药物杂质分析概述

药物杂质分析概述
药物杂质分析概述

药物杂质分析概述基础导论

药物杂质分析概述基础导论

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目录

目录

1. 药物杂质分析―概述和法规现状 5

1.1 药物杂质的三个主要类别 6

有机杂质 6

无机(元素)杂质 6

残留溶剂 8

1.2 药品杂质控制的代表性出版物和指南 9

2. 用于药物开发中杂质谱分析的分析技术 11

概述11

2.1 制备型液相色谱 (LC) 12

液相色谱和紫外检测 (LC/UV) 12

液质联用系统 (LC/MS) 13

2.2 气相色谱 (GC) 14

2.3 毛细管电泳 (CE) 14

2.4 电感耦合等离子体发射光谱 (ICP-OES) 和电感耦合

等离子体质谱 (ICP-MS) 15

ICP-OES 15

ICP-MS 15

ICP-MS/MS 16

2.5 超临界流体色谱 (SFC) 16

2.6 傅立叶变换红外光谱仪 (FTIR) 17

3

3. 针对三类主要杂质的一系列安捷伦应用解决方案 18

概述18

3.1 有机杂质分析 18

用于药物中有机杂质的严格分析的 LC/MS 系统 24

使用单四极杆 LC/MS 仪进行经济有效的高性能杂质分析 24

使用安捷伦液相色谱/三重四极杆质谱联用仪对 API 中的

杂质进行灵敏、可靠的分析 25

使用安捷伦 LC/TOF 和 LC/Q-TOF 仪器提高痕量杂质鉴定的

分析效率 27

使用 2D-LC/MS 优化方法转移以实现质谱兼容性28

质谱数据分析对于准确的杂质检测和鉴定至关重要30

安捷伦有机杂质谱分析资源 33

3.2 无机杂质分析 34

安捷伦元素杂质分析出版物36

3.3 残留溶剂分析 36

安捷伦残留溶剂分析出版物38

4. 附录 39

4.1 安捷伦药物杂质分析解决方案 39

4.2 色谱柱与备件 40

4.3 软件与信息学产品 40

4.4 实验室法规认证和法规认证咨询 40

4

1. 药物杂质分析―概述和法规现状

药物杂质是活性药物成分 (API) 或药品制剂中不希望存在的化学成分。原料药中

的杂质可能源于合成过程或原料、中间体、试剂、溶剂、催化剂以及反应副产物

等其他来源。在药品开发过程中,杂质可能:

? 由于原料药固有的不稳定性而形成

? 由于与加入的辅料不相容而产生,或

? 与包装材料和容器密封系统 (CCS) 相互作用而产生

原料药中各种杂质的含量决定了最终成品药物的安全性。因此,杂质的鉴定、定

量、定性和控制已成为药物开发过程的关键组成部分。

很多监管机构都在关注杂质的控制:

? 国际协调会议 (ICH)

? 美国食品药品监督管理局 (USFDA)

? 欧洲药品管理局 (EMA)

? 加拿大药品与健康管理局

? 日本药物和医疗器械管理局 (PMDA)

? 澳大利亚卫生和老龄治疗商品管理局

此外,很多官方药典(如英国药典 (BP)、美国药典 (USP)、日本药典 (JP)、欧洲

药典 (EP) 和中华人民共和国药典 (ChP))也越来越多地加入了对 API 和药品制

剂中杂质限量水平的规定。这些法规以暴露限值为依据,因此必须对施用时最终

剂型中的污染物浓度进行控制。在实践中,这意味着药物制造商必须进行风险评

估,考虑到制造后(如包装、运输和 CCS)的污染源以及来自原料和生产过程的

污染。

5

6

ICH 指南将原料药相关杂质分为三个大类:有机杂质、无机杂质和溶剂残留。

有机杂质可能来源于 API 或药品制剂的生产过程,也可能来源于原料药的储存过程。它们可能是已知、未知、挥发或不挥发的化合物,其来源包括原料、中间体、意外副产物和降解产物。它们也可能来自于对映体间的消旋或污染。所有这些情况下产生的杂质都有可能导致不良的生物活性或毒性。

最近,遗传毒性药物杂质引起了监管机构和制药企业的广泛关注。一般来说,遗传毒性杂质包括可能直接破坏 DNA 的 DNA 活性物质。潜在遗传毒性杂质包括痕量工艺杂质或降解物,这些杂质产生于药物生产和储存过程中。根据 FDA 和 EMA 指南的规定,潜在遗传毒性杂质的控制浓度远低于一般杂质。药物中遗传毒性杂质的建议接受阈值可以参见 USFDA 和 EMA 发布的指南文件(参见本章最后提供的代表性重要出版物列表)。有关遗传毒性杂质的 ICH M7 指南正在制定中,

暂定名称为“M7 评估和控制药品中的 DNA 活性(致突变性)杂质以防范潜在的

致癌风险”

。元素杂质是药物制剂中存在的不需要的元素。它们可能来源于活性药物成分、原料、合成添加剂、辅料、催化剂、生产过程以及制造过程中使用的设备。监管机构要求药物制造商执行风险评估,确保对最终药品中的此类杂质进行监测和控制。制造商还必须评估来自包装、容器密封系统和给药系统的潜在污染源,且必须使用可萃取物与可浸出物 (E&L) 评估对这些污染物进行鉴定和定量。必须对所有药品中四种毒性最高的元素杂质浓度进行测定,即As 、Cd 、Hg 和 Pb 。生产过程中可能加入另外一些元素;必须对成品药中的这些杂质进行监测。除原料以外,其他潜在的无机杂质来源包括配体、催化剂等生产过程试剂(如铂族元素 (PGE))、来源于其他生产阶段的金属(如工艺用水和不锈钢反应容器)、活性炭以及过滤材料中的元素。

用于检测元素杂质的美国药典 (USP) 流程(通则 USP<232>)已经与人用药品注册技术国际协调会议 (ICH) 指南 Q3D 协调。新流程取代了现有的比色和湿化学检测方法(如 USP 重金属限值检测 (USP<231>))和 EP 中的重金属章节 2.4.8,这两种现有的检测方法已被公认在范围、准确度、灵敏度和特异性方面无法满足要

求。USP 还引入了仅适用于膳食补充剂的相关元素杂质检测方法 <2232>。1.1

药物杂质的三个主要类别有机杂质

无机(元素)杂质

USP<232> 和 ICH Q3D 规定了 24 种元素杂质的每日允许暴露限值 (PDE),如表 1 所列。根据这些元素的毒性和存在于药品中的可能性对其进行分类。具体类别决定了根据给药途径对各种药品进行风险评估时必须包含的元素杂质。USP 通则<233> 和 ICH Q2(R1) 中规定了用于制药原料中元素杂质分析的所有仪器的系统适用性认证应采用的方法验证流程。用于 USP 和 ICH 流程的分析仪器验证基于分析性能,确保了分析的特异性、准确度和精度,相比此前的湿法化学检测方法获得了显著改善。元素杂质分析方法考虑到一些元素的毒性可能因其化学形态不同而发生变化。因此,As 和 Hg 的限值基于这两种元素的无机形态制定。元素杂质分析方法能够使用 HPLC 与 ICP-MS 联用技术等分离这些元素的化学形态,确保元素毒性较高的形态满足 PDE 限值要求(即使总浓度超出 PDE)。

表 1. 根据不同给药途径规定的药品中元素杂质的每日允许暴露限值 (PDE)。在产品风险评估中,应考

无意添加,则必须在风险评估中予以考虑

虑带黄色阴影的元素。所有列出的元素如果天然存在或有意/

7

残留溶剂

残留溶剂是药物生产过程中使用或生成的挥发性有机化合物。药品合成中使用的

很多有机试剂都有毒性或对环境有害,而且很难彻底去除。此外,大多数原料药

加工的最终纯化步骤都包括结晶步骤,该步骤会导致溶剂残留,从而成为残留杂

质或可能造成药物降解。ICH、USP 和 EP 均要求对残留溶剂浓度进行控制。

ICH 指南 Q3C 将药品中的残留溶剂分为三类,并规定了相应的限值。1 类溶剂

(包括苯、四氯化碳、1,1-二氯乙烷、1,2-二氯乙烯和 1,1,1-三氯乙烷)应避免使

用。2 类溶剂(如甲醇、吡啶、甲苯、N,N-二甲基甲酰胺和乙腈)具有每日允许

暴露限值 (PDE)。表 2 列出了几种作为挥发性杂质存在的常见有机溶剂示例以

及 ICH 指南规定的这些有机溶剂的限值。3 类溶剂(如乙酸、丙酮、异丙醇、丁

醇、乙醇和乙酸乙酯)应根据 GMP 或其他质量要求进行控制。

表 2. 几种作为挥发性杂质的常见代表性有机溶剂的 ICH

限值

USP <467> 2009 通则包含更全面的残留溶剂分析方法,与 1997 年制定的 ICH 指

南相似。此文件介绍了 1 类和 2 类溶剂的限值检测,而 2C 类溶剂由于沸点相对

较高,因此通常采用非顶空法进行测定。推荐的 3 类溶剂检测限 (LOD) 最高为

5000 ppm。当残留溶剂的浓度超过 USP 或 ICH 限值时,需要进行定量分析。

8

9

杂质控制指南

国际协调会议 (ICH) Q3A (R2):新原料药中的杂质,2006 年 10 月 25 日

行业指南 Q3A 新原料药中的杂质,美国卫生与公共服务部,食品药品监督管理局, 药物评价和研究中心 (CDER),生物制品评价和研究中心 (CBER),2008 年 6 月

EMA/CPMP/ICH/2737/99 杂质检测指南说明:新原料药中的杂质;ICH 主题 Q3A (R2) 新原料药中的杂质(2006 年 10 月)

ICH Q3B (R2) 新原料药中的杂质,2006 年 6 月 2 日

行业指南 Q3B(R2) 新药品中的杂质,美国卫生与公共服务部,食品药品监督管理局,药物评价和研究中心 (CDER),生物制品评价和研究中心 (CBER),2006 年 7 月

