单晶制绒工艺培训

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添加剂的作用
增加反应速度
减缓反应速度
不影响反应速度
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单晶和多晶绒面
单晶绒面
多晶绒面
显微镜下观察绒面
三、RENA制绒工艺流程
仓库来料接收 插片 预清洗槽 水洗槽
上料 制绒槽
制绒机 水洗槽 酸洗槽
下片
热水水洗槽 传递过程
吹干槽
单晶制绒设备
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工艺流程
红色:制绒 绿色:漂洗 黄色:酸洗 米色:烘干 粉色:称重;蓝色: 预清洗
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原理-腐蚀速度差别形成金字塔
较快的腐蚀速 度 较慢的腐蚀速 度
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原理-各因素分析
硅的刻蚀速率与表面原子密度、晶格方向、掺杂浓度、腐蚀液成分、 浓度、温度、搅拌等参数有关
1. 2.
NaOH浓度 无水乙醇或异丙醇浓度
3.
4. 5. 6.
制绒槽内硅酸钠的累计量
制绒腐蚀的温度 制绒腐蚀时间的长短 槽体密封程度、乙醇或异丙醇的挥发程度
温度越高腐蚀速度越快
腐蚀液浓度越高腐蚀速度越快
IPA浓度越高腐蚀速率越慢 Na2SiO3浓度越高腐蚀速率越慢
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原理-氢氧化钠影响
0.5%
1.5%
5.5%
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原理-温度影响
80℃ 85℃ 90℃
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原理—IPA影响
0％ 5％
10％
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什么样的是“好的”金字塔

小而均匀 布满整个硅片表面
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陷光原理图
上的反射、折射和透射
当入射光入射到一定角度的斜面，光会反射到另一角度的斜面形成 二次吸收或者多次吸收，从而增加吸收率。
在绒面硅片上制成PN结太阳电池，它有以下特点:
绒面电池比光面电池的反射损失小，如果再加减反射膜，其反射率可 进一步降低。 入射光在光锥表面多次折射，改变了入射光在硅中的前进方向，不仅 延长了光程，增加了对红外光子的吸收，而且有较多的光子在靠近PN 结附近产生光生载流子，从而增加了光生载流子的收集几率。 在同样尺寸的基片上，绒面电池的PN结面积比光面大得多，因而可以 提高短路电流，转换效率也有相应提高。
急救措施：皮肤接触：立即脱去污染的衣着，用大量流动清水冲洗至
少15分钟。就医。眼睛接触：立即提起眼睑，用大量流动清水或生理 盐水彻底冲洗至少15分钟。就医。吸入：迅速脱离现场至空气新鲜处 。保持呼吸道通畅。如呼吸困难，给输氧。如呼吸停止，立即进行人 工呼吸。就医。食入：用水漱口，给饮牛奶或蛋清。就医。
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单晶制绒不良—-手指印
硅片有手指印，在清洗前看不见，但是清洗后却清晰可见；
硅片切割后清洗工艺中的有机物沾污；
硅片表面的碳沾污； 硅片切割时润滑剂的粘污。如果润滑剂过粘，会出现无法有效进入刀 口的现象，如润滑剂过稀则冷却效果不好。这些润滑剂在高温下有可 能碳化粘附在硅片表面。 硅片经过热碱处理后提出在空气中，时间过长会与空气中的氧反应形 成一层氧化层，这层氧化层一旦形成就很难再清洗下去了。因此，在
Low density texture
High density texture
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怎样得到“好”的金字塔
关键：降低硅片表面/溶液的界面能
两个方面实现： 1、提高硅片表面的浸润能力，如添加IPA或者把硅片进行酸或碱 的腐蚀。
2、减少溶液的张力，如添加添加剂。添加剂有很多极性或非极 性的功能团来降低腐蚀液表面的张力。
单晶制绒不良
雨点 IPA浓度不够 增加IPA浓度
水印
1.硅酸钠含量太高 2.漂洗效果不理想 1.新花篮 2.花篮与硅片接触过于紧密
补纯水 换液 高浓度碱液浸润
花篮印
白斑
绒面未完全覆盖硅片
1.提高碱浓度 2.延长时间
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单晶不良
金字塔覆盖不完全
硅片表面微小两亮坑
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单晶制绒不良
预清洗后硅片
硅片来料不良
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工艺监控指标
金字塔大小：控制在3-5微米
测量工具：RENA设备自带称重功能
通过计算可以将制绒前后减薄量转换为金字塔大小
工艺监控指标
反射率:单晶制绒后反射率控制在11%-13%
反射率测试：反射率测试仪
在工艺使用时用反射率测试仪测试确定工艺方案，在生产中要观察制 绒后硅片的亮度，进行适当的调整。
负责制绒工序点检表格（各台设备的运行情况与关键参数点检表）的 编写。
协助工程师，安排制绒段的排查或改进实验，如有需要，与其他工序 或是其他职能部门进行沟通，实验结束后，及时给出实验报告。
完成安排的其他工作。
工程师： 关注当天的效率、碎片率、良品率等参数，对于出现的外观不良或是 效率低下等异常，及时联系其余工序的工程师进行排查。 对于日常工作中，根据需要，与其他职能部门（如设备、生产等部门 ）进行沟通，共同寻找解决问题的方案。 对于助理工程师汇报的异常情况，视情况到场解决或是电话给出解决 方案，若不能解决的，及时通知工艺主管。 负责制绒化学品选用以及使用情况（控制合理的单耗），选择工艺方 案（最低的反射率，换液周期）及工艺控制参数（减薄量、腐蚀深度 ），设备的维护周期，上报工程师。
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工艺配比
预清洗：氢氧化钠/氢氧化钠+双氧水
制绒槽：
氧化钠：1%——2% IPA： 温度： 3%——7% 78-——85
酸洗:盐酸+氢氟酸
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酸洗槽作用
中和前道碱洗后残留在硅片表面的碱液， HF可去除硅片表面氧化
层（SiO2），形成疏水表面，便于吹干，HCl中的Cl-有携带金属离子
的能力，可以用于去除硅片表面金属离子，反应如下： SiO2+6HF = H2[SiF6]+2H2O
单晶制 绒 工 艺 培 训
工艺部
主要内容
制绒目的
制绒原理
RENA制绒工艺流程
工艺常见问题以及解决方法
制绒工序岗位职责
注意事项
制绒目的
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消除表面硅片表面有机沾污（HF）和金属杂质（HCL） 去除硅片表面的机械损伤层，减少表面复合中心 在硅片表面形成绒面，增加太阳光的吸收减少反射，增加PN结面
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二、制绒原理
单晶制绒利用低浓度碱溶液对硅片的不同晶面各项异性腐蚀形成金字 塔结构。 化学反应如下：
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腐蚀速率快慢由下列三个反应速度来 决定。

