镍电沉积实验
各类金属电化学沉积机制的研究与应用分析
各类金属电化学沉积机制的研究与应用分析一、导言金属电化学沉积是指在电化学反应中,通过外加电压和电流下,金属原子离子被还原物吸附并形成金属沉积物的过程。
金属电化学沉积过程是一种简单、快速、高效的沉积方法,可用于各种不同金属沉积薄膜。
本文旨在探索各类金属电化学沉积机制的研究与应用分析。
二、铜电化学沉积机制铜电化学沉积是最常见的电化学沉积方法之一,可用于工业生产中的电路板、微电子设备和太阳能电池等行业。
铜电化学沉积是通过向铜盐溶液中施加电场来监听铜离子,并沉积在表面上。
沉积机制采用铜离子在氧化还原反应中的还原过程,具体过程如下:Cu2+ + 2e- → Cu (电化学反应)因此,铜池被称为“还原池”,水分子也可能被还原成氢气,化学方程式如下:H2O + 2e- → H2 + 2OH-三、镍电化学沉积机制镍电化学沉积是一种常用的镍涂层方法,广泛应用于半导体、电池、汽车零部件等行业。
镍电化学沉积机制是镍离子通过电化学还原转化成金属镍,具体反应如下:Ni2+ + 2e- → Ni镍电化学还原反应中,镍的电极电动势比水还原大1.7伏,因此,此电化学反应非常浓烈,不需要添加还原剂。
在电解质中,引入一定量的NiCl2 作为离子源,镍电解时,镍离子向阳极迁移,致力于向阳极释放电子与 Cl- 离子发生电极筛选,碳块向阳极通电,导致表面发生化学反应,即生成 Ni2+ 离子。
四、铬电化学沉积机制铬电化学沉积可用作防腐、美化工程在不锈钢、铸铁、铜等材料表面的处理。
铬电化学沉积是通过在含铬离子的电解液中将铬离子沉积在基材表面的过程。
铬离子被还原成金属铬时,电解质中的酸性越高,还原得越彻底。
铬化学反应如下:Cr3+ + 3e- → Cr五、锌电化学沉积机制锌电化学沉积应用广泛,可在热交换、汽车工业以及裸钢及钢铁制品保护等多个领域中使用。
锌电化学沉积离子(Zn2+)沉积在金属表面的机制如下:Zn2+ + 2e- → Zn当电解液浓度越来越高时,锌离子的浓度也有显着的增加,且锌离子的沉积是一个快速而简单的过程。
电沉积Ni-Ru合金及其电化学性能研究的开题报告
电沉积Ni-Ru合金及其电化学性能研究的开题报告
1. 研究背景
镍和铑合金具有良好的物理和化学性质,在电化学制备、电催化和电化学储能等领域有着广泛的应用。
然而,单独使用镍或铑会存在一些局限性,因此研究Ni-Ru合金的电化学性能具有重要的理论和应用价值。
目前,电沉积技术是制备Ni-Ru合金的主要方法之一。
2. 研究目的
本研究的主要目的是通过电沉积Ni-Ru合金的方法,探究合金组成对其电化学性能的影响。
具体来说,将研究以下内容:
- 不同电位、时间和电解液条件下的Ni-Ru合金电沉积实验;
- 合金组成、晶体结构、表面形貌的表征;
- 在不同条件下Ni-Ru合金的电化学性能,包括电化学活性、催化活性和电容性能等。
3. 研究方法
- 电化学沉积法:采用三电极体系,即工作电极、参比电极和计时器电极,控制电位和时间,将Ni、Ru沉积于导电玻璃等基底上;
- 表征方法:使用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、能谱分析(EDS)、拉曼光谱仪等,对 Ni-Ru合金的组成、晶体结构和表面形貌等进行表征;
- 电化学性能测试:采用循环伏安法(CV)、线性扫描伏安法(LSV)和交流阻抗法(EIS)等,测量Ni-Ru合金的电化学性能;同时,还将进行电容性能测试和其他相关性能的测试。
4. 研究意义
本研究的结果可以为制备Ni-Ru合金及其在电化学领域的应用提供理论和实验基础。
同时,通过探究Ni-Ru合金的电化学性能,为其他金属合金的电化学行为研究提供参考和借鉴。
此外,研究结果还可能对提高电化学催化反应的效率和催化剂的稳定性等有着重要的意义。
镀镍实验_精品文档
❖ 而pH值的高低应根据镀液中硫酸镍的质量浓度来控制的。 ❖ 如硫酸镍含量高时,pH值则应偏低些,硫酸镍含量偏低时,
pH值应偏高些。 ❖ 电解液在正常生产情况下,pH值呈缓慢上升状态,当pH值
升至6时,接近碱性,均镀能力差、镀层起泡、脱皮等。 ❖ 镀液中的pH值对各种因素的影响程度一般不可预见。最佳
❖ 生产实践表明,镀镍中的硼酸含量低于20 g/L时,缓冲 作用较弱,当含量达到30 g/L时,缓冲作用开始显著, 所以普通镀镍液中含量宜在25~35 g/L范围内;一般 光亮镍中常以35~40 g/L为宜;而现代光亮快速镀镍 中提倡在40~50 g/L范围内
❖ 常温下硼酸的溶解度为40g/L,当硼酸含量过于偏高时, 会降低阴极电流效率,在温度低时易结晶析出,造成 镀层粗糙、毛刺和原材料的浪费(这就是镀镍溶液为 什么要加热的原因之一)
❖ 但是另一方面,加温也可能造成缺点,如下: ⑴盐类的水解及生成氢氧化合物沉淀的倾向增加,特别是铁杂质的水解 可能形成针孔故障; ⑵镀层易钝化; ⑶溶液的分散能力降低
❖ 而pH值的高低应根据镀液中硫酸镍的质量浓度来控制的。 ❖ 如硫酸镍含量高时,pH值则应偏低些,硫酸镍含量偏低时,
pH值应偏高些。 ❖ 电解液在正常生产情况下,pH值呈缓慢上升状态,当pH值
❖ 氯化镍促进阳极溶解,增大电导率,提高阴极效率,同时提 高阴极电流密度上限。镀液中氯化镍是阳极活化剂和导电盐, 导电性和覆盖能力比硫酸镍要好,但是氯离子过高时会增加 镀层的内应力。
❖ 氯化镍最好大于40g/L,低于此浓度,镍阳极会出现钝化现 象,氯化镍浓度过高,则电沉积层应力增大。
⑷硼酸
❖ 白色结晶性粉末或无色微带珍珠状光泽的鳞片。无 气味。味微酸苦后带甜。与皮肤接触有滑腻感。露 置空气中无变化。能随水蒸气挥发。在水溶液中会 产生如下的化学平衡: H3BO3 = H﹢+H2BO3-
金属镍电沉积中枝晶分形生长的研究
为 阴极 , 自行 设计 的 试 验 设 备 制 备 了二 维 的金 属 镍 枝 晶 以 验 证 模 拟 结 果 。 结 果 表 明 , 保 持 电 压 恒 定 的 条 件 下 , 沉 积 层 用 在 镍 的 形 貌 特 征 为 具 有 分 形 结构 的枝 晶 , 与采 用 D A模 型模 拟 所得 的二 维 枝 晶形 貌 具 有 相 似 性 , 明该 模 型 对 枝 晶 电沉 积 的 实 这 L 表
王桂峰 。 黄 因慧 , 刘 志东 , 田宗 军 。 陈劲 松 , 高 雪松 ( 南京航 空航 天 大 学 机 电学院 ,江 苏 南京 20 1 ) 10 6