EMA/CPMP/ICH/2738/99 新药品中的杂质指南说明;ICH 主题 Q3B (R2) 新药品中的和最新动态,请参见各监管机构的网站。

1.2

药品杂质控制的代表性出版物和指南

10

遗传毒性杂质控制相关分析方法指南

国际协调会议 (ICH) 三方协调指南 Q8(R2):药物开发,2009 年 8 月

国际协调会议 (ICH) 三方协调指南 Q9,2005 年。质量风险管理,2009 年 11 月

行业指南 Q8(R2):药物开发,美国卫生与公共服务部,食品药品监督管理局, 药物评价和研究中心 (CDER),生物制品评价和研究中心 (CBER),2009 年 11 月行业指南 Q9:质量风险管理,美国卫生与公共服务部,食品药品监督管理局, 药物评价和研究中心 (CDER),生物制品评价和研究中心 (CBER),2006 年 6 月

EMA/CHMP/ICH/167068/2004 人用药品委员会 ICH 指南 Q8 (R2):药物开发,第 5 阶段(2017 年 6 月 22 日)

EMA/CHMP/ICH/24235/2006 人用药品委员会 ICH 指南 Q9:质量风险管理,第 5 阶段(2015 年 9 月)

国际协调会议 ICH S2 (R1):三方协调指南:人用药物遗传毒性检测和数据解析指南(当前处于第 4 阶段,版本发布日期 2011 年 11 月 9 日)

行业指南 S2(R1):人用药物遗传毒性检测和数据解析,美国卫生与公共服务部,食品药品监督管理局,药物评价和研究中心 (CDER),生物制品评价和研究中心 (CBER),2012 年 6 月

EMA/CHMP/ICH/126642/2008 ICH 指南 S2 (R1):人用药物遗传毒性检测和数据解残留溶剂控制 指南 ICHQ3C

版本发布日期 2016 年 10 日)

EMA/CHMP/ICH/82260/2006 人用药品委员会,ICH 元素杂质指南 Q3C (R6): 残留溶剂指南,第 5 阶段(2016 年 12 月 6 日)

关于 ICH Q3C 的 FDA 指南,行业指南 Q3C 杂质:残留溶剂(2017 年); https://https://www.360docs.net/doc/2f13301308.html,/Drugs/GuidanceComplianceRegulatoryInformation/Guidances/ucm125820.htm

注:此列表仅列出了部分近期发布的重要法规文件。有关完整现行法规信息和最新动态,请参见各监管机构的网站。

11

杂质谱是对原料药中存在的已鉴定和未鉴定杂质的描述(来源:行业指南 Q3A ,

新原料药中的杂质)。杂质谱分析通常从杂质检测开始,然后是分离和表征。对于所有上述三类杂质,关键是在工艺开发过程中建立一种可靠的方法,要求该方法最终可以得到验证并能够转移到 QA/QC 。针对受监管的极低浓度杂质(如遗传

毒性杂质)开发可靠的分析方法,是这个过程的一大挑战。

为了更好地检测、鉴定、定量和表征原料药和药品中存在的杂质,制药科学家需要借助具有高灵敏度和高特异性的稳定分析工具。杂质分析的主要分析手段包括光谱、色谱、质谱以及它们的各种组合(即联用技术)。可以根据杂质的特性和分析所需的信息水平选择合适的技术。药物开发中各种复杂的分析问题往往需要采用多种分析技术才能解决。LC/UV 、LC/MS 、GC/MS 、CE/MS 和 LC/UV 等分

析技术可提供正交检测和互补的信息,有助于高效解决这些难题。因此,这些技术在药物杂质谱分析(从未知杂质的鉴定到最终结构解析)中起到重要作用。表 3 总结了一些杂质分析技术。有关杂质谱分析的主要单一技术和联用技术的详

细介绍,请参见后续章节。

表 3.

杂质分析技术

残留溶剂GC 和 GC/MS

有关缩写的定义,请参见后续章节。

概述

2. 用于药物开发中杂质谱分析的分析技术

12

原料药中的杂质浓度一般较低,因此必须将杂质分离后才能进行详细分析。这是制药实验室面临的一项重大挑战。制备型液相色谱有助于(通常从 API 结晶后剩余的溶液等富含杂质的分析物中)分离出足够量的杂质,以使用 FTIR 、NMR 、LC/MS 或 GC/MS 等技术进行结构分析。

药物质量控制 (QC) 实验室中的很多杂质分析方法将高效液相色谱 (HPLC) 与紫外检测联用(HPLC/UV 法)。紫外检测可根据最大吸光度来鉴定药物中的杂质或降

解物。此项技术具有高选择性(可通过单一分析流程对样品中的多个不同组分进行定量测定),是目前用于杂质谱分析最重要、最通用的分析方法,尤其适用于存在标准品的常规分析。固定相系统可在若干种操作模式(如离子对、增强疏水作用)和变化的 pH 条件下操作,能够根据各种样品的独特性质对它们进行同时分析。高分离度 LC/UV 分析对于杂质检测非常有用,它能准确鉴定所有杂质。 针对分析型液相色谱的 Agilent InfinityLab 解决方案包括高效 HPLC 和 UHPLC 系

统,这些系统采用最新技术,同时保持与传统液相色谱仪完全兼容。Agilent 1220

Infinity II 液相色谱仪能够以超值的价格提供高质量结果。Agilent 1260 Infinity II 液相色谱仪是一种灵活的仪器选择,有助于提高操作效率,其中 1260 Infinity II Prime 液相色谱仪具有极高的操作便捷性。Agilent 1290 Infinity II 液相色谱仪是新一代液相色谱仪的顶尖代表,具有超高性能,可提供出色的结果。1260 Infinity II Prime 液相色谱仪是 1260 Infinity II 液相色谱产品组合中功能最强大、最便捷的液相色谱仪,压力范围高达 800 bar ,流速高达 5 mL/min 。这款色谱仪配备了成熟

的 1290 Infinity II 液相色谱技术,为您的日常工作提供最佳的易用性和最丰富的功能。

2.1

制备型液相色谱

(LC)

Agilent 1260 Infinity II 制备型 LC/MSD 系统

液相色谱和紫外检测

(LC/UV)

Agilent InfinityLab

系列液相色谱仪和色谱柱

13

图 1. 这些数据显示了 UHPLC 系统(如 Agilent 1290/1260/1220 Infinity 系列系统)用于杂质分析的价值。与安捷伦 1.8 μm RRHD 色谱柱结合时,能够鉴定所有 7 种杂质,所有化合物都获得了良好的基线分离,可进行准确的定量分析。安捷伦科技公司未发表的数据

LC/MS 是一种高灵敏度、高特异性的分析工具,常用于在药物开发中检测、鉴定和定量产品杂质。检测限很容易达到几百 ppm ,确保能够鉴定浓度大于 0.1% 的所有杂质。与单独紫外检测等技术相比,基于质谱的方法往往能够提供更高的灵敏度和特异性。单四极杆质谱对于已知杂质组分的确认和未知杂质的初步结构分析是很好的分析工具,而高灵敏度 Q-TOF 质谱仪可提供高分辨率精确质量数信

息,能明确鉴定痕量的未知杂质,特别有助于遗传毒性杂质分析。在工艺开发过程中,基于质谱的方法常常用于 API 的杂质谱分析,而基于紫外检测的方法一般被生产基地的质量控制实验室用于遗传毒性杂质的检测。

三重四极杆 (QQQ) LC/MS/MS 系统已经成为制药分析实验室中有机杂质定量分析的标准平台。将多反应监测模式 (MRM) 与三重四极杆串联质谱仪(如 Agilent 6400 系列三重四极杆质谱仪)相结合,能够为多分析物定量分析提供非常高的灵敏度。MRM 分析尤其适用于复杂混合物和生物基质(如血液和尿液)中化合物

的生物分析研究。

等度杂质分析方法色谱柱:4.6 × 150 mm, 5 μm

4.6 × 150, 5 μm Rs = 1.15G/N = 424 种杂质,其中 2 种杂质没有基线分离 4.6 × 150, 3.5 μm Rs = 1.37S/N = 50

7 种杂质,其中

6 种杂质没有基线分离 4.6 × 150, 1.8 μm

Rs = 1.80 (+57 %)

S/N = 44

7 种杂质,

所有杂质均基线分离

mAU 2.521.510.5005101520min

-0.5-1

液质联用系统 (LC/MS)

安捷伦质谱仪

仅限研究使用。不可用于诊断目的。

Agilent 6500 系列 Q-TOF

Agilent 6400 系列三重四极杆质谱仪

Agilent 6100 系列单四极杆质谱仪

14

配备火焰离子检测器 (FID) 的气相色谱仪是挥发性有机杂质(如残留溶剂)分析的标准选择。由于严格遵守 ICH Q3C 指南要求,气相色谱顶空方法为全世界的质量控制实验室广泛用于残留溶剂分析。通过静态顶空进行样品前处理和进样,有利于选择性地将挥发性溶剂引入色谱,而不会受到基本上不挥发的原料药或药品的污染。因此,FID 检测器能够很好地对残留溶剂进行鉴定和定量分析。气质联用系统 (GC/MS)

可用于确认和鉴定目的,突出了气相色谱技术的灵活性。

2.2

气相色谱 (GC)

Agilent 7890A 与 Agilent 5975C GC/MS 系统相结合并配备 Agilent 7697A 顶空进样器

Agilent Intuvo 9000 气相色谱仪

Agilent Intuvo

气相色谱柱

与其他色谱技术相比,CE 具有很高的分离效率,因此它成为了药物分析中测定药物相关杂质的重要技术。CE 可以检测 HPLC 技术无法充分测定的杂质,尤其适合强极性化合物的分析。相关杂质测定方法普遍以 0.05% 作为报告阈值的最低要求,而 CE 完全可以满足这一要求。此外,CE 非常适合用于分离密切相关的化合物,如非对映异构体和对映异构体。以下肝素(一种高分子抗凝血剂)分析的例子显示了 CE 在杂质分析中的价值。在本例中,标准液相色谱方法无法区分与不良事件相关的药物批次,而 CE 能够很容易地鉴定未知杂质(图 2)。结果表明,