1、腐蚀液流至被腐蚀物表面的移 动速率；

2、腐蚀液与被腐蚀物表面产生化 学反应的反应速率；
3、生成物从被腐蚀物表面离开的利用腐蚀液之浓度梯度然产生的扩散现象来达到传 质的目的。所以，1、3又可称为扩散限制溶解过程（diffusion－limited
NaOH 健康危害：本品有强烈刺激和腐蚀性。粉尘刺激眼和呼吸道， 腐蚀鼻中隔；皮肤和眼直接接触可引起灼伤；误服可造成消化 道灼伤，粘膜糜烂、出血和休克。 急救措施 ：皮肤接触：立即脱去污染的衣着，用大量流动清水 冲洗至少15分钟。就医。眼睛接触：立即提起眼睑，用大量流 动清水或生理盐水彻底冲洗至少15分钟。就医。吸入：迅速脱 离现场至空气新鲜处。保持呼吸道通畅。如呼吸困难，给输氧 。如呼吸停止，立即进行人工呼吸。就医。食入：用水漱口， 给饮牛奶或蛋清。就医。
dissolution），通过搅拌可以提高。2的速率取决于腐蚀温度、材料、腐蚀
液种类及浓度，和搅拌方式无关，被成为反应限制溶解过程（reaction－ rate limited dissolution）。各向异性就是由化学反应的各向速率不同造成 的。
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原理——各项异性原因
{111}
Si+2NaOH+H2O==Na2SiO3+2H2
绒面也带来了一些缺点:一是工艺要求提高了；二是由于它减反射的无 选择性，不能产生电子空穴对的有害红外辐射也被有效地耦合入电池 ，使电池发热；三是易造成金属接触电极与硅片表面的点接触，使接 触电阻损耗增加。
好的织构化效果
很好的织构化 可以加强减反 射膜的效果
左图中蓝色线为抛光后的Si的反射图，经过不同织构化处 理之后的反射图。 右图为在织构后再沉积SiNx:H薄膜的反射光谱图。
碱清洗后不能在空气中暴露12秒以上。
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油脂影响
减缓去损伤层的量
无法形成织构化的成核
表面织构化无法形成
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油脂去除
有机溶剂+超声——有机溶剂溶解有机物质
酸性液体去除法——如RCA工艺：热硫酸煮硅片
表面活性剂
NaOCl热处理——利用O自由基的强腐蚀性
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五、制绒工序岗位职责
工艺员： 完成工艺负责的点检项目的点检工作（工艺参数、溶液的使用寿命） 。 仔细查看前几个班的交接班记录，了解前几个班出现的工艺问题及处 理方法，再次出现时可减少处理时间。 负责制绒现场的问题处理（发白、雨点、水痕印、白斑），及时与扩 散和PECVD技术员交流，监督生产员工的SPC测试工作。 对于出现的不良品，制定处理方案。 当班过程中，检查生产人员的无尘服穿戴、上下片操作手法以及工艺 卫生状况是否符合要求，对于不符合要求的情况及时提出，并督促其 整改，定期对员工进行集中培训。 协助助理工程师、工程师跟踪相关实验，统计数据，下班时，按时准 确填写交接班记录。
HCl
健康危害:本品对眼和呼吸道粘膜有强烈的刺激作用。急性中毒：出现头痛、
头昏、恶心、眼痛、咳嗽、痰中带血、声音嘶哑、呼吸困难、胸闷、胸痛等。 重者发生肺炎、肺水肿、肺不张。眼角膜可见溃疡或混浊。皮肤直接接触可出 现大量粟粒样红色小丘疹而呈潮红痛热。慢性影响：长期较高浓度接触，可引 起慢性支气管炎、胃肠功能障碍及牙齿酸蚀症。
积，提高短路电流（Isc），最终提高电池光电转换效率 绒面不仅仅是腐蚀坑洞，也是改善表面态的有效手段，绒面制作不 好表面态难以补偿，悬挂键大幅度增加，少子寿命复合严重，Isc的提 高几乎不可能。