WA G i eg I NG Ynh i L U Z 1 o g T A o gj ,C N Jnsn ,G O X esn N Gu. n , t f UA i.u, I h. n , I N z n - d 岫 HE i- g A u _ g o o
n on lcr d 8c t d a d a p itee to e a a e e.t et d me in ld n rteo ik li e ae ots dv rf esi la o h l wo-i nso a e d i fnc e sprp rd t e ta eiyt tmu t n.Th s t h w a e l i n h i er u ss o t t e l h t h de d ie o c e a h haa tro rca ,whc ssmi rt e rs to t l a o n rt fn k lh ste c r ce fa fa tl i ih i i l ot e u fs mu t n.I ud b epu o u et e mo e o drc e a h l i i two e h lf t s d lt i tt l l h e h e p r na o fd n rt rsa . x e me tt n o e d i c cy t1 i i i Ke y wor s: nc e ;ee to e sto d i k l lcr p iin;fa tl d o rca ;de drt n ie;dfu in lmi d a g e a o i so —i t g r g t n e i
实验10镍电沉积及镀层的结构与性能测试
2005-11
Comprehensive Chemical Experiments
11
• 3. 在2的溶液中依次加入糖精、苯亚磺酸钠、 镍光亮剂XNF和十二烷基硫酸钠,使其浓 度分别为1.0 g/L、0.1g/L、3 mL/L和0.1 g/L分别进行同2的实验和记录。
2005-11
Comprehensive Chemical Experiments
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• 4. 在含所有添加剂的光亮镍镀液中,比较 镀液搅拌与不搅拌、常温和实验温度下镍 的沉积层质量,并进行记录。
2005-11
Comprehensive Chemical Experiments
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五、注意事项
• 电沉积实验前必须仔细检查电路是否接触良好或 短路; • 阴极片要认真水洗; • 除油和酸洗要彻底; • 加入添加剂时要按计算量加入,不能多加; • 新配镀液要预电解; • 电镀时要带电入槽; • 电镀过程中镀液挥发应及时用去离子水补充并调 整pH值。
2005-11 Comprehensive Chemical Experiments
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• 极化:金属的阴极反应过程中,在某一极 化电流下,电极电位偏离平衡电位的现象。 • 极化度:电位ψ和电流i的Δψ/Δi比值 • 过电位: 在某一极化电流下,相应的电极电 位偏离平衡电位的值。 • 通过极化曲线中极化、极化度和过电位的 变化来分析镀液组分和添加剂的作用。 • 通过 Tafel曲线的制作,求得电极过程动力 学参数。
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镀层的厚度L和沉积速度υ的计算:
• Sc为阴极面积,ρNi为金属Ni的密度(= 8.9 g/cm3),t为电镀时间
υ=L/t
远 阴 极 — 阳 极 + 近 阴 极 —
Ni-Co-W合金电沉积行为及成核机理
Ni-Co-W合金电沉积行为及成核机理温林洁,张丽楠,周宗熠,李运刚,杨海丽*(华北理工大学冶金与能源学院,现代冶金技术教育部重点实验室,河北唐山063210)摘要:采用循环伏安、阴极极化曲线、电化学阻抗谱、计时电流等方法对Ni-Co-W合金的电沉积行为及成核机理进行研究。
结果表明,Ni-Co-W合金的电沉积是一个存在成核行为的不可逆过程。
Ni-Co-W合金的成核机制为瞬时成核,合金的电沉积由动力学和扩散过程混合控制,主要受动力学控制。
关键词:Ni-Co-W合金;电沉积行为;成核机理;速率控制步骤中图分类号:TQ153.2文献标识码:AElectrodeposition Behavior and Nucleation Mechanism of Ni-Co-W AlloyWEN Linjie,ZHANG Linan,ZHOU Zongyi,LI Yungang,YANG Haili*(College of Metallurgy and Energy,Key Laboratory of the Ministry of Education for Modern Metallur‐gy Technology,North China University of Science and Technology,Tangshan063210,China)Abstract:The electrodeposition behavior and nucleation mechanism of Ni-Co-W alloy were studied by cyclic voltammetry,cathodic polarization curve,electrochemical impedance spectroscopy and chrono‐amperometry.The results show that electrodeposition of Ni-Co-W alloy is an irreversible process with nucleation behavior.The nucleation mechanism of Ni-Co-W alloy is instantaneous nucleation.The elec‐trodeposition of alloys is controlled by both kinetics and diffusion processes,and is mainly controlled by kinetics.Keywords:Ni-Co-W alloy;electrodeposition behavior;nucleation mechanism;rate-determining stepNi-Co合金具有良好的延展性、软磁性,被广泛应用于各种磁性器件领域[1]。
