集成电路设计练习题
集成电路技术集成电路工艺原理试卷(练习题库)(2023版)
集成电路技术集成电路工艺原理试卷(练习题库)1、用来做芯片的高纯硅被称为(),英文简称(),有时也被称为()。
2、单晶硅生长常用()和()两种生长方式,生长后的单晶硅被称为()。
3、晶圆的英文是(),其常用的材料是()和()。
4、晶圆制备的九个工艺步骤分别是()、整型、()、磨片倒角、刻蚀、()、清洗、检查和包装。
5、从半导体制造来讲,晶圆中用的最广的晶体平面的密勒符号是()、O 和()。
6、CZ直拉法生长单晶硅是把()变为()并且()的固体硅锭。
7、CZ直拉法的目的是()。
8、影响CZ直拉法的两个主要参数是O和()。
9、晶圆制备中的整型处理包括()、()和()。
10、制备半导体级硅的过程:1、();2、();3、O011、热氧化工艺的基本传输到芯片的不同部分。
77、多层金属化指用来连接硅片上高密度堆积器件的那些金属层。
78、阻挡层金属是淀积金属或金属塞,其作用是增加上下层材料的附着。
79、关键层是指那些线条宽度被刻蚀为器件特征尺寸的金属层。
80、传统互连金属线的材料是铝,即将取代它的金属材料是铜。
81、溅射是个化学过程,而非物理过程。
82、表面起伏的硅片进行平坦化处理,主要采用将低处填平的方法。
83、化学机械平坦化,简称CMP,它是一种表面全局平坦化技术。
84、平滑是一种平坦化类型,它只能使台阶角度圆滑和侧壁倾斜,但高度没有显著变化。
85、反刻是一种传统的平坦化技术,它能够实现全局平坦化。
86、电机电流终点检测不适合用作层间介质的化学机械平坦化。
87、在CMP为零的转换器。
133、CD是指硅片上的最小特征尺寸。
134、集成电路制造就是在硅片上执行一系列复杂的化学或者物理操作。
简而言之,这些操作可以分为四大基本类:薄膜135、人员持续不断地进出净化间,是净化间沾污的最大来源。
136、硅片制造厂可分为六个的区域,各个区域的照明都采用同一种光源以达到标准化。
137、世界上第一块集成电路是用硅半导体材料作为衬底制造的。
1+X集成电路理论练习题含参考答案
1+X集成电路理论练习题含参考答案一、单选题(共40题,每题1分,共40分)1、在电子产品测试中需保证测试环境稳定,其中使用环境稳定是指()。
A、使用人员操作得当B、硬件的工作参数稳定C、软件的工作参数稳定D、模拟真实用户使用时的场景正确答案:D2、以全自动探针台为例,关于上片的步骤,下列所述正确的是:( )。
A、打开盖子→花篮放置→花篮下降→花篮到位→花篮固定→合上盖子B、打开盖子→花篮放置→花篮到位→花篮下降→花篮固定→合上盖子C、打开盖子→花篮放置→花篮下降→花篮固定→花篮到位→合上盖子D、打开盖子→花篮放置→花篮固定→花篮下降→花篮到位→合上盖子正确答案:D答案解析:以全自动探针台为例,上片的步骤为:打开盖子→花篮放置→花篮固定→花篮下降→花篮到位→合上盖子。
3、转塔式分选机设备进行编带后,进入( )环节。
A、上料B、测试C、外观检查D、真空包装正确答案:C答案解析:转塔式分选机设备芯片检测工艺的操作步骤一般为:上料→测试→编带→外观检查→真空包装。
4、通常情况下,一个内盒中装入的DIP管装芯片( )颗。
A、3000B、1000C、5000D、2000正确答案:D答案解析:一般情况下,一个内盒中装入的DIP管装芯片2000颗。
5、元器件的引线直径与印刷焊盘孔径应有()的合理间隙。
A、0.1~0.4mmB、0.2~0.3mmC、0.1~0.3mmD、0.2~0.4mm正确答案:D6、在电子电路方案设计中最简单的显示平台是()。
A、OLEDB、LCDC、LEDD、数码管正确答案:C7、平移式分选机进行料盘上料时,在上料架旁的红色指示灯亮的含义是( )。
A、上料机构故障B、上料架上有料盘C、上料架上有空料盘D、上料架上没有料盘正确答案:B答案解析:平移式分选机进行料盘上料时,上料架上是否有料盘可以通过上料架旁的传感器进行检测。
当传感器指示灯为红色时,表明上料架上还有料盘,可以继续进行上料,当传感器指示灯为绿色时,表明上料架上无料盘,停止上料。
1+X集成电路理论习题及答案
1+X集成电路理论习题及答案1、在电子产品测试中需保证测试环境稳定,其中使用环境稳定是指()。
A、软件的工作参数稳定B、模拟真实用户使用时的场景C、使用人员操作得当D、硬件的工作参数稳定答案:B2、单晶硅锭切片后需要进行倒角,其目的是( )。
A、确定定位面B、产生精确的材料直径C、去除硅锭两端的不符合直径要求的部分D、去除硅片边缘锋利的棱角答案:D定位面研磨时为了确定硅锭的定位面。
径向研磨获得更精确的直径。
切割分段是为了去除硅锭两端的不符合直径要求的部分。
倒角是为了去除硅片边缘锋利的棱角使硅片边缘获得平滑的半径周线。
3、在使用万用表之前先应()。
A、机械调零B、选择合适的量程C、选择合适的挡位D、表笔短接答案:A4、下列描述正确的是()。
A、DIP和S0P封装一般为重力式分选B、PLCC和LCCC封装一般为重力式分选C、QFP和SOP封装一般为重力式分选D、BGA封装一般为重力式分选答案:A5、一般情况下,待编至( )颗时,需更换卷盘,并在完成编带的卷盘上贴上小标签,便于后期识别。
A、2000B、4000C、6000D、8000答案:B一般情况下,待编至4000颗左右时,需要更换卷盘,即一盘编带一般装有4000颗的芯片。
6、二氧化硅和碳在( )℃的环境下反应可生成粗硅。