CE 有助于解决这一分析难题。

2.3

毛细管电泳 (CE)

Agilent 7100 毛细管电泳仪

15

图 2. 采用高浓度缓冲液和 25 μm 鼓泡池毛细管对肝素和相关杂质进行毛细管电泳分析。参见安捷伦出版物 5990-3517CHCN

USP 和 ICH 协调的元素杂质分析方法(ICH Q3D/Q2(R1) 和 USP<232>/<233>)要

求使用适当的特异性定量分析流程测定元素杂质的浓度。USP<233> 要求使用仪器方法,参考方法使用的是 ICP-MS 或 ICP-OES 。对于这两种方法,可通过三种方式完成样品分析:

? 直接分析(非溶剂化)

? 样品前处理后溶于水性或有机溶剂中进行分析,或 ? 使用密闭微波消解系统进行酸消解后分析

ICP-OES 能够使药品中受监管的大多数元素检测限达到 ppb 级,能够轻易满足样品直接分析或低倍稀释情况下的检测限要求。它还具有扩展的动态范围、稳定的等离子体,以及一步测定主要、微量和痕量元素的分析能力。因此,ICP-OES 可以满足众多用户的需求,包括寻求对散装原料和口服剂型药品中的元素杂质进行直接分析的低成本解决方案的用户。

ICP-MS 是一种高灵敏度、高特异性的分析技术,能够对 ICH Q3D 和 USP<232> 中提出限值规定的所有 24 种元素进行可靠的痕量分析。ICP-MS 的低检测限(通常为 ng/L (ppt) 级)确保准确测定注射和吸入药物以及口服给药的原料药或药品

中限值极低的所有受监管元素。即使在样品前处理过程中使用高倍样品稀释(例如可用的样品量非常少时),需要测定的所有分析物也能够在等于或低于规定浓度下轻松得到测定。ICP-MS 还能与色谱分离技术(通常是 HPLC )相结合,对元素的不同形态进行分离(或形态分析)。Agilent 7800 和 7900 四极杆 ICP-MS 仪器能够有效地控制干扰物质,耐受变化的高浓度样品基质(包含有机溶剂),并具有宽动态范围,能够在一次运行中准确测量主要元素和痕量元素。安捷伦 ICP-

MS 系统包含预设方法和设置向导、系统优化功能以及标准操作规程,有助于快

速实施和验证常规药物分析。

20

102030405060mAU 468min

2.4

电感耦合等离子体发射光谱 (ICP-OES) 和电感耦合等离子体质谱 (ICP-MS)

ICP-OES

Agilent 5110 ICP-OES

ICP-MS

Agilent 7800 ICP-MS

16

虽然 ICP-MS 和 ICP-OES 非常适合药品和组分中元素杂质的常规分析,但一些方

法开发应用可获益于三重四极杆 ICP-MS (ICP-MS/MS) 的灵活性和高性能。与四极杆 ICP-MS 相比,安捷伦 ICP-MS/MS 仪器提供了更出色的检测限,尤其适用于难以测定的元素(如 S 、P 和 Si ),并在痕量元素(特别是复杂样品基质中)分析中具有优异的准确度。

ICP-MS/MS

Agilent 8900 ICP-MS/MS

SFC 使用超临界 CO 2 作为流动相,是一种可用于杂质检测的色谱分离技术,因为它具有与 HPLC 相当的灵敏度,而有机溶剂用量更低(图 3)。SFC 的另一个优势

是手性化合物的分析,并有助于极低浓度杂质水平的对映体过量测定(图 4)。

图 3. 主成分 (A) 咖啡因和 (B) 雌三醇中低浓度杂质 (0.05% w/w) 的等度分离;0.01% 浓度杂质的信噪比 (S/N) 远大于 2–3(通常为 LOD )。参见安捷伦出版物 5990-6413EN

图 4. SFC 对杂质浓度低于 0.05% 的对映体过量的测定。浓度为 5000 ppm 的 R-1,1'-联-2-萘酚 (A) 和 S-1,1'-联-2-萘酚 (B) 的色谱图。参见安捷伦出版物 5990-5969EN

2.5

超临界流体色谱 (SFC)

Agilent 1260 Infinity II SFC 系统

mAU 151050-51

2345min

mAU 3020100-10

123

45min

咖啡因

雌三醇

A

B

咖啡因

雌三醇

X

X

主峰

主峰

min

1

2

3

4

5

6789mAU 0

200400

min

1

2

3

4

56789mAU 0

200400R - 3

S

R S - 3

A

B

R = 1.5

R = 1.7

S

R

17

FTIR 能够为每种化合物提供独特的指纹图谱,因此对杂质或降解物的结构鉴定和确认非常有帮助。尤其在有机化合物分析中,FTIR 光谱可反映出分子结构和存在的官能团。反过来,官能团分析有助于在分析中鉴定化合物的结构并测定其浓

度。通过比较纯标准物质的 FTIR 谱库光谱与杂质或降解物光谱,可以找到结构变化的关联性。

Agilent Cary 630 FTIR 集高精度和合规性于一身,是制药实验室中定性和定量分析的最佳 FTIR 系统。完善的系列附件使 630 FTIR 能够用于液体和固体样品的分析。使用专利 Dialpath 进行液体进样有助于轻松确定合适的光程和最佳测量条件,便于进样,并可降低出错的风险。利用 Cary 630 FTIR 能够快速简便地测量污染物,如甘油中的乙二醇和甘二醇。MicroLab Pharma 软件能够简化满足 21 CFR 11 法

规要求的过程,当杂质浓度超标时,方法驱动的软件将会提醒用户(图 5)。

图 5. Agilent MicroLab 软件显示了甘油中乙二醇杂质的浓度分析结果。红色条带表明杂质浓度超标。参见安捷伦出版物 5990-7880EN

Agilent Cary 630 FTIR

2.6

傅立叶变换红外光谱仪 (FTIR)

Agilent DialPath 附件

18

这部分列举了安捷伦应对以下分析挑战开发的一系列应用示例:痕量有机杂质的定性和定量分析,元素杂质的测定,以及根据 USP 流程对残留溶剂进行分析。

3.1 有机杂质分析

? 利用 Agilent 1200 Infinity 系列 HPLC/UV 系统实现高精度、线性、灵敏和快速的杂质分析

? 使用安捷伦 LC/Q-TOF 系统提高痕量杂质鉴定效率

? 使用安捷伦 LC/MS/MS 仪器定量分析 API 中的遗传毒性杂质

3.2 无机杂质分析

? 根据 USP 流程,利用基于安捷伦 ICP-OES 和 ICP-MS 的方法测定药物成分中的元素杂质

3.3 残留溶剂分析

? 根据 USP <467> 流程,使用安捷伦气相色谱仪加快残留溶剂分析的速度并提高其灵敏度

Agilent 1200 Infinity 系列 LC/UV 检测系统是药物质量控制实验室进行杂质分析的理想解决方案,帮助您实现杂质分析法规标准所要求的精确、线性、灵敏而快速的分析。图 7 为使用 Agilent 1290 Infinity II 高动态范围 (HDR) 二极管阵列检

测器 (DAD) 解决方案对固定剂量复方药及其杂质的分析结果。该方法能够在单次液相色谱分析中同时检测并定量分析主要药物成分以及微量成分和杂质。该分析在 7 分钟内完成,并将 LOD 改善至 0.1 ng 左右。相比之下,使用传统 DAD 得到的 LOD 约为 1 ng 。还实现了优异的峰面积精度,药物成分(维生素 C 、扑热息痛、咖啡因和氯胺)的 RSD 小于 0.1%,且四种杂质的 RSD 介于 1% 和 3% 之间。相比之下,使用传统 DAD 得到的药物成分的 RSD 小于 2%,杂质的 RSD 为

5%–15%。

概述

3.1

有机杂质分析

利用 Agilent 1200 Infinity 系列液相色谱系统实现高选择性、灵敏和精确的杂质分析

3. 针对三类主要杂质的一系列安捷伦应用解决方案

19

图 6. 使用 Agilent 1220 Infinity 液相色谱系统和梯度方法结合紫外检测、Agilent ZORBAX SB-Aq 色谱柱和 Agilent ChemStation 软件,对阿莫西林及其五种杂质的分析。参见安捷伦出版物 5990-6093EN

图 7. 叠加图显示了在 5 μL 的进样量下使用传统 DAD 得到的信号以及使用 HDR DAD 得到的信号 (A),并还放大了垂直刻度 (B) 以显示四种杂质。使用传统 DAD (红色迹线,上图)时,维生素 C 和扑热息

痛色谱峰超出范围,无法定量。参见安捷伦出版物 5991-3874EN

安捷伦 UHPLC/UV 系统有助于使杂质谱分析实现更高的灵敏度、更高的样品通量以及显著的成本节省。由于 1290 Infinity II 液相色谱系统能够在最高 1300 bar 的压力下运行,因此可使用非常灵敏的 DAD 开发出显著加快的方法,实现高效杂质

谱分析。这将显著降低每次分析的成本。

mAU

86420

00.51

1.5

2 2.53

3.54

4.5

min

杂质 A

杂质 C

杂质 B

杂质 D

杂质 E

阿莫西林

min

1

23

4

5

mAU 05001000150020002500300035004000红色:传统 DAD :

5 μL 进样时 2 个峰超出线性范围

蓝色:HDR DAD :

所有峰均在线性范围内(高达 6 AU )

扑热息痛

咖啡因

氯苯那敏

维生素 C

5 μL 进样

A

B

放大垂直刻度

min

1

2

3

4

5

mAU 0

5101520红色:传统 DAD :