电沉积Ni-Fe合金工艺及镀层耐蚀性的研究
性 ; 张郁 彬 等 研 究 表 明 , 3 5 氯 化 钠 溶 液 在 .% 中 , 着 镍一 合 金 中 铁 含 量 的 升 高 , 粒 细 化 , 随 铁 晶 ( e 为 3 % 的镍 . 合 金 耐 蚀 性 最 佳 , 以在 防 F) 6 铁 可
hg e tc ro in r ssa c . ih s o r so e itn e
Ke wor y ds:NiFe a ly c ai g;ee to e o i o — lo o tn l cr d p st n;c ro in r ssa c i o so e it n e
引 言
N .e合金 具 有 不 同 于单 质 铁 、 金 属 粉 末 的 i F 镍 特殊 性能 和 软 磁 性 , 吸 波 材 料 、 性 材 料 及 硬 质 在 磁 合金 等领 域 具 有 广 泛 的 应 用 前 景 , 合 金 镀 层 其 不但 具有 优 良的焊 接 性 , 可 作 为 纯 镍 镀 层 的替 代 还
中 图分类 号 : Q 5 . T 132
文献标 识 码 : A
Elc r d p st0 c n l g n r o i n Re it n e o e t 0 e 0 ii n Te h o o y a d Co r so ssa c f
NiFe Al y Co tn — l a ig o C E G H a U o gxa WA u ,WA G C e A G Y nh i H N u ,G O H n —i , NG Q n N h ,T N u —u
采 用 L 2 0 A电化学 工作 站 ( 津兰力 科 化 学 K 05 天 电子 高技术公 司 ) 测定 所 制 备 的 N—e 金 镀 层 在 i 合 F
镍电沉积实验
镍电沉积实验(一)电沉积工艺条件—Hull 槽试验1.熟悉Hull槽试验的基本原理、实验操作和结果分析。
2.试验并了解添加剂糖精、苯亚磺酸钠、镍光亮剂XNF和十二烷基硫酸钠对电沉积光亮镍的影响。
电沉积是用电解的方法在导电基底的表面上沉积一层具有所需形态和性能的金属沉积层的过程。
传统上电沉积金属的目的,一般是改变基底表面的特性,改善基底材料的外观、耐腐蚀性和耐磨损性。
现在,电沉积这一古老而又年轻的技术正日益发挥着其重要作用,已广泛应用于制备半导体、磁膜材料、催化材料、纳米材料等功能性材料和微机电加工领域中。
电沉积过程中,由外部电源提供的电流通过镀液中两个电极(阴极和阳极)形成闭合的回路。
当电解液中有电流通过时,在阴极上发生金属离子的还原反应,同时在阳极上发生金属的氧化(可溶性阳极)或溶液中某些化学物种(如水)的氧化(不溶性阳极)。
其反应可一般地表示为:阴极反应:M n++n e=M(1)副反应:2H++2e=H2(酸性镀液)(2)2H2O+2e=H2+2OH-(碱性镀液)(3)当镀液中有添加剂时,添加剂也可能在阴极上反应。
阳极反应:M–n e=M n+(可溶性阳极)(4)或2 H2O –4 e = O2+ 4 H+ (不溶性阳极,酸性) (5)镀液组成(金属离子、导电盐、配合剂及添加剂的种类和浓度)和电沉积的电流密度、镀液pH值和温度甚至镀液的搅拌形式等因素对沉积层的结构和性能都有很大的影响。
确定镀液组成和沉积条件,使我们能够电镀出具有所要求的物理-化学性质的沉积层,是电沉积研究的主要目的之一。
镍电沉积层在防护装饰性和功能性方面都有广泛的应用。
大量的金属或合金镀层如Cr、Au及其合金、Sn及其合金、枪黑色Sn-Ni合金、CdSe合金等都是在光亮的镍镀层上电沉积进行的。
在低碳钢、锌铸件上沉积镍,可保护基体材料不受腐蚀,并可通过抛光或直接电沉积光亮镍达到装饰的目的。
在被磨损的、腐蚀的或加工过度的零件上进行局部电镀镍,可对零件进行修复。
添加剂对膜电沉积镍效果影响的实验研究
添加剂对膜电沉积镍效果影响的实验研究李韬;王三反;周键;余宏亮;王宜琪【期刊名称】《有色金属工程》【年(卷),期】2017(007)006【摘要】以H2SO4/NiSO4作为研究对象,采用离子膜电积技术提取金属镍。
研究三种典型添加剂糖精、硫脲、十二烷基硫酸钠浓度对膜电积效果的影响。
结果表明,最适糖精浓度2.0 g/L时,电流效率达到93.78%,酸回收率为36.44%,能耗为3780 kW·h/t;最适硫脲浓度在0.05 g/L时,电流效率达到92.34%,酸回收率为34.89%,能耗为4 006 kW·h/t;最适十二烷基硫酸钠浓度在0.05 g/L时,电流效率达到89.01%,酸回收率为31.09%,能耗为4 800 kW·h/t,此时电镍平整光亮,晶粒结合紧密,气孔皲裂较少,形貌质量良好。
【总页数】7页(P47-53)【作者】李韬;王三反;周键;余宏亮;王宜琪【作者单位】[1]兰州交通大学环境与市政工程学院,兰州730070;[2]寒旱地区水资源综合利用教育部工程中心,兰州730070;;[1]兰州交通大学环境与市政工程学院,兰州730070;[2]寒旱地区水资源综合利用教育部工程中心,兰州730070;;[1]兰州交通大学环境与市政工程学院,兰州730070;[2]寒旱地区水资源综合利用教育部工程中心,兰州730070;;[1]兰州交通大学环境与市政工程学院,兰州730070;[2]寒旱地区水资源综合利用教育部工程中心,兰州730070;;[1]兰州交通大学环境与市政工程学院,兰州730070【正文语种】中文【中图分类】TF839【相关文献】1.离子膜电解法电沉积回收硫酸镍体系中金属镍的实验研究2.添加剂对膜电沉积镍效果影响的实验研究3.平行强磁场对电沉积镍-铁合金膜显微组织的影响(一)匀强磁场实验研究部分4.镍的电沉积机理和镀镍添加剂若干问题的探讨5.酸性镀镍中有机添加剂对镍电沉积的作用机理因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买。
电沉积镍铁合金实验
班级:09 应化姓名:张健学号:14091801292 课程论文题目:电沉积镍铁合金实验评阅成绩:日期:2012 年6月9 日摘要:电沉积是用电解的方法在导电基底的表面上沉积一层具有所需形态和性能的金属沉积层的过程。
现在已广泛应用于制备半导体、磁膜材料、催化材料、纳米材料等功能性材料和微机电加工领域中。
镍铁合金电沉积层在防护装饰性和功能性方面都有广泛的应用。