A、100~200B、500~700C、700~900D、1600~1800答案:D因为硅—氧之间的键结很强,所以二氧化硅非常稳定,因此要用碳进行还原反应则需要很高的温度。
一般工业上将二氧化硅和碳在1600~1800℃的温度下反应,破坏硅—氧之间的键结,进而生成粗硅和一氧化碳。
7、重力式分选机进行芯片检测时,测试机对芯片测试完毕后,将检测结果通过()把结果传回分选机。
A、串口B、GPIBC、数据线D、VGA答案:B8、下面选项中不属于激光打字的优点的是()。
A、塑封体上易反复进行B、字迹清晰C、精度高D、不易擦除答案:A9、塑封一般采用()为塑封料。
数字集成电路习题
带入延迟公式可得,反相器链的延迟
t p N t p 0 (1
N
F
) 5 70 ps (1
5
2000 ) 1960 ps 2ns 1
c. 方法 a 的延迟时间
t p t p 0 (1
j 1
N
C g , j 1
C g , j
) t p 0 (1
解:VGS=VDS=2.5V,管子工作在饱和区。 栅沟电容 CGC=W*L*Cox=0.36um*0.24um*6fF/um2=0.52fF 栅与源漏区的交叠电容 Cov=CGSO=CGDO=W*Co=0.36um*0.31fF/um=0.11fF 栅电容 CG=CGC+2Cov=0.52 fF +2*0.11 fF=0.74fF 栅源电容 CGS=2CGC/3+Cov=2*0.52fF/3+0.11=0.46fF 栅漏电容 CGD=Cov=0.11fF 管子的源区和衬底都接地,所以源衬底扩散结处于零偏状态。有 Cs,bottom=W*LD*Cj0=0.36um*0.625um*2fF/um2=0.45fF Cs,sw=(W+2LD)*Cjsw0=(0.36um+2*0.625um)*0.28um/fF=0.45fF CSB= Cs,bottom + Cs,sw =0.45fF+0.45fF=0.9fF 管子的漏区接 2.5V,衬底接地,所以漏衬底扩散结处于反偏状态。有 CD,bottom=W*LD*Cj0/(1-VD/φ b)mj =0.36um*0.625um*2(fF/um2)/[1-(-2.5V)/0.9V]0.5 =0.23fF CD,sw=(W+2LD)*Cjsw0/(1-VD/φ bsw)mjsw =(0.36um+2*0.625um)*0.28(um/fF)/[1-(-2.5V)/0.9]0.44 =0.25fF CDB= CD,bottom + CD,sw =0.23fF+0.25fF=0.48fF
【精品】数字集成电路电路、系统与设计第二版课后练习题第六章CMOS组合逻辑门的设计
【精品】数字集成电路--电路、系统与设计(第二版)课后练习题第六章CMOS组合逻辑门的设计第六章 CMOS组合逻辑门的设计1.为什么CMOS电路逻辑门的输入端和输出端都要连接到电源电压?CMOS电路采用了MOSFET(金属氧化物半导体场效应管)作为开关元件,其中N沟道MOSFET(NMOS)和P沟道MOSFET(PMOS)分别用于实现逻辑门的输入和输出。
NMOS和PMOS都需要连接到电源电压,以使其能够正常工作。
输入端连接到电源电压可以确保信号在逻辑门中正常传递,输出端连接到电源电压可以确保输出信号的正确性和稳定性。
2.为什么在CMOS逻辑门中要使用两个互补的MOSFET?CMOS逻辑门中使用两个互补的MOSFET是为了实现高度抗干扰的逻辑功能。
其中,NMOS和PMOS分别用于实现逻辑门的输入和输出。
NMOS和PMOS的工作原理互补,即当NMOS导通时,PMOS截止,当PMOS导通时,NMOS截止。
这样的设计可以在逻辑门的输出上提供高电平和低电平的稳定性,从而提高逻辑门的抗干扰能力。
3.CMOS逻辑门的输入电压范围是多少?CMOS逻辑门的输入电压范围通常是在0V至电源电压之间,即在低电平和高电平之间。
在CMOS逻辑门中,低电平通常定义为输入电压小于0.3Vdd(电源电压的30%),而高电平通常定义为输入电压大于0.7Vdd(电源电压的70%)。
4.如何设计一个基本的CMOS逻辑门?一个基本的CMOS逻辑门可以由一个NMOS和一个PMOS组成。
其中,NMOS的源极连接到地,栅极连接到逻辑门的输入,漏极连接到PMOS的漏极;PMOS的源极连接到电源电压,栅极连接到逻辑门的输入,漏极连接到输出。
这样的设计可以实现逻辑门的基本功能。
5.如何提高CMOS逻辑门的速度?可以采取以下方法来提高CMOS逻辑门的速度:•减小晶体管的尺寸:缩小晶体管的尺寸可以减小晶体管的电容和电阻,从而提高逻辑门的响应速度。
•优化电源电压:增加电源电压可以提高晶体管的驱动能力,从而加快逻辑门的开关速度。
《超大规模集成电路设计》习题(含答案)
《超大规模集成电路设计》习题1.集成电路的发展过程经历了哪些发展阶段?划分集成电路的标准是什么?集成电路的发展过程:•小规模集成电路(Small Scale IC ,SSI)•中规模集成电路(Medium Scale IC ,MSI)•大规模集成电路(Large Scale IC ,LSI) •超大规模集成电路(Very Large Scale IC ,VLSI)•特大规模集成电路(Ultra Large Scale IC ,ULSI)•巨大规模集成电路(Gigantic Scale IC ,GSI )2.超大规模集成电路有哪些优点?1. 降低生产成本VLSI 减少了体积和重量等,可靠性成万倍提高,功耗成万倍减少.2.提高工作速度VLSI 内部连线很短,缩短了延迟时间.加工的技术越来越精细.电路工作速度的提高,主要是依靠减少尺寸获得. 3. 降低功耗芯片内部电路尺寸小,连线短,分布电容小,驱动电路所需的功率下降.4. 简化逻辑电路芯片内部电路受干扰小,电路可简化.5.优越的可靠性采用VLSI 后,元件数目和外部的接触点都大为减少,可靠性得到很大提高。