第二次运行中确定杂质和氯苯那敏 蓝色:HDR DAD :

一次运行中确定所有的峰

扑热息痛

咖啡因氯苯那敏

杂质 1

杂质 2杂质 3

杂质 4

维生素 C

20

1290 Infinity II HDR-DAD 杂质分析仪解决方案是安捷伦专门用于实现良好表征药

物杂质分析的系统,能够同时进行检测和定量分析。相比传统的紫外检测,其动态范围拓宽了 30 倍,灵敏度提高了 30 倍,具有与 UHPLC 相当的分析速度和分离度。

用于 UHPLC 和 HPLC 的 Agilent 1290 Infinity II 方法开发工具非常适合用于测试实验色谱条件,如确定固定相和流动相的最佳组合。它使得固定相和流动相的评估成为一项简单而能够自动完成的工作,特别适合分析时间较短的情况。

除优异的分析能力以外,1290 Infinity II 液相色谱仪还可优化任意色谱分析的性能。当需要在不同液相色谱系统之间进行方法转移时,安捷伦智能系统模拟技术 (ISET) 能够快速模拟其他 (U)HPLC 系统的性能,包括其他制造商的仪器系统。分析人员不再受限于色谱柱尺寸、颗粒类型、流动相或固定相、流速或压力。采用 ISET 的 1290 Infinity II 液相色谱系统(图 8)能够在采用不同设计的 HPLC 和

UHPLC 系统之间无缝切换,所有这一切只需轻点鼠标即可完成。

图 8. 安捷伦 ISET 系统可有效地将方法从各种系统转移到最终的 QC 环境。参见安捷伦出版物 5991-4605CHCN

Agilent 1290 In?nity II 液相色谱方法转移

Waters Alliance 高效液相色谱

Waters Acquity 或Acquity H-Class 高效液相色谱

Shimadzu Prominence 高效液相色谱 (LC20AB/AT)

Agilent 1220 In?nity 液相色谱

Agilent 1260 In?nity 液相色谱

Agilent 1200 系列液相色谱Agilent 1100 系列液相色谱

3.2.P.5.5杂质谱分析模板的整理

3.2.P.5.5杂质谱分析模板的整理 格式模板 首先列出产品的杂志谱列表,比如: ****产品杂质情况分析表

反应过程的描述: 1、 详细的反应方程式,包括结构式,反应温度,所有试剂,助剂,溶剂,催化剂等。 2、 结合CTD 资料的其他部分,对物料控制进行说明,包括起始物料、其他原料、溶剂、辅料(活性炭,硅藻土,硅胶等。)。 3、 起始物料说明。起始物料符合广泛、易得、质量稳定,适合保存运输等的原则;还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究,同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。比如头孢克洛,要对起始物料7-ACCA 的工艺、杂质控制和质量情况进行详细的说明。 4、 说明制定起始物料的质量控制策略的依据,比如头孢克洛的起始物料 7-ACCA 的关键杂质△异构体,结合工艺和实验数据,说明杂质产生来源,分布,控制策略等。第2、3、4内容可以在CTD 的其他部分,比如物料说明部分进行。但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。 5、 关于ICH 的杂质鉴定、报告和质控限度:主要参考ICHQ3A (R2)到ICHQ3D 的相关规定

结合上述反应过程对杂质谱进行分析,主要分起始物料引入杂质,反应杂质,降解杂质等。 第一部分:起始物料引入的杂质分析(比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 引入的杂质) N S OH O O NO 2 O H N O C 22H 19N 3O 7S MW: 469.47 O C 16H 17KN 2O 4S MW: 372.48 Br NO 2 + O 2 MW: 469.51 C 7H 6BrNO 2MW: 216.0322 C 23H 23MW: 485.51 N S N H H OH O O NO 2 O C 22H 19N 3O 6S MW: 453.47 CH 2Cl 2/TEBAC TsCl morpholine N S N H H N O O NO 2O O C 26H 26N 4O 6S MW: 522.57 1) Br 2-pyrindine CH 2Cl 2 2 2C 14H 1235MW: 406.00 HCl 1) (PhO)3P/CH 2Cl 2 22) N,N-dimethyl aniline, PCl 5 i BuOH Na 2S 2O 42H 2C 7H 7ClN 2O 3S MW: 234.66 1、 无机杂质:说明引入情况和消除渠道;以及相关的控制方法和标准以及依据。比如上述列表中的钯元素控制。 2、 普通有机杂质。 3、 对映异构体(根据品种的情况具体分析);考察不同的对应异构体对最终产品质量的影响情况。 4、 非对映异构体:比如ACCA 的△异构体;还包括非对应异构体自身的各种对映体。

化学药物制剂研究基本技术指导原则

指导原则编号: 【H】G P H4-1化学药物制剂研究基本技术指导原则 (第二稿) 二ΟΟ四年三月十八日

目录 一、概述 (3) 二、制剂研究的基本内容 (3) 三、剂型的选择 (5) 四、处方研究 (7) (一)、原料药 (7) (二)、辅料 (7) (三)、处方设计 (10) (四)、处方筛选和优化 (11) (五)、处方的确定 (13) 五、制备工艺研究 (14) (一)、工艺设计 (14) (二)、工艺研究 (14) (三)、工艺放大 (16) 六、药品包装材料的选择 (17) 七、质量研究和稳定性研究 (19) 【附录】 (20) 【参考文献】 (22) 【起草说明】 (23) 【著者】 (28)

一、概述 药物必须制成适宜的剂型才能用于临床。制剂研发的目的就是要保证药物的药效,降低毒副作用,提高临床使用的顺应性。如果剂型选择不当,处方、工艺设计不合理,对产品质量会产生一定的影响,甚至影响到产品疗效及安全性。因此,制剂研究在药物研究与开发中占有十分重要的地位。 本指导原则是在参考国内外有关制剂研究的技术指导原则的基础上,根据药品研究开发的自身规律,结合国内药物研发实际状况,并考虑到目前制剂研究中容易被忽视的影响制剂质量、有效性、安全性的重点问题进行制订的。 由于制剂的剂型及生产工艺纷繁复杂,且各种新剂型和新工艺也在不断出现,制剂研究中具体情况差异很大。本指导原则主要阐述制剂研究的基本思路和方法,为制剂研究提供基本的技术指导和帮助。关于各种剂型研究的详细技术要求,不在本指导原则中详述,药物研发者可参照本指导原则阐述的制剂研究的基本思路开展相应的研究工作。 二、制剂研究的基本内容 制剂的剂型种类繁多,生产工艺也有着各自的特点,研究中会面临许多具体情况和特殊问题。但制剂研究的总体目标是一致的,即通过一系列研究工作,保证制剂剂型选择依据充分,处方合理,工艺稳定,生产过程得到有效控制,适合工业化生产。制剂研究的基本内容是相同的,一般包括以下方面:

3.2.P.5.5杂质谱分析模板的整理

3.2.P.5.5 杂质谱分析模板的整理 格式模板首先列出产品的杂志谱列表,比如: **** 产品杂质情况分析表

反应过程的描述: 1、详细的反应方程式,包括结构式,反应温度,所有试剂,助剂,溶剂,催化剂等。 2、结合CTD 资料的其他部分,对物料控制进行说明,包括起始物料、其他原料、溶剂、辅料(活性 炭,硅藻土,硅胶等。)。 3、起始物料说明。起始物料符合广泛、易得、质量稳定,适合保存运输等的原则;还应对多个供应商 提供的多批次物料进行质量研究,同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。 比如头孢克洛,要对起始物料7-ACCA 的工艺、杂质控制和质量情况进行详细的说明。 4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据,比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 的关键杂质△异构体,结合工艺和实验数据,说明杂质产生来源,分布,控制策略等。第2、3、4 内容可以在CTD 的其他部分,比如物料说明部分进行。但是本部分内容讨论的展开需要物料控制 说明作为基本的理论依据。 5、关于ICH 的杂质鉴定、报告和质控限度:主要参考ICHQ3A (R2)到ICHQ3D 的相关规定 阈值(原料药)

结合上述反应过程对杂质谱进行分析,主要分起始物料引入杂质,反应杂质,降解杂 质等。 第一部分:起始物料引入的杂质分析(比如头孢克洛的起始物料 7-ACCA 引入的杂质) 比如上述列表中的钯元素控制。 3 、 对映异构体(根据品种的情况具体分析);考察不同的对应异构体对最终产品 质量的影响情况。 4、 非对映异构体:比如 ACCA 的△异构体;还包括非对应异构体自身的各种对映体。 第二部分:反应的每个步骤引 入的杂质:需要结合实际反应监控( HPLC ,LC-MS 为 主)过程对杂质消除过程以及对后续的影响进行实际说明。这个内容主要在工艺描述 部分进行,本部分引用工艺描述内容。 1、 步骤 1 引入的杂质。 PAA O H N O H N S O OK C 16 H 17 KN 2 O 4 S MW: 372.48 O HN CH 2 Cl CH TsCl Cl /TEBAC n-methylmorpholine morpholine 1) (PhO) 3 P/CH Cl 2 /Pyridine 2) N,N-dimethyl aniline, PCl BuOH Br NO 2 C 7 H 6 BrNO MW: 216.03 H O O N S O O O O C 23 H 23 N 3 O 7 S MW: 485.51 2 Cl 2 DMF/CH 2 Cl 2 TMP toluene NO O N O N O S O 6S NO C 23 H 23 N 3O MW: 469.51 C 22 H 19 N 3 O 7 S MW: 469.47 HCl H 2 N Na 2 S 2 O 4 acetone/H 2O C 14 H 12 ClN 3O 5 S MW: 406.00 7H 7 ClN 2 O 3 S MW: 234.66 1、 无机杂质:说明引入情况和消除渠道; 以及相关的控制方法和标准以及依据。 2、 普通有机杂质。 NO 2 MW: 522.57 H N 2 Cl O