关键词:电沉积镍铁合金稳定剂添加剂pH Hull槽Abstract: The electrodeposition process of electrolytic deposition layer on the surface of the conductive substrate has the desired shape and properties of metal deposition layer. It is now widely used in the preparation of semiconductor, magnetic film materials, catalytic materials, nano materials and functional materials and MEMS processing areas. Nickel-iron alloy electrodeposition layer protective decorative and functional, have a wide range of applications.Key words:electrodeposition inconel stabilizer additive pH Hull slot1.前言电沉积是用电解的方法在导电基底的表面上沉积一层具有所需形态和性能的金属沉积层的过程。
传统上电沉积金属的目的,一般是改变基底表面的特性,改善基底材料的外观、耐腐蚀性和耐磨损性。
电沉积法制备纳米氢氧化镍粉末
电解法制备纳米氢氧化镍前言电化学沉积法制备氧化物超级电容器电极,具有直接一步制成电极的优点,简化了电极制备过程。
同时,由电沉积方法制备的氧化物的比容量高,从这个角度来看该方法具有良好的应用前景。
用电沉积法制备纳米材料是目前纳米材料制备中最为活跃的一个领域,该方法是通过选用合适的电极材料,对电解液进行电解,调节电极电位、电流来控制反应的方向和速度,在电极上产生所需要的物质。
沉积的方法主要包括直流电沉积、脉冲电沉积、喷射电沉积和复合电沉积等方法。
在电沉积过程中,沉积层的形成包括两个过程:一是晶核的生成,二是晶核的成长。
如果晶核的生成速度大于晶核的成长速度,则可获得晶粒细小致密的沉积层。
电化学法合成纳米 Ni(OH)2和 NiO 具有成本低,操作简便,环境污染小,所得产物纯度高,分散性好等优点,近年来引起了人们的重视。
在外加电流的作用下,金属镍阳极氧化成 Ni2+,水分子在阴极上还原析氢产生 OH-,两者反应生成 Ni(OH)2沉淀。
根据电解液是否含水可分为水溶液法和非水溶液法。
水溶液法是利用恒流阴极极化和恒电位阳极电沉积法将 Ni(OH)2沉积到 Ni 32基体上,电化学沉积得到水合 Ni(OH)2,吸附水嵌入到 Ni(OH)2晶格中。
非水电解法是以纯金属镍板作阳极,惰性电极(石墨、铂、银)作阴极,醇作电解液,电解液及整个电解过程不能有水的存在,由于醇不导电,所以必须加入支持电解质,支持电解质可选用铵盐和季铵盐,采用直流电或整流交流电在醇沸点温度下加热电解。
纳米氢氧化镍材料的制备方法。
subbaiha等报道[25],在电沉积合成Ni(OH)2时,氢氧化镍的粒度随电流密度的增加而增大,但电流效率和堆积密度却随之减小,堆积密度随镍的原始浓度增加而增大。
文献报道[26],电流密度和温度对电化学沉积Ni(OH)2的表面形态和电化学活性也有影响。
而且用椭圆光度法现场监测氢氧化镍的电化学沉积过程,发现在特定的电流密度下可得到结构紧密和分布均匀的氢氧化镍薄膜[27]。
《2024年镀液成分和添加剂对电沉积Ni-W-P合金镀层影响的研究》范文
《镀液成分和添加剂对电沉积Ni-W-P合金镀层影响的研究》篇一一、引言随着现代工业的快速发展,电沉积技术已成为制造高质量合金镀层的重要手段。
Ni-W-P合金镀层因其优异的物理和化学性能,如高硬度、良好的耐腐蚀性和耐磨性,被广泛应用于机械、电子和化工等领域。
电沉积过程中,镀液成分和添加剂的种类及浓度对镀层性能具有重要影响。
本文旨在研究镀液成分和添加剂对电沉积Ni-W-P合金镀层的影响,为优化电沉积工艺提供理论依据。
二、实验方法1. 材料与试剂实验所用材料包括镍(Ni)、钨(W)和磷(P)的盐类,以及其他添加剂。
所有试剂均为分析纯,使用前未进一步处理。
2. 电沉积过程采用电化学工作站进行电沉积实验。
通过改变镀液成分和添加剂的种类及浓度,制备不同条件的Ni-W-P合金镀层。
3. 性能测试采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、硬度计和盐雾试验机等设备,对镀层的形貌、结构、硬度和耐腐蚀性等性能进行测试。
三、结果与讨论1. 镀液成分的影响(1)主盐浓度:当主盐浓度增加时,镀层中Ni、W和P的含量也相应增加。
这是因为高浓度的主盐有利于更多的金属离子还原为金属原子并沉积在基体上。
但过高的主盐浓度可能导致镀层结晶不均匀,降低其性能。
(2)pH值:镀液的pH值对镀层的结晶形态和化学组成具有重要影响。
当pH值较低时,有利于W和P的共沉积,使镀层中W和P的含量增加;而当pH值较高时,镀层中Ni的含量相对较高。
(3)温度:温度对电沉积过程的反应速率具有显著影响。
随着温度的升高,金属离子的还原速率加快,有利于提高镀层的沉积速率。
但过高的温度可能导致镀层结晶粗大,降低其性能。
2. 添加剂的影响(1)表面活性剂:表面活性剂可以改善镀液的润湿性和分散性,使镀层更加均匀致密。
此外,表面活性剂还可以降低镀层的内应力,提高其耐腐蚀性。
(2)络合剂:络合剂可以与金属离子形成络合物,降低金属离子的还原电位,从而改变金属在镀层中的分布。
实验六 镍电沉积及镀层的结构与性能的测试
22 21
实验数据记录与处理
1.对比基础镀液和加入添加剂后的镀液分别得到的 阴极极化曲线,通过极化曲线中极化﹑极化度﹑和过电位 的变化分析镀液组分和催化剂的作用. 2.计算电流效率、镀层厚度和沉积速率。 3.计算镀液分散能力
23 22
关于极化曲线的测试
一般采用三电极体系,待测电极作为工作电极,参比 电极可以选用饱和甘汞电极或者汞/氧化汞电极,辅 助电极用铂片或者其他。电解液一般采用30%KOH溶 液(也有NaCl、NaOH等),采用电化学工作站进行 测试。首先进行平衡电位的测试,待体系稳定后进行 极化曲线的测试,可以选用线性扫描或者动电位扫描, 至于扫描范围你可以先选大一些进行尝试,只要能获 得你所需的信息就可以了。
极上的电流分布见表6-1.