6.体积小重量轻7.缩短电子产品的设计和组装周期一片VLSI 组件可以代替大量的元器件,组装工作极大的节省,生产线被压缩,加快了生产速度.3.简述双阱CMOS 工艺制作CMOS 反相器的工艺流程过程。
4.在VLSI 设计中,对互连线的要求和可能的互连线材料是什么?5.在进行版图设计时为什么要制定版图设计规则?划分集成电路规模的标准数字集成电路类别MOS IC 双极IC 模拟集成电路SSI <102<100 <30 MSI 102~103100~500 30~100 LSI 103~105500~2000 100~300 VLSI 105~107>2000 >300 ULSI 107~109GSI >109在芯片尺寸尽可能小的前提下,使得即使存在工艺偏差也可以正确的制造出IC,尽可能地提高电路制备的成品率6.版图验证和检查主要包括哪些方面?u DRC(Design Rule Check):几何设计规则检查;对IC的版图做几何空间检查,保证能在特定的工艺条件下实现所设计的电路,并保证一定的成品率;u ERC(Electrical Rule Check):电学规则检查;检查电源(power)/地(ground)的短路,浮空的器件和浮空的连线等指定的电气特性;u LVS(Loyout versus Schematic):网表一致性检查;将版图提出的网表和原理图的网表进行比较,检查电路连接关系是否正确,MOS晶体管的长/宽尺寸是否匹配,电阻/电容值是否正确等;u LPE(Layout Parameter Extraction):版图寄生参数提取;从版图中提取晶体管的尺寸、结点的寄生电容、连线的寄生电阻等参数,并产生SPICE 格式的网表,用于后仿真验证;u POSTSIM:后仿真,检查版图寄生参数对设计的影响;提取实际版图参数、电阻、电容,生成带寄生量的器件级网表,进行开关级逻辑模拟或电路模拟,以验证设计出的电路功能的正确性和时序性能等,并产生测试向量。
(完整版)集成电路设计复习题及解答
集成电路设计复习题绪论1.画出集成电路设计与制造的主要流程框架。
2.集成电路分类情况如何?集成电路设计1.层次化、结构化设计概念,集成电路设计域和设计层次2.什么是集成电路设计?集成电路设计流程。
(三个设计步骤:系统功能设计逻辑和电路设计版图设计)3.模拟电路和数字电路设计各自的特点和流程4.版图验证和检查包括哪些内容?如何实现?5.版图设计规则的概念,主要内容以及表示方法。
为什么需要指定版图设计规则?6.集成电路设计方法分类?(全定制、半定制、PLD)7.标准单元/门阵列的概念,优点/缺点,设计流程8.PLD设计方法的特点,FPGA/CPLD的概念9.试述门阵列和标准单元设计方法的概念和它们之间的异同点。
10.标准单元库中的单元的主要描述形式有哪些?分别在IC设计的什么阶段应用?11.集成电路的可测性设计是指什么?Soc设计复习题1.什么是SoC?2.SoC设计的发展趋势及面临的挑战?3.SoC设计的特点?4.SoC设计与传统的ASIC设计最大的不同是什么?5.什么是软硬件协同设计?6.常用的可测性设计方法有哪些?7. IP的基本概念和IP分类8.什么是可综合RTL代码?9.么是同步电路,什么是异步电路,各有什么特点?10.逻辑综合的概念。
11.什么是触发器的建立时间(Setup Time),试画图进行说明。
12.什么是触发器的保持时间(Hold Time),试画图进行说明。
13. 什么是验证,什么是测试,两者有何区别?14.试画图简要说明扫描测试原理。
绪论1、 画出集成电路设计与制造的主要流程框架。
2、集成电路分类情况如何?集成电路设计1. 层次化、结构化设计概念,集成电路设计域和设计层次分层分级设计和模块化设计.将一个复杂的集成电路系统的设计问题分解为复杂性较低的设计级别,⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎩⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎨⎧⎪⎪⎪⎪⎩⎪⎪⎪⎪⎨⎧⎩⎨⎧⎩⎨⎧⎪⎪⎪⎪⎩⎪⎪⎪⎪⎨⎧⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎩⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎨⎧⎩⎨⎧⎪⎪⎪⎪⎩⎪⎪⎪⎪⎨⎧⎩⎨⎧⎪⎩⎪⎨⎧按应用领域分类数字模拟混合电路非线性电路线性电路模拟电路时序逻辑电路组合逻辑电路数字电路按功能分类GSI ULSI VLSI LSI MSI SSI 按规模分类薄膜混合集成电路厚膜混合集成电路混合集成电路B iCMOS B iMOS 型B iMOS CMOS NMOS PMOS 型MOS双极型单片集成电路按结构分类集成电路这个级别可以再分解到复杂性更低的设计级别;这样的分解一直继续到使最终的设计级别的复杂性足够低,也就是说,能相当容易地由这一级设计出的单元逐级组织起复杂的系统。
1+X集成电路理论模拟练习题+答案