P.5.5杂质谱分析模板的整理

杂质谱分析模板的整理 格式模板 首先列出产品的杂志谱列表,比如: ****产品杂质情况分析表

反应过程的描述: 1、详细的反应方程式,包括结构式,反应温度,所有试剂,助剂,溶剂,催化剂 等。 2、结合CTD资料的其他部分,对物料控制进行说明,包括起始物料、其他原料、 溶剂、辅料(活性炭,硅藻土,硅胶等。)。 3、起始物料说明。起始物料符合广泛、易得、质量稳定,适合保存运输等的原 则;还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究,同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。比如头孢克洛,要对起始物料7- ACCA的工艺、杂质控制和质量情况进行详细的说明。 4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据,比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 的关键杂质△异构体,结合工艺和实验数据,说明杂质产生来源,分布,控制策略等。第2、3、4内容可以在CTD的其他部分,比如物料说明部分进行。但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。 5、关于ICH的杂质鉴定、报告和质控限度:主要参考ICHQ3A(R2)到ICHQ3D的 相关规定 阈值(原料药) 2 克/天

结合上述反应过程对杂质谱进行分析,主要分起始物料引入杂质,反应杂质,降解杂质等。 第一部分:起始物料引入的杂质分析(比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 引入的杂质) N S OH O O NO 2 O H N O C 22H 19N 3O 7S MW: 469.47 N O N O H S O OK C 16H 17KN 2O 4S MW: 372.48 Br NO 2 + N O N O H S O O NO 2 C H N O S MW: 469.51 C 7H 6BrNO 2MW: 216.03PAA 22 N O H N O H S O O NO 2 O C 23H 23N O S MW: 485.51 TMP toluene N S N H H O O O 23H 21N 3O 5S N S N H H OH O O 2 O C 22H 19N 3O 6S MW: 453.47 CH 2Cl 2/CH 3OH O 3, TMP CH 2Cl 2/TEBAC TsCl morpholine N S N H H N O O 2O O C 26H 26N 4O 6S MW: 522.57 1) Br 2-pyrindine CH 2Cl 2N S Cl O O NO 2 O 2N C 14H 12ClN 3O 5S MW: 406.00 HCl HCl 1) (PhO)3P/CH 2Cl 2 2) N,N-dimethyl aniline, PCl 5 i BuOH Na 2S 2O 4N S OH O Cl O H 2N H C 7H 7ClN 2O 3S MW: 234.66 1、 无机杂质:说明引入情况和消除渠道;以及相关的控制方法和标准以及依据。比如上述列表中的钯元素控制。 2、 普通有机杂质。

药剂学-半固体制剂复习指南.

第十三章半固体制剂 学习要点 一、软膏剂 (一)概述 1. 定义: 软膏剂(ointments)系指药物与油脂性或水溶性基质均匀混合制成的半固体外用制剂。 乳膏剂(creams)系指药物溶解或分散于乳状液型基质中形成的均匀的半固体外用制剂。 糊剂(pasters)系指大量的固体粉末(>25%)均匀地分散在适宜的基质中所组成的半固体外用制剂。 2. 临床应用: (1) 保护创面、润滑皮肤、局部治疗作用; (2) 通过皮肤吸收进入体循环,产生全身治疗作用。 3. 软膏的质量要求:均匀细腻,无糙感;稠度适当,易涂布;性质稳定,无变质;安全有效,不刺激;卫生合格,无过敏;损伤皮肤,先灭菌。 4. 组成:药物、基质(油脂性基质、水溶性基质、乳膏基质)、附加剂。 (二)软膏剂基质 1. 油脂性基质 (1) 特点:润滑无刺激,油膜促水合,配伍稳定好,细菌不易生,油腻不易洗,释药性能差。 (2) 品种: 1) 凡士林:黄白两种,仅能吸水5%,不适用于有多量渗出液的患处,但加入适量羊毛脂、胆固醇可增加其吸水性。 2) 石蜡与液状石蜡:常用于调节基质稠度或乳剂型基质的油相。 3) 羊毛脂:可吸收两倍量的水,因粘性太大较少单用,常与凡士林合用。 4) 蜂蜡与鲸蜡:一定的表面活性作用,在O/W型乳化剂基质中起稳定作用,常用于调节稠度或增加其稳定性 5) 二甲基硅油:又称硅酮,润滑作用好易于涂布,常与其他基质合用,做

为乳膏剂的润滑剂。但对眼睛刺激性大,不能用作眼膏基质。 2. 水溶性基质: (1) 特点:无油腻易洗除、释药快、能与渗出液混合、可用于糜烂性创面。 (2) 品种: 聚乙二醇:固体PEG与液体PEG适当比例混合可得半固体的软膏基质,可调节稠度。但对皮肤润滑性差,久用引起皮肤干燥,对季胺盐类及羟苯酯类等有配伍变化。 3. 乳膏基质: (1) 特点:稠度适宜易涂布、油水混合易清洗、渗透皮肤能力强;水不稳定药物不适用,分泌物多的皮肤病不可用。 (2) 组成:油相、水相和乳化剂。(提示:油相基质大多是固体或半固体,注意和乳剂的区别) 油相基质:硬脂酸、石蜡、液体石蜡、凡士林、蜂蜡、高级脂肪醇、植物油等。 乳化剂:皂类、十二烷基硫酸钠、脂肪酸山梨坦(司盘类)、聚山梨酯(吐温类)、聚氧乙烯脂肪酸酯(卖泽类)、聚氧乙烯脂肪醇醚(苄泽类)等。 其他:保湿剂(甘油、丙二醇、山梨醇等)、防腐剂(羟苯酯类、氯甲酚、三氯叔丁醇等)。 (三)软膏剂的处方设计 1. 药物性质: lg P≥1,分子量<500,容易透过角质层;lg P≥3,皮肤驻留性好。 2. 基质选择: 表13-1 基质类型的选择原则 皮肤生理病理状况适宜基质只起皮肤表面保护与润滑作用油脂性基质 皮脂溢出性皮炎、痤疮等水溶性基质或O/W型乳膏基质急性而多量渗出液的皮肤疾患水溶性基质 皮肤炎症、真菌感染等皮肤病乳膏基质

药物制剂CTD申报资料(4、52类)模板

制剂格式申报资料 4、5.2类 3.2 制剂 3.2.1剂型及产品组成 (1)说明具体的剂型,并以表格的方式列出单位剂量产品的处方组成,列明各成分在处方中的作用,执行的标准。如有过量加入的情况需给予说明。对于处方中用到但最终需去除的溶剂也应列出。 表1(注:表格依次编号,下同):处方 (2)如附带专用溶剂,参照以上表格方式列出专用溶剂的处方。 (3)说明产品所使用的包装材料及容器。 3.2.2 产品开发 说明产品开发目标。说明原研药上市情况。详细提供包括原研药的质量概况在内的相关研究资料或文献资料来论证本品的剂型、处方组成、生产工艺、包装材料选择和确定的合理性。 3.2.2.1处方组成 3.2.2.1.1原料药 参照《化学药物制剂研究的技术指导原则》,提供资料说明原料药和辅料的相容性,分析原料药的关键理化特性(如分类、晶型、溶解性、粒度分布等)与制剂生产及制剂性能的相关性,并提供相关的研究资料与文献。

3.2.2.1.2辅料 说明辅料是否适合所用的给药途径结合辅料在处方中的作用分析辅料的哪些性质会影响制剂特性,提供相关的研究资料与文献。 3.2.2.2 制剂研究 3.2.2.2.1处方开发过程 参照《化学药物制剂研究的技术指导原则》,提供处方的研究开发过程和确定依据,包括文献信息(如对照药品的处方信息)、研究信息(包括处方设计,处方筛选和优化、处方确定等研究内容)、辅料种类和用量选择的依据、分析辅料用量是否在常规用量范围内,以及自制样品与原研药的质量特性对比研究结果(需说明原研药的来源、批次和有效期,自研样品批次,对比项目、采用方法),并重点说明在药品开发阶段中处方组成的主要变更、原因以及支持变化的验证研究。 如生产中存在过量投料的问题,应提供过量投料的必要性和合理性的相关研究资料。 3.2.2.2.2制剂相关特性 对与制剂性能相关的理化性质,如、离子强度、溶出度、再分散性、复溶、粒径分布、聚合、多晶型、流变学等进行分析。提供自研产品与原研药品的理化性质、质量特性对比研究结果,例如有关物质等。如为口服固体制剂,需提供详细的自研产品与原研药在不同溶出条件下的溶出曲线比较研究结果,推荐采用f2相似因子的比较方式。如为手性药物,详细提供光学纯度和构型稳定性的研究控制情况。 3.2.2.3生产工艺的开发

药物杂质分析概述

药物杂质分析概述基础导论

药物杂质分析概述基础导论 2

目录 目录 1. 药物杂质分析―概述和法规现状 5 1.1 药物杂质的三个主要类别 6 有机杂质 6 无机(元素)杂质 6 残留溶剂 8 1.2 药品杂质控制的代表性出版物和指南 9 2. 用于药物开发中杂质谱分析的分析技术 11 概述11 2.1 制备型液相色谱 (LC) 12 液相色谱和紫外检测 (LC/UV) 12 液质联用系统 (LC/MS) 13 2.2 气相色谱 (GC) 14 2.3 毛细管电泳 (CE) 14 2.4 电感耦合等离子体发射光谱 (ICP-OES) 和电感耦合 等离子体质谱 (ICP-MS) 15 ICP-OES 15 ICP-MS 15 ICP-MS/MS 16 2.5 超临界流体色谱 (SFC) 16 2.6 傅立叶变换红外光谱仪 (FTIR) 17 3