表6-1 数据记录表 近端
1cm 2cm 3.74 3cm 2.78 4cm 2.08 5cm 6cm 7cm 8cm 1.54 1.09 0.72 0.40
项目
远端
9cm 0.11
( A / dm2 ) 电流密度
5.45
8 7
实验原理
Hull槽实验结构可用图示记录,如图6-2所示.沉积 电流密度范围一般为图6-2中的bc范围 (图中ab=ad/2, cd=bd/3). a b c d
3
实验原理
1.电沉积简介 电沉积是用电解的方法在导电基底的表面上沉积 一层具有所需形态和性能的金属沉积层的过程,以改变 基底表面的特性,改善基底材料的外观、耐腐蚀性和耐 磨损性. 阴极反应M n ne M ,副反应2H 2e H 2 (酸性镀 液), 2H 2 O 2e H 2 2OH (碱性镀液). 阳极反应 2H 2 O 4e O2 4H (不溶性阳极,酸性), 或 M ne M n (可溶性阳极). 当镀液中有添加剂时,添加剂也可能在阴极上反应.
电解法电沉积镍的工艺及参数研究
膜电解法电沉积镍的工艺及参数研究
1绪论
1.1镍ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ其化合物的性质
镍,是一种银白色金属,元素符号为Ni,相对原子质量为58.69,外围电子排布3d84s2,位于第四周期第Ⅷ族。熔点为1453℃±1℃,沸点为2800℃,其物理性质主要表现如下:(1)密度。密度为8.908g/m3,可靠数值为8.9-8.908g/cm3。熔点时,液体镍的密度为7.9g/cm3。)(2)比热容。在0-1000℃的温度范围内变动为420-620J/(kg∙K),在居里温度或其附近有一显著高峰,此温度下失去磁性。(3)电阻率。在20℃时按其纯度99.99%-99.8%变动为6.8-9.9μΩ∙cm。(4)磁性。镍是许多磁性物料(从高磁导率的软磁合金到高矫顽力的永磁合金)的主要组成部分,其含量常为10%-20%[1]。
电沉积法制备纳米氢氧化镍粉末
电解法制备纳米氢氧化镍前言电化学沉积法制备氧化物超级电容器电极,具有直接一步制成电极的优点,简化了电极制备过程。
同时,由电沉积方法制备的氧化物的比容量高,从这个角度来看该方法具有良好的应用前景。
用电沉积法制备纳米材料是目前纳米材料制备中最为活跃的一个领域,该方法是通过选用合适的电极材料,对电解液进行电解,调节电极电位、电流来控制反应的方向和速度,在电极上产生所需要的物质。
沉积的方法主要包括直流电沉积、脉冲电沉积、喷射电沉积和复合电沉积等方法。
在电沉积过程中,沉积层的形成包括两个过程:一是晶核的生成,二是晶核的成长。
如果晶核的生成速度大于晶核的成长速度,则可获得晶粒细小致密的沉积层。
电化学法合成纳米 Ni(OH)2和 NiO 具有成本低,操作简便,环境污染小,所得产物纯度高,分散性好等优点,近年来引起了人们的重视。
在外加电流的作用下,金属镍阳极氧化成 Ni2+,水分子在阴极上还原析氢产生 OH-,两者反应生成 Ni(OH)2沉淀。
根据电解液是否含水可分为水溶液法和非水溶液法。
水溶液法是利用恒流阴极极化和恒电位阳极电沉积法将 Ni(OH)2沉积到 Ni 32基体上,电化学沉积得到水合 Ni(OH)2,吸附水嵌入到 Ni(OH)2晶格中。
非水电解法是以纯金属镍板作阳极,惰性电极(石墨、铂、银)作阴极,醇作电解液,电解液及整个电解过程不能有水的存在,由于醇不导电,所以必须加入支持电解质,支持电解质可选用铵盐和季铵盐,采用直流电或整流交流电在醇沸点温度下加热电解。
纳米氢氧化镍材料的制备方法。
subbaiha等报道[25],在电沉积合成Ni(OH)2时,氢氧化镍的粒度随电流密度的增加而增大,但电流效率和堆积密度却随之减小,堆积密度随镍的原始浓度增加而增大。
文献报道[26],电流密度和温度对电化学沉积Ni(OH)2的表面形态和电化学活性也有影响。
而且用椭圆光度法现场监测氢氧化镍的电化学沉积过程,发现在特定的电流密度下可得到结构紧密和分布均匀的氢氧化镍薄膜[27]。
电沉积法制备金属薄膜的实验步骤与操作
电沉积法制备金属薄膜的实验步骤与操作电沉积法是一种常用于制备金属薄膜的方法,它通过在电解液中施加电流,使金属离子在电极上沉积形成金属薄膜。
这种方法简单方便,操作灵活,可以用于制备不同金属薄膜,如铜薄膜、镍薄膜等。
下面将介绍电沉积法制备金属薄膜的实验步骤和操作。
首先,准备实验所需材料和器材。
需要准备的材料包括所需金属盐溶液、正极和负极电极片,电解液,以及实验所需的容器、电源等。
材料准备完毕后,进行实验台面的清洁和消毒,确保实验环境的干净和卫生。
接下来,准备电解液。
根据需要制备的金属薄膜类型选择相应的电解液。
一般情况下,电解液由金属盐和溶剂组成。
根据实验需求,可以选择不同的金属盐,如氯化铜、硫酸铜等。
将适量的金属盐溶解在溶剂中,搅拌均匀,使金属盐完全溶解。
然后,准备电极。
正极电极一般选择金属片或导电材料制成,负极电极可以选择不导电材料。
通过对电极进行清洗和消毒,确保表面干净无杂质,以便电解液中的金属离子能够在电极上充分沉积。
接下来,安排电解槽和电源。
将电解液倒入电解槽中,确保液面高度适中,以免过高或过低影响实验效果。
然后,将正负极电极片分别插入电解槽中,并调整电解槽内电极间的距离。
接着,将电解槽与电源连接,确保电极片与电源连接牢固。
然后,调整电流和电解时间。
根据实验的要求和电解液的特性,确定适宜的电流和电解时间。
调整电流的大小可以通过调节电源上的电流旋钮实现,而电解时间可以通过电源上的计时器设定。
最后,开始实验。