1+X集成电路理论模拟练习题+答案一、单选题(共40题,每题1分,共40分)1、芯片完成编带并进行清料后,会将完成编带的芯片放在( )上。
A、已检查品货架B、待检查品货架C、待外检货架D、合格品货架正确答案:B答案解析:芯片完成编带并进行清料后,将将编带盘、随件单放入对应的中转箱中,并将中转箱放在待检查品货架上等待外观检查。
2、利用平移式分选设备进行芯片检测时,芯片在该区域的操作完成后会进入()区域。
A、分选B、待测C、上料D、测试正确答案:A3、晶圆检测工艺对环境的其中一项——温度的要求范围是( )℃。
A、22±3B、20±5C、25±3D、20±3正确答案:A答案解析:晶圆检测工艺对环境的要求:测试车间符合10万级洁净区标准,温度常年保持在22±3℃,湿度保持在45±15%。
4、编带过程中,在进行热封处理后,需要进行( )环节。
A、芯片放入载带B、密封C、编带收料D、光检正确答案:C答案解析:转塔式分选机进行编带的步骤是:芯片光检→载带移动→热封处理→编带收料→清料。
5、平移式分选机设备的上料步骤正确的是:( )。
A、待测芯片上料→吸嘴转移芯片→空料盘替换B、吸嘴转移芯片→待测芯片上料→空料盘替换C、空料盘替换→待测芯片上料→吸嘴转移芯片D、吸嘴转移芯片→空料盘替换→待测芯片上料正确答案:A答案解析:平移式分选机设备的上料步骤为:待测芯片上料→吸嘴转移芯片→空料盘替换。
6、单晶炉中籽晶轴的作用是( )。
A、保证炉内温度均匀分布及散热B、带动籽晶上下移动和旋转C、起支撑作用D、提供一个原子重新排列标准正确答案:B答案解析:籽晶轴的作用是带动籽晶上下移动和旋转;籽晶的作用是提供一个原子重新排列的标准;坩埚外的高纯石墨坩埚托起支撑作用;炉腔可以保证炉内温度均匀分布及散热。
7、晶圆贴膜过程中,需要外加一个(),它起到支撑的作用。
A、晶圆基底圆片B、晶圆贴片环C、蓝膜支撑架D、固定挂钩正确答案:B答案解析:在贴膜过程中,需要外加一个厚度与晶圆一致但环内径比晶圆直径大的金属环,也就是晶圆贴片环。
集成电路技术集成电路技术综合练习试卷(练习题库)(2023版)
集成电路技术集成电路技术综合练习试卷(练习题库)1、什么叫半导体集成电路?2、按照半导体集成电路的集成度来分,分为哪些类型,请同时写出它们对应的英文缩写。
3、按照器件类型分,半导体集成电路分为哪几类?4、按电路功能或信号类型分,半导体集成电路分为哪几类?5、什么是特征尺寸?它对集成电路工艺有何影响?6、简述四层三结的结构的双极型晶体管中隐埋层的作用。
7、在制作晶体管的时候,衬底材料电阻率的选取对器件有何影响是?8、简单叙述一下pn结隔离的NPN晶体管的光刻步骤。
9、简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤。
10、以P阱CMOS工艺为基础的BiCMOS的有哪些不足?11、以N阱CMOS工艺为基础的BiCMOS的有哪些优缺点?并请提出改进方法。
12、简述集成双极晶体管的有源寄生效应在其各工作区能否忽略?13、什么是集成双极晶体管的无源寄生效应?14、什么是MOS晶体管的有源寄生效应?15、什么是MOS晶体管的闩锁效应,其对晶体管有什么影响?16、如何解决MOS器件的场区寄生MOSFET效应?17、如何解决MOS器件中的寄生双极晶体管效应?18、双极性集成电路中最常用的电阻器和MOS集成电路中常用的电阻都有哪些?19、集成电路中常用的电容有哪些?20、为什么基区薄层电阻需要修正?21、为什么新的工艺中要用铜布线取代铝布线?22、电压传输特性23、开门电平24、关门电平25、逻辑摆幅26、静态功耗27、在四管标准与非门中,那个管子会对瞬态特性影响最大,并分析原因以及带来那些困难。
28、两管与非门有哪些缺点,四管及五管与非门的结构相对于两管与非门在那些地方做了改善,并分析改善部分是如何29、相对于五管与非门六管与非门的结构在那些部分作了改善,分析改进部分是如何工作的?30、四管与非门中,如果高电平过低,低电平过高,分析其原因,如与改善方法,请说出你的想法。
31、为什么TT1与非门不能直接并联。
32、OC门在结构上作了什么改进,它为什么不会出现TT1与非门并联的问题?33、什么是器件的亚阈值特性,对器件有什么影响?34、MOS晶体管的短沟道效应是指什么,其对晶体管有什么影响?35、请以PMOS晶体管为例解释什么是衬偏效应,并解释其对PMOS晶体管阈值电压和漏源电流的影响。
《集成电路设计(第2版)》习题答案1-5章
CH3
1. 写出晶体外延的意义,列出三种外延生长方法,并比较各自的优缺点。 意义:用同质材料形成具有不同掺杂种类及浓度而具有不同性能的晶体层。外延方法: 液态生长,气相外延生长,金属有机物气相外延生长 2.写出掩膜在 IC 制造过程中的作用,比较整版掩膜和单片掩膜的区别,列举三种掩膜的制 造方法。P28,29 3.写出光刻的作用,光刻有哪两种曝光方式? 作用: 把掩膜上的图形转换成晶圆上的器 件结构。曝光方式有接触与非接触两种。 4.X 射线制版和直接电子束直写技术替代光刻技术有什么优缺点? X 射线(X-ray)具有比可见光短得多的波长,可用来制作更高分辨率的掩膜版。电子
影响,界面势阱的影响 6. 什么是 MOS 器件的体效应? 由于衬底与源端未连接在一起,而引起的阈值电压的变化叫做体效应。 7. 说明 L、W 对 MOSFET 的速度、功耗、驱动能力的影响。 P70,71 8. MOSFET 按比例收缩后对器件特性有什么影响?