3. 针对三类主要杂质的一系列安捷伦应用解决方案 18 概述18 3.1 有机杂质分析 18 用于药物中有机杂质的严格分析的 LC/MS 系统 24 使用单四极杆 LC/MS 仪进行经济有效的高性能杂质分析 24 使用安捷伦液相色谱/三重四极杆质谱联用仪对 API 中的 杂质进行灵敏、可靠的分析 25 使用安捷伦 LC/TOF 和 LC/Q-TOF 仪器提高痕量杂质鉴定的 分析效率 27 使用 2D-LC/MS 优化方法转移以实现质谱兼容性28 质谱数据分析对于准确的杂质检测和鉴定至关重要30 安捷伦有机杂质谱分析资源 33 3.2 无机杂质分析 34 安捷伦元素杂质分析出版物36 3.3 残留溶剂分析 36 安捷伦残留溶剂分析出版物38 4. 附录 39 4.1 安捷伦药物杂质分析解决方案 39 4.2 色谱柱与备件 40 4.3 软件与信息学产品 40 4.4 实验室法规认证和法规认证咨询 40 4

无菌制剂之眼用制剂的研究概述

无菌制剂之眼用制剂研究概述 摘要:灭菌与无菌制剂主要是指直接注入体内或直接接触创伤面、粘膜等的一类制剂。眼用制剂是无菌制剂的一个类别。眼用制剂是指直接用于眼部的无菌制剂。随着眼疾患者的增加和眼部保健要求的提高,眼用药物的使用日益频繁,而眼用制剂引起的眼及其周围黏膜的可逆性炎症改变等眼部不良反应出现频率增多,近年世界各国对眼用制剂的质量要求已逐渐向注射剂的质量要求方向发展。 关键词:灭菌与无菌制剂;灭菌与无菌技术;眼用制剂 1、概述 灭菌与无菌制剂主要是指直接注入体内或直接接触创伤面、粘膜等的一类制剂。眼用制剂是无菌制剂的一个类别。 2、灭菌与无菌制剂的定义及分类 《中国药典》对不同给药途径的药物制剂大体分为:规定无菌制剂和非规定无菌制剂(即限菌制剂)。限菌制剂是指允许一定限量的微生物存在,但不得有规定控制菌存在的药物制剂;如口服制剂不得含大肠杆菌、金黄色葡萄球菌等有害菌。 2.1 定义 根据药物制剂除去活微生物的制备工艺,将无菌制剂分为灭菌制剂与无菌制剂。 2.1.1灭菌制剂:采用某一物理、化学方法杀灭或除去所有活的微生物繁殖体和芽胞的一类药物制剂。 2.1.2无菌制剂:采用某一无菌操作方法或技术制备的不含任何活的微生物繁殖体和芽胞的一类药物制剂。 2.2 分类 药物制剂中规定灭菌或无菌制剂包括:

(1)注射用制剂:注射剂、输液、注射粉针等; (2)眼用制剂:滴眼剂、眼用膜剂、眼用软膏剂和凝胶剂等; (3)植入型制剂:植入片等; (4)创面用制剂:溃疡、烧伤及外伤用溶液、软膏剂和气雾剂等; (5)手术用制剂:止血海绵剂和骨蜡等。 3、灭菌与无菌技术 3.1采用灭菌与无菌技术的主要目的 杀灭或除去所有微生物繁殖体和芽胞,最大限度地提高药物制剂的安全性,保护制剂的稳定性,保证制剂的临床疗效。 3.2药剂学中灭菌法的分类 3.2.1物理灭菌法:利用加热、射线、过滤等物理方法杀死或除去微生物的方法 (1)干热灭菌法(热穿透力较差) 火焰适用:物品与用具 干热空气适用:耐高温玻璃与金属制品及药品 (2)湿热灭菌法 流通蒸汽灭菌适用:消毒、不耐热制剂 煮沸灭菌适用:消毒 低温间歇式灭菌适用:对热敏感制剂 (3)射线灭菌法 辐射灭菌适用:不耐热制剂 紫外线灭菌(紫外线和臭氧) 适用: 空气灭菌 微波灭菌适用:不耐热制剂 (4)滤过除菌法(机械除菌) 0.22 μm 或0.3 μm 的微孔滤膜滤器,G6号垂熔玻璃漏斗(芽胞> 0.5 μm) 3.2.2.化学灭菌法 (1)气体灭菌法(冷灭菌法)

P杂质谱分析的

P杂质谱分析的 集团文件版本号:(M928-T898-M248-WU2669-I2896-DQ586-M1988)

格式模板首先列出产品的杂志谱列表,比如:****产品杂质情况分析表

1、详细的反应方程式,包括结构式,反应温度,所有试剂,助剂,溶 剂,催化剂等。 2、结合CTD资料的其他部分,对物料控制进行说明,包括起始物料、 其他原料、溶剂、辅料(活性炭,硅藻土,硅胶等。)。 3、起始物料说明。起始物料符合广泛、易得、质量稳定,适合保存运 输等的原则;还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究,同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。比如头孢克洛,要对起始物料7-ACCA的工艺、杂质控制和质量情况 进行详细的说明。

4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据,比如头孢克洛的起始物 料7-ACCA的关键杂质△异构体,结合工艺和实验数据,说明杂质 产生来源,分布,控制策略等。第2、3、4内容可以在CTD的其他部分,比如物料说明部分进行。但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。 5、关于ICH的杂质鉴定、报告和质控限度:主要参考ICHQ3A(R2) 到ICHQ3D的相关规定 杂质,降解杂质等。 第一部分:起始物料引入的杂质分析(比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 引入的杂质) 1、无机杂质:说明引入情况和消除渠道;以及相关的控制方法和标准 以及依据。比如上述列表中的钯元素控制。 2、普通有机杂质。 3、对映异构体(根据品种的情况具体分析);考察不同的对应异构体 对最终产品质量的影响情况。 4、非对映异构体:比如ACCA的△异构体;还包括非对应异构体自身 的各种对映体。 第二部分:反应的每个步骤引入的杂质:需要结合实际反应监控(HPLC,LC-MS为主)过程对杂质消除过程以及对后续的影响进行实际说明。这个内容主要在工艺描述部分进行,本部分引用工艺描述内容。 1、步骤1引入的杂质。 2、步骤2引入的杂质。 3、步骤3引入的杂质。以及后续的步骤产生的杂质以及消除过程和简 单的控制描述…… 4、精制过程引入的杂质。 第三部分:结合小试中试数据汇总列表、方法适用性、实际检测结果等内容说明各个有机杂质的分布情况。

关于仿制药杂质分析方法的几点注意事项

关于仿制药杂质分析方法的几点注意事项 :1、在仿制药杂质谱的对比研究中,需关注该产品是否在ICH成员国药典收载,收载的检测方法与申报方法有无明显差异,是否进行了方法比较研究。如果申报方法与ICH成员国药典方法之间存在较大差异,应进行包括检测能力和样品测定结果的方法对比研究,在此基础上优选专属性好、灵敏度高,能够充分检出相关杂质的检测方法。 需要注意的是:在杂质一致性的研究求证中,分析手段不能等同于日常检测,分离技术(如HPLC法)应与质谱分析(或二极管阵列检测)相结合或使用分析标识物(如杂质对照品),以便从色谱行为、UV特征、分子量及分子碎片特征等信息共同把握其物质一致性。 2、如采用HPLC法的相对保留时间识别某特定未知杂质,需要进行充分的方法耐用性的验证,并在质量标准中规定色谱柱的品牌、规格、粒径、流动相流速等分析条件,以保证检测方法具有足够的重现性,仅仅按照药典标准格式规定色谱填料的类型是不够的。 3、关于杂质分析的定量方式,通常有以下几种: (1)杂质对照品法,即外标法。用于对已知杂质的控制,如采用该法,则应注意对该对照品进行定性和定量研究,需对含量进行准确标定,并提供相关研究信息。 (2)加校正因子的主成分自身对照法,即以主成分作对照的内标法,校正因子可在检测时测定,但需提供杂质对照品,也可在建立方法时将测得的校正因子载入质量标准,供以后常规检验使用,无需长期提供杂质对照品,但也仅适于已知杂质的控制。 (3)不加校正因子的主成分自身对照法,实质上也是以主成分作对照的内标法,但其前提是假定杂质与主成分的响应因子相同,适用于具有与主成分相同或类似发色团的杂质,在有关物质与主成分具有相似的分子结构的情况下,此法不致发生太大误差。 需要关注的是稳定性考察中采用自身对照法考察有关物质变化的相关问题,由于主药本身含量也会降低,因此以主药作为杂质计算的参考标准会影响到

杂质谱的分析

杂质谱的分析 在药品研发及药品评价的过程中,杂质研究是一项非常重要的内容。因为药物在临床使用过程中所发生的不良反应除了与药品本身的药理活性有关外,有时还与药品中所含有的杂质有很大的关系。众所周知,从事药品研发及药品评价所要遵循的一个基本原则就是要保证上市药品的安全性和有效性,由于药品质量的稳定可控是保证药品安全有效的前提和基础,而杂质研究又是药品质量研究的一项重要内容,所以杂质研究及杂质控制是药品质量保证的关键要素,是确保药品安全有效性的重要体现。 2005年SFDA颁布的《化学药物杂质研究技术指导原则》中明确说明任何影响药物纯度的物质统称为杂质。具体的解释就是指药物中所含有的没有治疗作用、可能影响药物的稳定性和疗效,甚至是对人体健康有害的物质。杂质的来源有工艺杂质和降解产物等,工艺杂质指的是药品在制备工艺过程中引入的杂质,它包括没有反应完全的反应物、反应过程中所生成的中间体及副产物、反应过程中所使用的试剂及催化剂等。降解产物指的是药品在生产和贮藏过程中发生化学变化而产生的杂质,如发生水解、氧化、开环等反应,降解产物主要与药物的结构特征密切相关。 由于杂质研究与药品的质量及安全有效性直接相关,为了提高药品的质量,保障公众的用药安全,因此,在药品研发过程中需规范地进行杂质研究,并将其控制在安全、合理的限度范围内。在杂质研究总体原则的指导下,其中杂质谱的分析应是杂质研究的重要内容之一。 一、杂质研究的总体原则 杂质研究的总体原则就是要结合在研产品具体的工艺以及产品的特点开展研究。首先,要结合具体工艺及产品特点来分析产品中可能产生什么样的杂质,通过杂质谱的分析对产品中杂质的来源及结构情况有较为全面的了解;然后,在杂质谱分析的基础上,有针对性地选择合适的分析方法,以确保杂质的有效检出及控制;最后,需综合药学、药理毒理及临床研究结果确定合理的杂质限度,从而保证药品的质量及安全性。 二、杂质谱的分析 前已提及,对于杂质谱的分析需结合具体的工艺及产品特点展开,下面简要