打开电源,让电流通过电极,使金属离子在电极上沉积形成金属薄膜。
在实验过程中,要密切观察电极表面的变化,控制电流的稳定性和均匀性。
一般情况下,电流稳定在合适的范围内,可使金属薄膜均匀沉积,且具有良好的质量和附着性。
实验结束后,关闭电源,取出电极。
将电极用溶剂清洗,以去除薄膜表面的杂质和溶液残留。
然后,将电极置于清洁干燥的容器中保存,以免薄膜受到污染或氧化。
综上所述,电沉积法制备金属薄膜的实验步骤包括准备材料和器材、准备电解液、准备电极、安排电解槽和电源、调整电流和电解时间,以及进行实验操作。
线路板镍沉积速率的讨论
ø ñ Ì Ä ¹ (¦ in)
25
◆小结
在各个不同水平下,镍厚变化的显 著程度依次为:
温度>时间>PH>MTO>Ni2+浓度 所以,通过单因子实验证明原
DOE实验得出的结论是正确的。
26
七、结论在实际生产中的应用---假漏镀的解决方法
7.1 背景
假漏镀问题一直是个难点,在生产过 程中,多次碰到过,虽然做了不少工 作但没有取到明显的效果。
单因子实验
MTO 2.0
4)、Ni2+浓度与镍厚的关系:
PH Â È æ ªä Î ¶ (¡ ) Ê » (min) 82 19 4.50 Ni2+(g/l) 4.40 4.50 4.60 øñ Ì Ä ¹ (¦ in) 148.2 149.68 150.41 MTO 2.0
23Biblioteka 因子实验5)、温度与镍厚的关系:
测量PAD位
16
4.6、ANOVA分析
µ é ò Å Ê Ñ Ð ¹ MTO PH Ni2+ ª» Ê ä Â È Î ¶ ä ö ¿ Ê ³ Á 1(2.0) 2(4.0) 1(4.40) 2(4.60) 1(15min) 2(19min) 1(4.55) 2(4.85) 1(80¡ ) 2(83¡ ) æ æ 1 157.38 157.38 157.38 157.38 157.38 157.38 160.57 160.57 160.57 160.57 160.57 160.57 2 154.22 154.22 154.22 154.22 154.22 154.22 153.61 153.61 153.61 153.61 153.61 153.61 3 150.62 150.62 150.62 150.62 150.62 150.62 148.47 148.47 148.47 148.47 148.47 148.47 4 131.06 131.06 131.06 131.06 131.06 131.06 124.56 124.56 124.56 124.56 124.56 124.56 5 139.49 139.49 139.49 139.49 139.49 139.49 135.73 135.73 135.73 135.73 135.73 135.73 6 147.82 147.82 147.82 147.82 147.82 147.82 145.69 145.69 145.69 145.69 145.69 145.69 7 140.17 140.17 140.17 140.17 140.17 140.17 139.54 139.54 139.54 139.54 139.54 139.54 8 150.27 150.27 150.27 150.27 150.27 150.27 148.11 148.11 148.11 148.11 148.11 148.11 Total: 2327.31 1180.49 1146.82 1194.51 1132.8 1203.87 1123.44 1171.97 1155.34 1208.93 1118.38 M SS: 339945.78 338523.2 70.85 238 404.31 26.07 508.98 df 16 1 1 1 1 1 1 Variance 21246.61 338523.2 70.85 238 404.31 26.07 508.98 F 4.06 13.65 23.19 1.5 29.2
氯化胆碱-尿素低共熔溶剂中电沉积镍
第51卷第12期 辽 宁 化 工 Vol.51,No.12 2022年12月 Liaoning Chemical Industry December,2022基金项目: 沈阳理工大学大学生创新创业计划项目资助(项目编号:202010144049);辽宁省教育厅青年科技人才“育苗”项目(项目编号:LG201928)。
氯化胆碱-尿素低共熔溶剂中电沉积镍磷合金镀层的研究张春霞,张雅琴,耿乐乐,郭天霞,崔琳琳,孙海静*(沈阳理工大学,辽宁 沈阳 110000)摘 要: 在氯化胆碱-尿素(ChCl-Urea )低共熔溶剂中电沉积制备镍磷合金镀层。
采用循环伏安法和计时电流法对在ChCl-Urea-NiCl 2-NaH 2PO 2镀液中镍磷合金镀层的电沉积机理进行研究,使用扫描电子显微镜(SEM/EDS)和X 射线衍射(XRD)对实验制备的镀层进行微观形貌及物相组成的表征,利用动电位极化曲线对其耐腐蚀性能进行分析。
结果表明:ChCl-Urea 低共熔溶剂的电化学窗口为 2.67 V,镍磷合金镀层在ChCl-Urea-NiCl 2-NaH 2PO 2镀液中为不可逆的一步还原,成核机理属于典型的扩散控制三维成核生长,得到的镀层平整致密,且具有金属光泽,对基体金属具有一定的保护作用。
关 键 词:低共熔溶剂;ChCl-Urea ;电沉积;Ni-P 合金镀层中图分类号:TQ153.2 文献标识码: A 文章编号: 1004-0935(2022)12-1682-05镍磷合金镀层具有优越的性能,如较高的硬度、良好的耐蚀性及耐摩擦性能、装饰性的外观等,使其在航空航天、汽车、电子、石油化工等领域的应用比例不断上升[1-2]。