I DS
不变,器件占用面积减少,提高电路集成度,减少功耗
CH1
1. 按规模划分,集成电路的发展已经经历了哪几代?它的发展遵循了一条业界著名的定 律,请说出是什么定律? 晶体管-分立元件-SSI-MSI-LSI-VLSI-ULSI-GSI-SOC。MOORE 定律 2. 什么是无生产线集成电路设计?列出无生产线集成电路设计的特点和环境。 拥有设计人才和技术,但不拥有生产线。特点:电路设计,工艺制造,封装分立运行。 环境:IC 产业生产能力剩余,人们需要更多的功能芯片设计 3. 多项目晶圆(MPW)技术的特点是什么?对发展集成电路设计有什么意义? MPW:把几到几十种工艺上兼容的芯片拼装到一个宏芯片上,然后以步行的方式排列 到一到多个晶圆上。意义:降低成本。 4. 集成电路设计需要哪四个方面的知识? 系统,电路,工具,工艺方面的知识
半导体集成电路练习题
半导体集成电路练习题一、基础知识类1. 填空题1.1 半导体材料主要包括________、________和________。
1.2 PN结的正向特性是指________,反向特性是指________。
1.3 MOS晶体管的三个工作区分别是________、________和________。
2. 判断题2.1 半导体集成电路的导电性能介于导体和绝缘体之间。
()2.2 N型半导体中的自由电子浓度高于P型半导体。
()2.3 CMOS电路具有静态功耗低的特点。
()二、数字电路类1. 选择题1.1 TTL与非门电路中,当输入端全部为高电平时,输出为()。
A. 高电平B. 低电平C. 不确定D. 无法判断A. 与门B. 或门C. 非门D. 异或门A. PMOS管导通时,NMOS管截止B. PMOS管截止时,NMOS管导通C. PMOS管和NMOS管同时导通D. PMOS管和NMOS管同时截止2. 填空题2.1 数字电路中的逻辑门主要有________、________、________和________等。
2.2 半加器是由________和________组成的。
2.3 全加器的三个输入端分别是________、________和________。
三、模拟电路类1. 选择题A. 非反相比例运算放大器B. 反相比例运算放大器C. 电压跟随器D. 差分放大器1.2 在运算放大器电路中,虚短是指________。
()A. 输入端短路B. 输出端短路C. 输入端与地之间短路D. 输入端与输出端之间短路A. 低通滤波器允许低频信号通过,抑制高频信号B. 高通滤波器允许低频信号通过,抑制高频信号C. 带通滤波器允许一定频率范围的信号通过D. 带阻滤波器允许一定频率范围的信号通过2. 填空题2.1 模拟信号的特点是________、________和________。
2.2 运算放大器的主要参数有________、________和________。
集成电路设计基础期末考试复习题
全部复习题均可在教材上找到参考答案!!!1.摩尔定律的内容:单位面积芯片上所能容纳的器件数量,每12-18个月翻一番。
2.摩尔定律得以保持的途径:特征尺寸不断缩小、增大芯片面积及单元结构的改进。
3.图形的加工是通过光刻和刻蚀工艺完成的。
4.在场区中,防止出现寄生沟道的措施:足够厚的场氧化层、场区注硼、合理的版图。
5.形成SOI材料的三种主要技术:注氧隔离技术、键合减薄技术、智能剥离技术。
6.实际的多路器和逆多路器中输入和输出一般是多位信息,如果对m个n位数据进行选择,则需要n位m选一多路器。
7.在氧化层上形成所需要的图形的步骤:甩胶、曝光、显影、刻蚀、去胶。
8.版图设计规则可以用两种形式给出:微米规则和λ规则。
9.常规CMOS结构的闩锁效应严重地影响电路的可靠性,解决闩锁效应最有效的办法是开发多晶硅技术。
10.要实现四选一多路器,应该用2位二进制变量组成4个控制信号,控制4个数据的选择。
11.摩尔分析了集成电路迅速发展的原因,他指出集成度的提高主要是三方面的贡献:特征尺寸不断缩小、芯片面积不断增大、器件和电路结构的不断改进。
12.缩小特征尺寸的目的:使集成电路继续遵循摩尔定律提高集成密度;提高集成度可以使电子设备体积更小、速度更高、功耗更低;降低单位功能电路的成本,提高产品的性能/价格比,使产品更具竞争力。
13.N阱CMOS主要工艺步骤:衬底硅片的选择→制作n阱→场区氧化→制作硅栅→形成源、漏区→形成金属互连线。
14.解决双极型晶体管纵向按比例缩小问题的最佳方案之一,就是采用多晶硅发射极结构,避免发射区离子注入对硅表面的损伤。
15.n输入与非门设计考虑,根据直流特性设计:Kr=KN/KP=n3/2;根据瞬态特性设计:Kr=KN/KP=n。
n输入或非门设计考虑,根据直流特性设计:Kr=KN/KP=n-3/2;根据瞬态特性设计:Kr= Kr=KN/KP=1/n.16.CE等比例缩小定律要求器件的所有几何尺寸,包括横向和纵向尺寸,都缩小k倍;衬底掺杂浓度增大K倍;电源电压下降K倍。
(整理)集成电路设计习题答案1-5章
CH11.按规模划分,集成电路的发展已经经历了哪几代?它的发展遵循了一条业界著名的定律,请说出是什么定律?晶体管-分立元件-SSI-MSI-LSI-VLSI-ULSI-GSI-SOC。
MOORE定律2.什么是无生产线集成电路设计?列出无生产线集成电路设计的特点和环境。
拥有设计人才和技术,但不拥有生产线。
特点:电路设计,工艺制造,封装分立运行。
环境:IC产业生产能力剩余,人们需要更多的功能芯片设计3.多项目晶圆(MPW)技术的特点是什么?对发展集成电路设计有什么意义?MPW:把几到几十种工艺上兼容的芯片拼装到一个宏芯片上,然后以步行的方式排列到一到多个晶圆上。
意义:降低成本。
4.集成电路设计需要哪四个方面的知识?系统,电路,工具,工艺方面的知识CH21.为什么硅材料在集成电路技术中起着举足轻重的作用 ?原材料来源丰富,技术成熟,硅基产品价格低廉2.GaAs和InP材料各有哪些特点? P10,11 3.怎样的条件下金属与半导体形成欧姆接触?怎样的条件下金属与半导体形成肖特基接触?接触区半导体重掺杂可实现欧姆接触,金属与掺杂半导体接触形成肖特基接触4.说出多晶硅在CMOS工艺中的作用。
P13 5.列出你知道的异质半导体材料系统。
GaAs/AlGaAs, InP/ InGaAs, Si/SiGe, 6.SOI材料是怎样形成的,有什么特点?SOI绝缘体上硅,可以通过氧隔离或者晶片粘结技术完成。