药物制剂本科毕业论文选题-推荐下载

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药物制剂毕业论文选题(1366个) 一、论文说明 本写作团队致力于毕业论文写作与辅导服务,精通前沿理论研究、仿真编程、数据图表制作,专业本科论文300起,具体可以联系 二、论文参考题目 药物制剂实训仿真系统在药学专业药物制剂方向实训教学中的应用 药物制剂新技术在中药制剂现代化中的应用 浅论壳聚糖在药物制剂中的应用研究进展 药物制剂一体化课程行动导向教学组织与实施 影响药物制剂稳定性因素及提高方法 药物制剂技术专业现代学徒制试点在我校的发展研究 浅析缓释、控释药物制剂的研究进展及临床应用 校内药物制剂实训车间建设的必要性浅析 校内药物制剂实训车间建设的可行性初探 天然药物制剂对脑血液循环的改善作用 浅谈影响药物制剂稳定性的主要因素及优化技术 药物制剂新技术概述 基于GMP指导下药物制剂工厂实训教学体系的探索与实践研究 药用辅料在《药物制剂》课程中的作用 基于药物制剂快乐学习的探索 浅谈药物多晶型对药物制剂的影响 兽用中药、天然药物制剂处方与成型工艺研究 药物制剂检查一体化教学初探 浅谈技能大赛对我院药物制剂专业教学改革的促进作用

药物制剂中溶出速率的研究 外用药物制剂药品生产质量管理规范实施现状分析与研究 基于药物制剂专业的课程教学策略研究 高职《药物制剂技术》网络课程建设探析 药物制剂专业物理化学课程教学的思考和探索 高职药物制剂综合实训改革探索 多肽及蛋白类药物制剂的给药途径探析 药物制剂实训改革—实训室建设改革探索 “药物制剂综合实训微格化探索”教学内容的改革 高职药物制剂技术课程体系改革 药物制剂专业英语教学改革探索 药物制剂新技术在中药制剂现代化中的应用 控释及缓释药物制剂的临床应用及研究 药物制剂技术专业实用性、技能型人才培养模式探讨 《药物制剂设备与车间工艺设计》的教学探讨 药物制剂专业见习的实践与探索 纳米技术在药物制剂研究中的应用分析 GMP仿真教学在药物制剂技术教学中的应用 药物制剂任务引领型课程体系构建初探 用于药物制剂的冷冻干燥技术及相关影响因素 浅谈药物制剂在现代的应用 试论影响药物制剂稳定性因素及提高方法 职业能力培养视角下高职药物制剂实践教学模式探索 中职药物制剂专业立体化教材建设思考 高职院校药物制剂技术专业订单式人才培养模式的探索与实践高职“药物制剂技术”实验教学创新与实践 影响药物制剂稳定性因素及提高方法 缓释、控释药物制剂的使用现状分析及应用 药物制剂实训工厂实施“企业化”管理模式探讨

化学药物制剂研究基本技术指导原则

化学药物制剂研究基本技术指导原则 (第二稿) 二ΟΟ四年三月十八日 目录 一、概述 二、制剂研究的基本内容 三、剂型的选择 四、处方研究 (一)、原料药 (二)、辅料 (三)、处方设计 (四)、处方筛选和优化 (五)、处方的确定 五、制备工艺研究 (一)、工艺设计 (二)、工艺研究 (三)、工艺放大

六、药品包装材料的选择 七、质量研究和稳定性研究 【附录】 【参考文献】 【起草说明】 【著者】 一、概述药物必须制成适宜的剂型才能用于临床。制剂研发的目的就是要保证药物的药效,降低毒副作用,提高临床使用的顺应性。如果剂型选择不当,处方、工艺设计不合理,对产品质量会产生一定的影响,甚至影响到产品疗效及安全性。因此,制剂研究在药物研究与开发中占有十分重要的地位。本指导原则是在参考国内外有关制剂研究的技术指导原则的基础上,根据药品研究开发的自身规律,结合国内药物研发实际状况,并考虑到目前制剂研究中容易被忽视的影响制剂质量、有效性、安全性的重点问题进行制订的。由于制剂的剂型及生产工艺纷繁复杂,且各种新剂型和新工艺也在不断出现,制剂研究中具体情况差异很大。本指导原则主要阐述制剂研究的基本思路和方法,为制剂研究提供基本的技术指导和帮助。关于各种剂型研究的详细技术要求,不在本指导原则中详述,药物研发者可参照本指导原则阐述的制剂研究的基本思路开展相应的研究工作。二、制剂研究的基本内容制剂的剂型种类繁多,生产工艺也有着各自的特点,研究中会面临许多具体情况和特殊问题。但制剂研究的总体目标是一致的,即通过一系列研究工作,保证制剂剂型选择依据充分,处方合理,工艺稳定,生产过程得到有效控制,适合工业化生产。制剂研究的基本内容是相同的,一般包括以下方面:

杂质谱的分析

发布日期20070628 栏目化药药物评价>>化药质量控制 标题杂质谱的分析 作者于红 部门 正文内容 审评四部审评七室于红 在药品研发及药品评价的过程中,杂质研究是一项非常重要的内容。因为药物在临床使用过程中所发生的不良反应除了与药品本身的药理活性有关 外,有时还与药品中所含有的杂质有很大的关系。众所周知,从事药品研发 及药品评价所要遵循的一个基本原则就是要保证上市药品的安全性和有效 性,由于药品质量的稳定可控是保证药品安全有效的前提和基础,而杂质研 究又是药品质量研究的一项重要内容,所以杂质研究及杂质控制是药品质量 保证的关键要素,是确保药品安全有效性的重要体现。 2005年SFDA颁布的《化学药物杂质研究技术指导原则》中明确说明任何影响药物纯度的物质统称为杂质。具体的解释就是指药物中所含有的没有 治疗作用、可能影响药物的稳定性和疗效,甚至是对人体健康有害的物质。 杂质的来源有工艺杂质和降解产物等,工艺杂质指的是药品在制备工艺过程

中引入的杂质,它包括没有反应完全的反应物、反应过程中所生成的中间体及副产物、反应过程中所使用的试剂及催化剂等。降解产物指的是药品在生产和贮藏过程中发生化学变化而产生的杂质,如发生水解、氧化、开环等反应,降解产物主要与药物的结构特征密切相关。 由于杂质研究与药品的质量及安全有效性直接相关,为了提高药品的质量,保障公众的用药安全,因此,在药品研发过程中需规范地进行杂质研究,并将其控制在安全、合理的限度范围内。在杂质研究总体原则的指导下,其中杂质谱的分析应是杂质研究的重要内容之一。 一、杂质研究的总体原则 杂质研究的总体原则就是要结合在研产品具体的工艺以及产品的特点开 展研究。首先,要结合具体工艺及产品特点来分析产品中可能产生什么样的杂质,通过杂质谱的分析对产品中杂质的来源及结构情况有较为全面的了解;然后,在杂质谱分析的基础上,有针对性地选择合适的分析方法,以确保杂质的有效检出及控制;最后,需综合药学、药理毒理及临床研究结果确定合理的杂质限度,从而保证药品的质量及安全性。 二、杂质谱的分析 前已提及,对于杂质谱的分析需结合具体的工艺及产品特点展开,下面简要介绍关于杂质谱分析的若干途径。 1.对于原料药,需依据所采用的具体合成工艺来分析在研产品中可能产生的杂质。 例如:抗心绞痛药物盐酸曲美他嗪质量标准中哌嗪的检查,曲美他嗪的合

药物制剂分析及答案

药物制剂分析及答案 一、A1 1、注射剂的细菌内毒素检查所采用的方法是 A、家兔法 B、鳖试剂法 C、生物检定法 D、细菌检查法 E、理化检查法 2、属于注射剂检查项目的是 A、细菌内毒素检查 B、崩解时限 C、融变时限 D、释放度 E、沉降体积比 3、凡规定检查含量均匀度的注射用无菌粉末,一般不再进行 A、装量差异检查 B、释放度检查 C、崩解度检查 D、重量差异检查 E、微生物限度 4、注射剂的质量要求不包括 A、无菌 B、无热原 C、澄明度 D、粘稠度 E、pH值 5、需要检查热原的制剂是 A、栓剂 B、滴眼剂 C、口服液 D、普通片剂 E、静脉用注射剂 6、注射剂的一般检查不包括 A、注射液的装量差异 B、注射液的澄明度检查 C、注射液的无菌检查 D、热原检查

7、需进行含量均匀度检查的制剂 A、搽剂 B、大剂量液体制剂 C、单剂量口服固体制剂 D、滴眼剂 E、洗剂 8、能间接反映片剂在体内吸收情况的检查项目是 A、溶解度 B、含量均匀度 C、片重差异 D、溶出度 E、程度 9、片剂重量差异检查操作时应取 A、5片 B、10片 C、15片 D、20片 E、30片 10、含量均匀度检查是指 A、按规定称量方法测得每片的重量与平均片重之间的差异程度 B、单剂量的固体、半固体和非均相液体制剂含量符合标示量的程度 C、口服固体制剂在规定的介质中,以规定的方法进行检查全部崩解、溶散或成碎粒并通过筛网所需时间的限度 D、药物从片剂、胶囊剂、颗粒剂等固体制剂在规定溶剂中溶出的速率和程度 E、药物从缓释制剂、控释制剂、肠溶制剂及透皮贴剂等在规定溶剂中释放的速率和程度 11、微生物限度检查不包括 A、细菌数 B、霉菌数 C、酵母菌数 D、病毒数 E、控制菌 12、凡检查含量均匀度的制剂不再检查 A、崩解时限 B、重(装)量差异 C、溶出度 D、主药含量 E、释放度 13、片剂在0.3g或者0.3g以上的片剂的重量差异限度为