制备镍磷合金镀层的基本方法大致有3类:化学镀、电镀、电刷镀。
这3种方法均采用水溶液体系制备镀层,易发生析氢反应,有些能与水发生化学反应的活泼金属及电化学窗口比较窄的金属不能发生电沉积,且还存在镀层质量对添加剂的依赖性高、电镀废液处理困难等问题[3]。
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镍电沉积实验(一)电沉积工艺条件—Hull 槽试验1.熟悉Hull槽试验的基本原理、实验操作和结果分析。
2.试验并了解添加剂糖精、苯亚磺酸钠、镍光亮剂XNF和十二烷基硫酸钠对电沉积光亮镍的影响。
电沉积是用电解的方法在导电基底的表面上沉积一层具有所需形态和性能的金属沉积层的过程。
传统上电沉积金属的目的,一般是改变基底表面的特性,改善基底材料的外观、耐腐蚀性和耐磨损性。
现在,电沉积这一古老而又年轻的技术正日益发挥着其重要作用,已广泛应用于制备半导体、磁膜材料、催化材料、纳米材料等功能性材料和微机电加工领域中。
电沉积过程中,由外部电源提供的电流通过镀液中两个电极(阴极和阳极)形成闭合的回路。
当电解液中有电流通过时,在阴极上发生金属离子的还原反应,同时在阳极上发生金属的氧化(可溶性阳极)或溶液中某些化学物种(如水)的氧化(不溶性阳极)。
其反应可一般地表示为:阴极反应:M n++n e=M(1)副反应:2H++2e=H2(酸性镀液)(2)2H2O+2e=H2+2OH-(碱性镀液)(3)当镀液中有添加剂时,添加剂也可能在阴极上反应。
阳极反应:M–n e=M n+(可溶性阳极)(4)或2 H2O –4 e = O2+ 4 H+ (不溶性阳极,酸性) (5)镀液组成(金属离子、导电盐、配合剂及添加剂的种类和浓度)和电沉积的电流密度、镀液pH值和温度甚至镀液的搅拌形式等因素对沉积层的结构和性能都有很大的影响。
确定镀液组成和沉积条件,使我们能够电镀出具有所要求的物理-化学性质的沉积层,是电沉积研究的主要目的之一。
镍电沉积层在防护装饰性和功能性方面都有广泛的应用。
大量的金属或合金镀层如Cr、Au及其合金、Sn及其合金、枪黑色Sn-Ni合金、CdSe合金等都是在光亮的镍镀层上电沉积进行的。
在低碳钢、锌铸件上沉积镍,可保护基体材料不受腐蚀,并可通过抛光或直接电沉积光亮镍达到装饰的目的。
在被磨损的、腐蚀的或加工过度的零件上进行局部电镀镍,可对零件进行修复。
在电沉积镍过程中用金刚石、碳化硅等刚性粒子或聚四氟乙烯柔性粒子作为分散微粒进行复合电镀,得到的复合电沉积层具有很高的硬度和良好的耐磨性。
本实验通过电沉积镍和沉积层结构与性能的研究分析,使学生掌握金属电沉积的基本原理和基本的研究方法,初步了解电沉积条件对镍沉积层结构与性能的影响,认识电镀过程中添加剂的作用。
电沉积镍过程的主要反应为:阴极:Ni2++2e=Ni(6)阳极:Ni–2e=Ni2+(7)在整个沉积过程中,实际上至少包含了溶液中的水合(或配合)镍离子向阴极表面扩散、镍离子在阴极表面放电成为吸附原子(电还原)和吸附原子在表面扩散进入金属晶格(电结晶)三个步骤。
溶液中镍离子的浓度、添加剂与缓冲剂的种类和浓度、pH、温度及所使用的电流密度、搅拌情况等都能够影响电沉积的效果。
用Hull槽试验能够在较短的时间内,用较少的镀液得到较宽电流密度范围内的沉积效果。
图2 Hull槽样板及镀层状况记录符号图1 Hull槽结构示意图Hull槽实验是电镀工艺中最常用、最直观、半定量的一种实验方法。
它可以简便且快速地测试镀液性能、镀液组成和工艺条件的改变对镀层质量产生的影响。
通过此实验,通常可以用于确定镀液中各种成分的合适用量;选择合适的工艺条件;测定镀液中添加剂或杂质的大致含量;分析、排除实际生产过程中出现的故障;测定镀液的分散能力。
Hull槽是梯形结构的镀槽,阴、阳极分别置于不平行的两边,容量主要有1000mL和267mL两种。
一般常在267mL的Hull槽中加入250mL镀液,便于折算镀液中的添加物种的含量。
Hull槽的结构见图1所示。
由于阴阳极距离有规律的变化,在固定外加总电流时,阴极上的电流密度分布也发生有规律的变化。
在267mL Hull槽中加入250mL镀液,总电流为1A,阴极上的电流分布见表1。
Hull槽试验对镀液组成和操作条件的变化非常敏感。
因此常用来确定镍镀液各组分的浓度、pH和获得良好沉积层的电流密度范围。
Hull槽实验结果可用图示记录,如图2所示。
沉积电流密度范围一般为图2中的bc范围(图中ab=ad/2,cd=bd/3)。
表1. 267 mL Hull 槽中250 mL镀液时阴极上的电流分布(总电流1 A)实验过程中,电沉积实验前必须仔细检查电路是否接触良好或短路,以免影响实验结果或烧坏电源;阴极片的前处理将影响镀层质量,因此要认真,除油和酸洗要彻底;加入添加剂时要按计算量加入,不能多加;新配镀液要预电解;电镀时要带电入槽、电镀过程中镀液挥发应及时用去离子水补充并调整pH值。
三、实验仪器与试剂1.仪器Hull槽,直流稳压电源,电流表,恒温槽,电吹风,导线,镍板阳极,不锈钢或铜片阴极。
2.试剂硫酸镍,氯化钠,硼酸,除油液和酸洗液。
四、实验步骤1.基础镀液的配制按下列配方配制500mL 基础镀液:NiSO 4·6H 2O:300g/LNaCl :10 g/LH 3BO 3:35g/LpH 3.5~4.5温度/o C :55~65将267 mL Hull 槽用水洗净后,加入250 mL 基础液,置于恒温槽中,进行下面的实验。