特点:电极与衬底之间寄生电容大大减少,器件速度更快,功率更低7. 肖特基接触和欧姆型接触各有什么特点?肖特基接触:阻挡层具有类似PN结的伏安特性。
欧姆型接触:载流子可以容易地利用量子遂穿效应相应自由传输。
8. 简述双极型晶体管和MOS晶体管的工作原理。
P19,21CH31.写出晶体外延的意义,列出三种外延生长方法,并比较各自的优缺点。
意义:用同质材料形成具有不同掺杂种类及浓度而具有不同性能的晶体层。
外延方法:液态生长,气相外延生长,金属有机物气相外延生长2.写出掩膜在IC制造过程中的作用,比较整版掩膜和单片掩膜的区别,列举三种掩膜的制造方法。
集成电路设计复习题
集成电路设计复习题(部分)相关说明:(1)这只是部分内容,但基本可以保证大家通过考试;(2)请大家利用这个周末的时间好好复习,希望大家最好都能记住;(3)最后强调一下:因为最后一周是考试周,学校考场纪律会比较严格,巡考的老师和领导会比较多,大家最好不要带纸条到考场!也就是说,之前的允许大家打小抄的说法基本作废!该花的时间还是要花的!祝大家考试顺利!1、集成电路的发展遵循了什么定律?简述集成电路设计流程。
说明版图设计在整个集成电路设计中所起的作用。
2、(1)集成电路设计方法的种类主要有哪些?(2)名词解释:ASIC、SOC、DSP、HDL等常见缩写3、(1)描述多晶硅在CMOS工艺中所起的基本作用。
(2)假定某材料的方块电阻值为10 Ω,电阻的长度为30 μm,宽度为10 μm,该电阻阻值为多少?如果其他条件不变,长度变为25 μm,则该电阻的阻值又是多少?4、SOI材料是怎样形成的,有何特点?肖特基接触和欧姆型接触各有什么特点?5、讨论半导体工艺中掺杂的作用,举出两种掺杂方法,并比较其优缺点。
6、写出晶体外延的意义,列出三种外延生长方法,并说明各自的优缺点。
给出光刻的作用,光刻有哪两种曝光方式。
7、简述双阱CMOS工艺的基本工艺流程。
8、(1)MOSFET的饱和电流主要取决于哪些参数?(2)什么是MOS器件的体效应?请指出(3)版图中有源区接触孔、多晶硅接触孔和通孔的作用各是什么?8、讨论MOSFET的基本结构。
讨论MOSFET的阈值电压及其影响因素。
9、画出电阻的高频等效电路。
集成电路电路级模拟的标准工具是什么软件,能进行哪些性能分析?10、信号线的版图设计准则有哪些?集成电路封装工艺基本流程有哪些?11、(1)版图设计规则中的基本几何关系主要包括哪几种,试画图说明?(2)电源线的版图设计准则有哪些?(3)某电阻需要通过100微安电流,该电阻宽2微米,如果它的电流密度值为0.12毫安/微米,试通过计算判断该电阻能否可靠工作。
1+X集成电路理论练习题库(含答案)
1+X集成电路理论练习题库(含答案)一、单选题(共40题,每题1分,共40分)1、当芯片移动到气轨( )时,旋转台吸嘴吸取芯片。
A、首端B、中端C、末端D、任意位置正确答案:C答案解析:当芯片移动到气轨末端时,旋转台吸嘴的升降电机到达芯片正上方,吸嘴产生一定负压将该芯片吸起,升降电机上移并后退进入旋转台,上料完成。
2、{在扎针测试时,需要记录测试结果,根据以下入库晶圆测试随件单的信息,如果刚测完片号为5的晶圆,那么下列说法正确的是:( )。
}A、TOTAL=5968,PASS=5788B、TOTAL=6000,PASS=5820C、T0TAL=5820,FAIL=180D、TOTAL=5788,FAIL=212正确答案:B答案解析:入库晶圆测试随件单中的合格数指的是除去测试不合格及外观不合格的合格数量,因此,总数TOTAL=“合格数”+“测试不良数”+“外观剔除数”,测试合格数PASS=“合格数”+“外观剔除数”,测试不合格数FAIL=“测试不良数”。
所以对于片号为5的晶圆,TOTAL=6000,PASS=5820,FAIL=180。
3、在光刻过程中,完成涂胶后需要进行质量评估,以下不属于涂胶质量评估时,光刻胶覆盖硅片的质量缺陷的是()。
A、光刻胶的回溅B、光刻胶中有针孔C、光刻胶起皮D、光刻胶脱落正确答案:D4、低压化学气相淀积的英文缩写是()。
A、APCVDB、PECVDC、LPCVDD、HDPCVD正确答案:C答案解析:APCVD是常压化学气相淀积;PECVD是等离子体增强型化学气相淀积;LPCVD是低压化学气相淀积;HDPCVD是高密度等离子体化学气相淀积。
5、清洁车间内的墙面时要求使用()进行清洁。
A、麻布B、不掉屑餐巾纸C、无尘布D、棉正确答案:C答案解析:一周擦一次墙面,清洁车间内的墙时应使用无尘布。
无尘布由100%聚酯纤维双面编织而成,表面柔软,易于擦拭敏感表面,摩擦不脱纤维,具有良好的吸水性及清洁效率。
数字集成电路设计第四章习题
1. 如下图所示时钟数, 根据下表中提供的电容电阻数据, 计算从节点A到节点B的Elmore 延时。
图计算延时的RC树
表Values of the components in the RC tree
Resistor Value( ) Capacitor Value(fF)
R1 0.25 C1 250
R2 0.25 C2 750
R3 0.50 C3 250
R4 100 C4 250
R5 0.25 C5 1000
R6 1.00 C6 250
R7 0.75 C7 500
R8 1000 C8 250
3等分并插入2个传播延时为100ps的反相器,计算在这种情况下各层上整个导线的传播延时。
3.设计一个时钟分布网络,在各个时钟之间的最小偏差是很关键的问题,从一个时钟网络中抽象出如下图所示的RC网络,最初CLK3比CLK1和CLK2的路径更短,为了补偿这一不平衡,在CLK3的路径中插入一个传输门。
1)写出节点CLK3、CLK1和CLK2的时间常数,假设传输门用R3模拟;
2)如果R1=R2=R4=R5=R,C1=C2=C3=C4=C5=C,R3为多大时可以平衡;
3)当R=750Ω,C=200fF,传输门有多大的W/L比可以消除偏差;。
扎维模拟CMOS集成电路设计第三章习题
I D2
1 W nCox (VGS 2 VTH 2 ) 2 (1 NVDS 2 ) 2 L 2
1 10 1.34225 10 4 [3 Vout 0.7 0.45( 0.9 Vout 0.9 )] 2 [1 0.1(3 Vout )] 2 0.5
W g m1 2 nCox I D1 2 1.34225 10 4 100 0.5 10 3 3.66 10 3 A / V L 1
