ ｉ
ＩＦＡ Ｅ Ｍ Ｎ ＨＹ／ Ｏ． ， Ｏ７ Ｕ ０１ ＮＲ Ｒ Ｄ（Ｏ Ｔ Ｌ）Ｖ Ｌ ２ Ｎ ． ３ ，ＪＬ １ ２
透 到信 息、生物、航空 、 航天 和新能源等前 沿领 域， 薄膜技术在从 航天 、 星等空 间探 测器到集 卫 成 电路 、生物芯 片、激光器件 、液晶显示 以及集 成光学等 方面都发 挥着重要 作用 ［ ３。 １］ － 薄 膜 的光学 常数 （ 折射 率 ｎ和 消光 系 数 ｋ ） 和厚 度是 决定 其性 质和控 制性 能 的基本参 数 。
或 极小值 。利 用薄 膜 的透射 或反 射率 曲线上 的 ２ 或 ２ 以上 的极值 点的位置 ， 个 个 即可计 算 出薄
膜 的厚 度和光学常数 。 该方法计算 简单 ， 是薄 但
精度 机械触 针在 物体 表面 上进 行运 动来感 知表
面轮廓 的变 化 。台阶 仪就 是这 种方 法 的应 用实 例。 作为 一种基 于机械运 动的探针测量设 备，台 阶仪 的精 度受 到许 多 因素 的限制 ，而 且其 在测 量薄膜厚度 时， 需要露 出薄 膜基底作 为阶梯 。 因 此， 往往 需要对薄膜进行 二次加工 。 在测量 时，
膜厚测试
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穿透式—性能指标（测试材料：23-100µ PET） 重复性 2σ 再现性 2σ 扫描平均重复性 2σ 探头间隙间摆动 2σ 条状分辨率 测量响应时间 测量空气间隙
± 0.15 gsm 或 ± 0.05%，以较高者为准 ± 0.2 gsm 或 ± 0.05%，以较高者为准 ± 0.15 gsm 或 ± 0.05%，以较高者为准 ± 0.6 gsm 或 ± 0.5%，以较高者为准 25mm 线条，81% 信号 18mS（100% 新数据） 18mm
烯 4. 铝箔 5. 内粘结层 6. 内层聚乙烯
镀锡层膜厚分析报告
数量
(Q'ty)
膜厚SPEC:Ni 50U Min,Sn 80U
Min;CHK:镀锡层膜厚15--45U.
白永红12/13/2012
1,最终客户端库存6089Pcs请报废处理;
熊强12/13/2012
2,查敝司库存为零.
白永红喻玲12/13/2012
1,经调查此款产品2,涉嫌批次是8月份 给贵司的膜厚标准Ni 50U Min,Sn 80U Min不相符合;
品名规格(Part description)
SATA Cable
Discipline-4根本原因分析(Root cause analysis)Date:12/14/2012
Team member:白永红 喻玲 雷飞国 赖绪灯 熊强 徐卫 董兵Discipline-1改善小组(Team member)Discipline-2问题描述(Describe The Problem)Date:12/13/2012
Date:12/13/2012
Discipline-3立即措施(Containment Action )Date:12/13/2012
6089Pcs
客诉单号
(CAR NO.)