2.将Hull槽阴极片(10cm×7cm的不锈钢或纯铜片)用金相砂纸磨光,经碱除油和30%HCl弱腐蚀,用自来水和去离子水逐次认真清洗后,带电置于Hull槽中,用镍为阳极,以1A的电流沉积10min。
取出阴极片,用水冲洗干净,经干燥后观察并按图2记录示意图记录阴极上镍的沉积情况,以及镀液组成和实验条件。
3.在2的溶液中依次加入糖精、苯亚磺酸钠、镍光亮剂XNF和十二烷基硫酸钠,使其浓度分别为1.0g/L、0.1g/L、3mL/L和0.1g/L分别进行同2的实验和记录。
4. 在含所有添加剂的光亮镍镀液中,根据2的实验条件,比较镀液搅拌与不搅拌、常温和实验温度下镍的沉积层质量,并进行记录。
五、思考题1.电沉积过程主要包括哪些步骤?2.光亮镍镀液中各添加剂主要起什么作用?3.从Hull槽实验结果可以获得哪些有关电沉积效果的信息?参考文献[1]沈宁一等《表面处理工艺手册》编审委员会.表面处理工艺手册.上海:上海科学技术出版社,1991.31-44,65-80[2][美]F.A.洛温海姆主编.现代电镀.北京航空学院103教研室译.黄子勋校.北京:机械工业出版社,1982.3-100[3]周绍民等编著.金属电沉积—原理与研究方法.上海:上海科学技术出版社,1987.288-303镍电沉积实验(二)阴极极化曲线、电流效率和分散能力的测试一、实验目的1.实验并掌握极化曲线的测试和结果的分析方法。
2. 实验并掌握电流效率、分散能力的测试方法和结果分析。
二、实验原理通过电极的极化电流与极化过电位的关系曲线称为极化曲线。
整个测量系统包括两个回路,一个为极化回路,由研究电极(在本实验中为阴极)和辅助电极组成;另一个为电极电位测量回路,由研究电极和参比电极组成,流经此回路的电流要求很小。
极化曲线有控制电流和控制电位两种方法。
前者逐次改变电流,后者则逐次改变电位,然后测量相应的电位或电流值。
利用它可以测量电极过程动力学参数,探索电沉积机理,判断和分析镀液中各组份的作用及其最佳用量,选择工作条件和评定各种电镀液的性能。
图3 极化曲线测试示意图金属的阴极反应过程中,在某一极化电流下,电极电位偏离平衡电位的现象称为极化。
电位ψ和电流I的Δψ/Δi比值称为极化度。
在某一极化电流下,相应的电极电位偏离平衡电位的值称为过电位。
通过极化曲线中极化、极化度和过电位的变化来分析镀液组分和添加剂的作用。
通过Tafel曲线的作图,求得电极过程动力学参数。
阴极电流效率(η)是在电沉积时,实际用于镀层沉积的电量与通入的总电量的百分比。
由于在实际生产条件下,阴极上不可能只单纯进行金属离子还原为金属的反应,还同时发生氢的析出或添加剂的电化学还原等副反应。
副反应也消耗了一部分电量,使得电沉积金属的电流效率一般达不到100%。
电流效率的高低关系到电能的有效利用和生产效率的问题,同时对镀液的稳定性、镀层的质量和环境的保护也有密切关系。
因此在选择镀液的组成和确定工作规范时,必须同时考虑电流效率问题。
测定电流效率的一个简单方法是用恒电流沉积,根据电流大小和沉积时间计算出电镀消耗的电量,由沉积金属的电化学当量可计算出应沉积的金属的质量,然后与阴极试片镀后增重相比较,便可用下式计算阴极电流效率:(8)式中,W Ni 为阴极片镀后增重(g );I 为电镀时所用电流(A );t 为电镀时间(h);C Ni 为镍的电化学当量(=1.095g /A .h )。
根据镀层的质量,还可根据式(9)和(10)来计算镀层的厚度L 和沉积速度υ:式中,S c 为阴极面积,ρNi 为金属Ni 的密度(= 8.9 g/cm 3),t 为电镀时间。
(9)(10)分散能力(T.P)也称为均镀能力,指在某一特定的电镀条件下通过电流时,镀液促使金属均匀沉积在阴极(镀件)上的能力。
分散能力的测定有多种方法,测量结果的数值也不一致。
这里只介绍哈林槽(远近阴极法)测定法。
图10.4是哈林槽的结构示意图。
测定时槽的两端各放一个面积相等的阴极,在两阴极之间放入一个与阴极尺寸相同的网状或带孔的阳极。
远近阴极与阳极的距离比为5∶1,即k=L1/L2=5,然后按照一定的工艺规范在适当的电流下沉积一定时间,称量得到两个阴极的增重量(W远和W近),用式(11)计算分散能力式中,k 为远近阴极的距离比(本实验中等于5);W 远、W 近分别为沉积后远近阴极的增重。
测试极化曲线,必须严格进行电极的预处理才能得到好的实验结果。
测试电流效率和分散能力时,阴极片要经除油、酸洗、水洗,滤纸吸干,用电吹风吹干并冷至室温后称重,沉积后的阴极片也要经水洗并吸干,烘干后称重。
电流效率测定时,应准确记录时间和电流。
(11)图4 哈林槽测定分散能力的装置示意图三、实验仪器CHI-660A电化学综合测试系统、直流稳压电源、恒温槽。
四、实验步骤1.在基础镀液和逐次加入与实验(一)对应的添加剂的镀液中测定镍沉积的阴极极化曲线。
实验时,用镍片为对电极,饱和甘汞电极为参比电极,玻璃碳电极为研究电极。
从比开路电位稍负的电位开始向阴极方向扫描。
电位扫描速度10–20mV/s。
分析极化曲线的变化及原因。
2.根据Hull槽实验结果,选择某一电流密度,将基础液和光亮镍镀液在实验温度下以及光亮镍镀液在室温下分别用恒电流法沉积40min,根据沉积前后阴极片的增重和通过的总电量,计算电流效率、镀层厚度和沉积速度。
3. 用与2相同的实验条件,用哈林槽方法测试镀液的分散能力。
4. 电流效率和分散能力测定的具体操作过程为水→ 碱洗→水→酸洗→水→吹干→称重→水→酸洗→水→带电入槽→出槽→水→吹干→称重。