ro1
1 1 20K 1 N I D 0.1V 0.5m A
5
2019/3/28
0.5 1 L 2 p 0.05 2
ro 2 1 1 40K 3 2 I D 2 0.05 0.5 10
AV gm1 (ro1 // ro2 ) 3.66103 (20K // 40K ) 48.8
(2)M1工作在线性区边缘,满足 VGS 1 VTH 1 VDS 1 Vout
Vout sin g Vout max Vout min 2.0033 0.2693 1.734 V
2019/3/28 7
3.3
50 W , RD 2 K, 0 L 1 0.5
cm2 7 F 4 A nCox 350 3.83510 1.34225 10 2 V s cm V2
AV gm1 Rout 5.1945103 782.16 4.06
2019/3/28 12
20 W 3.12 , I1 1mA, I S 0.75mA, 0 L 1 0.5
cm2 F 4 A nCox 350 3.835107 1 . 34225 10 V s cm2 V2 cm2 7 F 4 A pCox 100 3.83510 0.383510 2 V s cm V2
1+X集成电路理论习题及参考答案
1+X集成电路理论习题及参考答案一、单选题(共40题,每题1分,共40分)1、以全自动探针台为例,上片过程中,当承重台下降到指定位置时,( )。
A、红色指示灯亮B、红色指示灯灭C、绿色指示灯亮D、绿色指示灯灭正确答案:B答案解析:以全自动探针台为例,承重台前的两个按钮指示灯:绿色表示上升,红色表示下降。
承重台下降到指定位置后,下降指示灯灭,即红色指示灯灭。
2、分选机选择依据是()。
A、芯片封装类型B、芯片的管脚数量C、芯片的电气特性D、芯片的应用等级正确答案:A3、转塔式分选机常见故障不包括()。
A、真空吸嘴无芯片B、测试卡与测试机调用的测试程序错误C、料轨堵塞D、IC定位错误正确答案:D4、清洗是晶圆制程中不可缺少的环节,使用DHF清洗液进行清洗时,可以去除的物质是()。
A、光刻胶B、颗粒C、金属D、自然氧化物正确答案:D5、用重力式选机设备进行芯片检测的第二个环节是( )。
A、分选B、测试C、上料D、外观检查正确答案:B答案解析:重力式分选机设备芯片检测工艺的操作步骤一般为:上料→测试→分选→编带(SOP)→外观检查→真空包装。
6、晶圆进行扎针测试时,测试机将测试结果通过()传输给探针台。
A、USDB、GPIBC、HDMID、VGA正确答案:B7、下列选项中错误的是()。
A、客户需求量比较少的情况下,是需要编带的。
客户需要的量比较大,则可以不需要编带B、通常情况下,编带机要设置以下参数:1.编带一格的长度;2.编带一卷的数量;3.载带与盖带一卷长度;4.前空与后空IC数量;5.机械压刀的温度;6.产速C、编带是指利用编带机把散装元器件,通过检测、换向、测试等工位,放入载带中D、编带机的光检区能够运用高速高精度视觉处理技术自动检测芯片,将管脚不良或印章异常的芯片进行剔除正确答案:A8、墨点打点的位置是在( )的中央。
A、PAD点B、晶粒C、晶圆D、切割通道正确答案:B答案解析:打点时,合格的墨点必须控制在管芯面积的1/4~1/3大小,且墨点不能覆盖PAD点。
《集成电路设计(第2版)》习题答案10-12章
第11章
1. 简述VLSI 设计的一般流程和涉及的问题。 典型的设计流程被划分成三个综合阶段:高层综合、逻辑综合和物理综合。 高层综合也称行为级综合, 它是将系统的行为、 各个组成部分的功能及输入和输出, 用硬件描述语言HDL(如VHDL和Verilog)加以描述,然后进行行为级综合,同时通过高 层次硬件仿真进行验证。 逻辑综合将逻辑级行为描述转化成使用门级单元的结构描述(门级结构描述称为网 表描述),同时还要进行门级逻辑仿真和测试综合。 物理综合也称版图综合,它的任务是将门级网表自动转化成版图。这时对每个单元 确定其几何形状、大小及位置,确定单元间的连接关系。
特点: (1)RAM随机存储器又称为读写存储器,可以“随时”进行读、写操作。RAM必须保持供 电,否则其保存的信息将消失。 DRAM: DRAM单元数据必须周期性地进行读出和重写(刷新),即使存储阵列中没有存储 数据也要如此。由于DRAM 成本低、密度高,因此在PC、大型计算机和工作站中广泛用做主 存储器。 SRAM:SRAM只要不掉电,即使不刷新,数据也不会丢失。由于SARM存取速度高、功耗 低,因此主要作为微处理器、大型机、工作站以及许多便携设备的高速缓冲存储器。 (2) ROM只读存储器在正常运行中只能够对已存储的内容进行读取, 而不允许对存储 的数据进行修改。ROM存储器数据不易丢失,即使在掉电和不刷新的情况下,所存数据也会 保存完好。 掩膜ROM的数据在芯片生产时用光电掩膜写入,其电路简单,集成度高,大批量生产 时价格便宜。 在可编程ROM中, 熔丝型ROM中的数据是通过外加电流把所选熔丝烧断而写入的, 一旦写入后数据就不能再进行擦除和修改。 而EPROM、 EEPROM 中的数据分别可以通过紫外光 照射擦除和电擦除,然后重新写入。闪存(flash)与EEPROM 很相似,它所保存的数据也可通 过外加高电压来擦除,其写入速度比EEPROM更快。
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集成电路设计练习题2009
1、说明一个半导体集成电路成本的组成。
2、简述CMOS工艺流程。
简述CMOS集成电路制造的过程中需要重复进行的工艺步骤。
3、描述你对集成电路工艺的认识。
列举几种集成电路典型工艺。
工艺上常提到0.25,0.18指的是什么?简述CMOS工艺技术的发展趋势。
4、你知道的集成电路设计的表达方式有哪几种?
5、现有一用户需要一种集成电路产品,要求该产品能够实现如下功能:y=lnx 其中,x为4位二进制整数输入信号。
y为二进制小数输出,要求保留两位小数。
电源电压为3~5v 假设公司接到该项目后,交由你来负责该产品的设计,试讨论该产品的设计全程。
6、请谈谈对一个系统设计的总体思路。
针对这个思路,你觉得应该具备哪些方面的知识?
7、描述你对集成电路设计流程的认识。
8、集成电路前端设计流程,后端设计流程,相关的工具。
9、从RTL synthesis到tape out之间的设计flow,并列出其中各步使用的tool.