料号(Part NO)
WSBP-275D-073M/CS15A78-B1 Champion:吴志兵 Team leader:何海浪
客户投诉处理单
投诉日期(Lssue Date)
三弦
10月27日
2012102701
客户(Customer)Complaint sheet Of Customer Promptly
板材膜厚测试报告
.doc 端子膜厚测试报告
.doc
059A。
膜厚的测量与监控
电阻法
原理：由于电阻值与电阻体的
形状有关，利用这一原理来测 量膜厚的方法称电阻法。由于 金属导电膜的阻值随膜厚的增
加而下降，所以用电阻法可对
金属膜的淀积厚度进行监控， 以制备性能符合要求的金属薄 膜。
由于材料的电阻率(或者电导率)通常是与 整块材料的形状有关的一个确定值，如果 认为薄膜的电阻率与块材相同，则可由下 式确定膜厚，即
上表面
下表面
如果两束相干光的波程差等于波长的整数倍．则两束光相互 加强。如果波程差等于半波长的奇数倍，则两束光相互削弱。 因此，当膜层厚度相差λ /2 (光学厚度)时，即膜层的几何厚度 相差λ /2n (n为薄膜材料的折射率)时，反射率相同，这就是
光干涉法测膜厚的基础。
薄膜折射率<比较片折射 率（曲线1,2）
测试方法
形状膜厚
其他方法
电子显微镜法 化学天平法Leabharlann 微量天平法 扭力天平法 石英晶体振荡法
比色法 X射线荧光法 离子探针法 放射性分析法
质量膜厚
质量测定法
原子数测定法
物性膜厚
电学方法
光学方法
电阻法 电容法 涡流法 电压法
干涉色法 椭圆偏振法 光吸收法
微量天平法（质量膜厚）
方法：将微量天平设置在真空室内，把蒸镀的基片吊 在天平横梁的一端，测出随薄膜的淀积而产生的天平 倾斜，进而求出薄膜的积分堆积量，然后换算为膜厚。 由此便可得到质量膜厚。
nt=λ/4 反射率达到最小值 nt=λ/2 反射率达到最大值
薄膜折射率>比较片折射率 （曲线4,5）
nt=λ/4 反射率达到最大值 nt=λ/2 反射率达到最小值
9.光刻胶膜厚测定
9. 光刻胶膜厚测定陈建军一、测量原理二、测量方法实际生产中，为了判断光刻胶膜厚与其均一性，一般而言采取对角线方式进行逐点测量。
但对于评价实验产品而言，则需采用整面均点测量，但测量点数的最大值受装置自身性能的制约，A1线所采用的光刻胶膜厚测量最多点数为4000点，平时生产采取的对角线测量方式所测点数为75点。
而S1所用基板较大，测量装置原理也不尽相同，其具体测量工程管理方法也会不同。
具体的测量方法：1、将基板平稳的放置在测试基台上。
2、在终端控制计算机上打开测量所用软件。
2、选定该次测量所用Recipe，调入计算机中。
4、输入测量结果自动保存的文件名，以及文件说明备注（说明备注可以为空）。
5、点击测量开始，设备自动按照Recipe要求，完成测量并自动保存文件，也可同时通过Monitor观察测量结果。
对于整面测量的结果，可以以下图所示样例显示出来，更直观的观察出膜厚的均一性图9.1三、膜厚管理要求根据光刻胶膜厚管理值，要求Range/2X≤3％；X1＝15000Å，则R≤900 Å；X2＝20000 Å（S14Mask采用22000 Å），则R≤1200 Å实际上,A1，A2Line在工程上管理最大值、最小值、与Range。
（1）Max、Min≤1000 Å（2）Range≤1000 Å四、设备测量精度确认1、方法：定期地进行标准样品膜厚测定与校正2、管理项目：膜厚的最大值、最小值、平均值、最大最小值之差，在基准样品初期值的正负100埃之内。
3、测定频度：1回/月。
薄膜厚度测试
什么是薄膜
薄膜是不同于其他物态（固液气、等离子） 的一种新的凝聚态，物质的第五态。薄膜就是 薄层材料，分为：气体薄膜、液体薄膜和固体 薄膜。
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薄膜测量方法
膜厚检查方法
机械法
电学法
光学法
X ---
---
称仪机 光 量械 学 法探 机
针械 法法
台 阶
磨磨 线 交 晶 电 干
偏
角角 、 流 体 子 涉 光 光
很小，易将薄膜划伤、
损坏
使用范 应用于较高硬度的薄膜。面对直径的触针，才
能不使薄膜划伤和避免因膜材粘附在触针
尖上而形成误差。
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石英晶体振荡法
测量原理：基于石英晶体的振荡频率随其质量而 变化的特性。石英晶体具有压电效应，利用该特 性可制成高Q值的电子振荡器。
其谐振频率f与晶体厚度t关系
薄膜厚度的测量
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摘要
此课题的意义 什么是薄膜 薄膜测量方法的分类 机械法------台阶仪 电学法-------晶振 光学法-------椭偏仪
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薄膜厚度测量的意义
由于薄膜的“尺寸效应”的关系，薄膜的 厚度不同，薄膜的电阻率、霍尔系数、光反射 率等性质都会有所不同。为了更好地研究物质 结构及性能，我们希望对各种膜厚的测量和控 制提供更为灵敏和准确的手段。
台阶仪、石英晶振、椭偏仪这三种测量方法测得的薄膜厚 度，分别属于形状膜厚dT，质量膜厚dM，物性膜厚dP
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台阶仪测量原理
形状薄膜测厚法 台阶法（触针法）：这是将表面光洁度测量移
用与薄膜厚度测量的一种方法。 • 测量具体过程：金刚石触针——表面上移
动——触针跳跃运动——高度的变化由位移传 感器转变成电信号——直接进行读数或由记录 仪画出表面轮廓曲线。