新药制剂杂质指导原则

ICH Q3B(R2)新药制剂中的杂质(降解产物)指导原则 [德斯特cGMP咨询整理] 杂质术语 降解产物(Degradation Product):是指新药制剂在生产和贮藏过程中,因如光照、温度、pH、水或与赋形剂和/或包装系统互相反应而导致原料药发生化学变化而产生的杂质。 降解概况(Degradation Profile):对新原料药或制剂中被检测到的降解产物的的数量及含量。鉴定限度(Identification Threshold):为一限度,高于此限度的降解产物需鉴定其结构。 已鉴定的降解产物(Identified Degradation Product):化学结构已明确的降解产物。 杂质(Impurity):新药制剂中除了原料药或赋形剂以外的任何其他成分。 杂质概况(Impurity Profile):对存在于药物制剂中的所有已鉴定和未鉴定的杂质的数量与含量。 界定(Qualification):是获得和评价某些数据的过程,这些数据可用于确保单个杂质或在特定的含量下的一系列杂质的生物安全性。 界定限度(Qualification Threshold):为一限度,高于此限度的降解产物需界定其安全性。报告限度(Reporting Threshold):为一限度,高于此限度的降解产物需报告其含量。 特定的降解产物(Specified Degradation Product):已被列入新药制剂质量标准中并规定了认可标准的降解产物。一个特定的降解产物可以是结构已经鉴定或未鉴定的。 未鉴定的降解产物(Unidentified Degradation Product):未确证其结构,仅通过定性分析手段(如色谱保留时间等)来定义的降解产物。 非特定的降解产物(Unspecified Degradation Product):新药制剂质量标准中,其限度在总的认可标准中控制而不单独控制的降解产物。 附件1:新药制剂中降解产物的限度

药物制剂杂质研究概述

描述: 摘要:目的对药物制剂杂质研究方法进行归纳和总结,对杂质的分析方法和标准建立做相关探讨方法通过查阅杂质分析研究方面的文献资料结果总结梳理了杂质的研究分 析过程结论色谱条件、波长等关键因素的确认应合理。 关键词:制剂杂质色谱 药物杂质是指在药品生产、运输、储存过程中产生的或引入的影响药物纯度的物质,主要包括有机杂质、无机杂质、残留溶剂等;有机杂质主要是通过药物本身降解、缔合或药物之间的反应产生的;无机杂质主要是原料药制备过程中加入的一些如催化剂、无机盐、配位体等;残留溶剂主要是反应试剂的残留。药物杂质直接关系到临床用药的安全性,因为某些杂质过量可能会使人体产生过敏反应,甚至危及病人生命,因此建立一个专属性强、灵敏度高的的杂质分析方法并得到科学的方法学验证是在药品研发评价及生产过程中质量控制必不可少的有效手段。 1 杂质分析 杂质分析主要是通过高效液相色谱法(HPLC)、气相色谱法(GC)、薄层色谱法(TLC)等分析方法进行检测,目前较常用高效液相色谱法(HPLC),且多使用梯度洗脱。为了准确的检出药物中存在的杂质,在初步确定色谱条件后,首先需利用破坏性试验确认各杂质的分离度、峰纯度以及波长的选择是否合理,在确定上述条件后,可根据ICH关于方法学的要求进行方法学验证,并完成相关杂质的结构确认工作。 破坏性试验:破坏性试验是指在酸、碱、氧化、高温、高湿、光照等相对剧烈的条件下,对药品进行破坏,从而产生较多的降解产物,模拟货架期内药品降解产生杂质,以验证在当前色谱条件下,各降解杂质峰与主峰,以及各降解杂质峰之间的分离度是否符合要求。 破坏条件:如酸破坏(0.05M盐酸8 h);碱破坏(0.02M氢氧化钠溶液8 h);氧化破坏(0.15%双氧水1.5小时);高温破坏(100 ℃5个小时);光照破坏(4500LX15 d)等,具体破坏条件的制定因药物化学性质不同而不同,具体指标为主峰降解10%~15%,可参照峰高。 峰纯度测试:在经过破坏性试验后,降解产生较多杂质,采用高效液相色谱法进行分离时,不仅需要考虑各杂质峰之间,杂质峰与主峰之间的分离度,还应考察各峰的峰纯度,因为分离度不能够说明主峰或者各杂质峰中没有包含其他峰,峰纯度测试主要采用DAD检测器,且峰纯度一般不应小于950。 波长的确定:波长的选择时可采用DAD检测器,样品溶液在经过合理的破坏后,在同一色谱条件下,使用多波长扫描各破坏条件下样品溶液,可以有效检出已知杂质,并且检出

化学药物复方制剂杂质研究的特点

化学药物复方制剂杂质研究的特点 [关键词]:复方制剂,杂质研究,化学药物 化学药物复方制剂在药品注册申请中已占有相当比例。复方制剂含有1种以上药物,涉及的杂质来源及种类复杂多样,其杂质研究亦较单方制剂要复杂得多。复方制剂杂质研究工作的评价也是其质量控制方面技术审评的重点和难点,同时也是经常需以补充资料的形式完善药物质量研究的问题之一。 对于复方制剂的杂质研究,已公布的国内外杂质研究技术指导原则中未予具体涉及。本文在分析化学药物复方制剂杂质研究特点的基础上,提出一些研究工作的基本思路,供化学药物复方制剂开发中杂质研究工作及技术审评工作参考。 1 复方制剂杂质研究的特点 复方制剂的杂质研究除应符合药物制剂杂质研究的一般性要求之外,还有以下特点:①复方制剂由2种或2种以上药物组成,其杂质包括各原料药中带入的杂质,各药物在制剂制备过程和贮藏期间产生的降解产物,以及各药物之间、药物与辅料之间可能的相互作用产生的降解产物。因此,复方制剂的杂质数目多,且其来源具有多样性。②由于复方制剂杂质数目多及来源的多样性,使得杂质的分离检出、定性及定量研究工作更加困难。③复方制剂杂质的检查方法应兼顾不同来源的杂质,同时应重点监控毒性杂质及稳定性较差药物的降解产物,因此检查方法的建立及限度的确定均较单方制剂复杂得多。 2 复方制剂杂质研究的基本思路 复方制剂杂质研究的目的与单方制剂一样,是为了有效地控制制剂中杂质的含量,特别是控制有毒有害杂质的量不超过可接受的限度,并为制剂处方工艺选择、贮藏条件的确定提供有用信息。 复方制剂进行杂质研究,首先应采用适当的方法,分析确定各杂质的来源,对杂质进行定性研究和归属,因为杂质限度的确定必须以明确的归属为基础。对于毒性杂质,需明确归属才能严格控制,制定合理的限度;即使对于一般的微量未知杂质,由于来源于不同主药,其可接受的限量可能不同,一般也应确定其来源,除非杂质的量小于制剂中含量最小药物可接受的未知杂质限量。 复方制剂杂质研究采用的检测方法应能有效分离各杂质,方法的灵敏度除应符合一般要求外,还要关注对制剂中含量较小的药物产生的杂质的检出能力。 2.1 复方制剂杂质来源归属研究 2.1.1 杂质的分析预测复方制剂中杂质来源之一是由原料药制备过程引入的杂质(如残留的反应原料、中间体、副反应产物等),这部分杂质由于在原料药质量标准中已有相应的控制方法,故不是制剂杂质研究的重点关注对象。

P杂质谱分析的

格式模板首先列出产品的杂志谱列表,比如:****产品杂质情况分析表

1、详细的反应方程式,包括结构式,反应温度,所有试剂,助剂,溶 剂,催化剂等。 2、结合CTD资料的其他部分,对物料控制进行说明,包括起始物料、 其他原料、溶剂、辅料(活性炭,硅藻土,硅胶等。)。 3、起始物料说明。起始物料符合广泛、易得、质量稳定,适合保存运 输等的原则;还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究,同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。比如头孢克洛,要对起始物料7-ACCA的工艺、杂质控制和质量情况 进行详细的说明。 4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据,比如头孢克洛的起始物 料7-ACCA的关键杂质△异构体,结合工艺和实验数据,说明杂质 产生来源,分布,控制策略等。第2、3、4内容可以在CTD的其他部分,比如物料说明部分进行。但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。 5、关于ICH的杂质鉴定、报告和质控限度:主要参考ICHQ3A(R2) 到ICHQ3D的相关规定 杂质,降解杂质等。

第一部分:起始物料引入的杂质分析(比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 引入的杂质) 1、无机杂质:说明引入情况和消除渠道;以及相关的控制方法和标准 以及依据。比如上述列表中的钯元素控制。 2、普通有机杂质。 3、对映异构体(根据品种的情况具体分析);考察不同的对应异构体 对最终产品质量的影响情况。 4、非对映异构体:比如ACCA的△异构体;还包括非对应异构体自身 的各种对映体。 第二部分:反应的每个步骤引入的杂质:需要结合实际反应监控(HPLC,LC-MS为主)过程对杂质消除过程以及对后续的影响进行实际说明。这个内容主要在工艺描述部分进行,本部分引用工艺描述内容。 1、步骤1引入的杂质。 2、步骤2引入的杂质。 3、步骤3引入的杂质。以及后续的步骤产生的杂质以及消除过程和简 单的控制描述…… 4、精制过程引入的杂质。 第三部分:结合小试中试数据汇总列表、方法适用性、实际检测结果等 内容说明各个有机杂质的分布情况。 第四部分:潜在杂质在成品中的检测结果

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