10、简述FPGA等可编程逻辑器件设计流程。
11、简述半定制数字电路的设计流程。
12、简要说明并比较数字集成电路几种不同的实现方法。
13、什么是集成电路的设计规则。
14、同步电路和异步电路的区别是什么?
15、画出CMOS电路的晶体管级电路图,实现Y=AB+C(D+E)
16、在CMOS电路中,要有一个单管作为开关管精确传递模拟低电平,这个单管你会用P管还是N 管,为什么?
17、硅栅COMS工艺中N阱中做的是P管还是N管,N阱的阱电位的连接有什么要求?
18、名词解释:VLSI, CMOS, EDA, VHDL, DRC, LVS, DFT, STA
19、画出CMOS与非门的电路,并画出波形图简述其功能。
20、latch与register的区别,为什么现在多用register。
行为级描述中latch如何产生的。
21、FPGA和ASIC的概念,他们的区别。
22、Please explain how we describe the resistance in semiconductor. Compare the resistance of a metal, poly and diffusion in traditional CMOS process.(威盛笔试题circuit design-beijing-03.11.09)
23、Please show the CMOS inverter schematic, layout and its cross section with P-well process. Plot its transfer curve (Vout-Vin). And also explain the operation region of PMOS and NMOS for each segment of the transfer curve?
24、Please draw the transistor level schematic of a CMOS 2 input AND gate and explain which input has faster response for output rising edge.(less delay time)。
25、To design a CMOS inverter with balance rise and fall time, please define the ration of channel width of PMOS and NMOS and explain?
26、为什么一个标准的倒相器中P管的宽长比要比N管的宽长比大?
27、画出CMOS晶体管的CROSS-OVER图(应该是纵剖面图),给出所有可能的传输特性和转移特性。
(Infineon笔试试题)
28、目前集成电路产业发展到IP/Soc阶段,你是怎么理解IP复用技术的?
29、可编程逻辑器件在现代电子设计中越来越重要,请问:a) 你所知道的可编程逻辑器件有哪些?
b) 试用VHDL或VERILOG描述8位D触发器逻辑。
30、评价数字集成电路设计质量的指标有哪些?他们分别用什么来表示(或衡量)?
31、你认为目前数字集成电路设计中亟待解决的问题有哪些?为什么?
32、MOSFET本征寄生电容的来源是什么。
计算一个具有以下参数的NMOS管零偏置时所有相关电容的值。
33、特征尺寸的不断缩小对MOS管的工作特点和性质以及间接的对数字电路设计指标等有什么影响。
34、工艺尺寸的缩小对互连线有什么影响?
35、集成电路的导线引哪些寄生参数效应,他们对电路的特性有什么影响?
36、叙述静态CMOS的重要特性。
37、降低电源电压对CMOS管稳定性有何影响。
38、推导反相器一阶传播延时的表达式(一阶分析),说明减小一个门的传播延时的方法。
39、讨论晶体管尺寸与能耗之间的关系。
40、对于由N个反相器组成的具有固定输入和输出电容的反相器链,为使通过反相器链的延时最小,如何确定反向器链的尺寸及级数。
41、CMOS电路的功耗与哪些因素有关,如何降低电路的功耗?
42、如何降低大扇入电路的延时?
43、逻辑门的动态功耗可以通过减小它的实际电容和开关活动性来降低,降低开关活动性的设计技术有哪些?
44、动态逻辑门有哪些特性?
45、时序逻辑电路(锁存器和寄存器)有静态和动态两类,试对这两类电路进行比较。
46、流水线是优化时序电路的一种重要方法,NORA-CMOS逻辑形式的流水线结构有哪些特性。
47、一般数字信号处理器由哪些模块构成,对各模块进行简要说明。
48、说明模拟和验证的区别。
49、什么是Setup 和Holdup时间?setup和holdup时间,区别
50、解释setup time和hold time的定义和在时钟信号延迟时的变化。
51、解释setup和hold time violation,画图说明,并说明解决办法。
52、如何解决亚稳态。
亚稳态是指触发器无法在某个规定时间段内达到一个可确认的状态。
当一个触发器进入亚稳态时,既无法预测该单元的输出电平,也无法预测何时输出才能稳定在某个正确的电平上。
在这个稳定期间,触发器输出一些中间级电平,或者可能处于振荡状态,并且这种无用的输出电平可以沿信号通道上的各个触发器级联式传播下去。
53、时钟周期为T ,触发器D1的建立时间最大为T1max ,最小为T1min 。
组合逻辑电路最大延迟为T2max ,最小为T2min 。
问触发器D2的建立时间T3和保持时间应满足什么条件。
54、给出某个一般时序电路的图,有Tsetup, Tdelay, Tck->q,还有clock 的delay, 写出决定最大时钟的因素,同时给出表达式。
55、给出一个门级的图,又给了各个门的传输延时,问关键路径是什么,还问给出输入,使得输出依赖于关键路径。
56、CMOS 单元负载较大的电容时,只有提高W ,这样会使W*L 增加,相对前级又时一个大电容,如何解决这一矛盾?
57、在设计数字处理器IC 时可采用哪些方法或技术以降低数据通路部分的功耗。
58、为什么数字处理器IC 中数据通路常常组织成位片式结构?
59、数字处理器IC 中加法器对计算结构的性能有重要的影响,为提高多位二进制加法器的运算速度,可以采用哪些方法或技术?
60、如图,已知时序参数:寄存器最小延时
(tc-q,cd )和最大传播延时(tc-q ),寄存器的建立时间(tsetup )和保持时间(thold ),组合逻
辑的最小延时(tlogic,cd )和最大延时(tlogic ),
时钟CLK1和CLK2上升沿相对于全局参考时钟的位置tclk1和tclk2。
时钟偏差(δ)和时钟抖动(tjitter )。
求:不考虑时钟偏差和时钟抖动时满足寄存器建立时间和保持时间要求的时序约束表达式,以及考虑时钟偏差和时钟抖动时满足寄存器建立时间和保持时间要求的时序约束表达式。
61、时钟偏差和时钟抖动是如何产生的,哪些因素可以造成时钟偏差,哪些可造成时钟抖动。
减少时钟偏差和抖动的设计技术有哪些?
c -q t c -q,c
d t su, t hold logic
t logic,cd。