除硅操作手册翻译
9210硅表中文操作手册
硅分析仪9210 指导手册致读者本册中包含的信息内容是尽可能与印刷时仪表的版本相符合的。
如果你在使用仪表时客观地发现其性能与本册叙述有不相符之处，也许是你的手册已经过期。
如果是此种情况，请立即与你的当地Polymetron代理商联系如果不按照生产厂家的规定和要求的方法使用仪表，将会损坏仪表正常的质量保证Polymetron保留对本册中所述仪表的软，硬件进行修改和更换的权力谢谢合作 !621=092=010 Rev. B Polymetron S.A.S. 02/2003安全警告请在拆包，安装或运行仪表前将手册完整的阅读一遍。
特别要注意所有标示"危险"和"警告" 的部分。
否则会对操作者造成严重伤害或导致设备的损坏为确保设备不受损害，不要采取任何不符合手册要求的方法使用和安装设备关于危险信息：由于存在着多种危险情况，本册将使用符号字（危险，警告，注意）来对应于情况的危险程度危险提示一个潜在的或危急的危险情况。
若不避免会导致重大伤亡警告标示一个潜在的也许会导致某种程度伤害的危险情况注意需要特别强调的信息预先警告标签请阅读所有附在仪表上的标签。
如果不遵守标签上的警告会导致人身伤害或造成设备损害仪表上的这个符号，要求操作者参照操作手册运行仪表和学习安全信息仪表上的这个符号，标示出接地保护的接地点仪表上的这个符号，显示出需要戴防目罩电源连接，见18页仪表电源接线，见15页试剂的制备，见21页维护，见第7页和A2维护定期检查仪表的完整电气连接和仪表系统的保护，进行所有必要的检测来消除故障隐患服务和维修用户不要自行修理仪表的元件。
只有Polymetron的工程师及授权代理商有权对系统进行维修，并应该使用由厂家正式批准所采用的元件。
任何违背这一原则试图进行仪表维修的行动可能会引发对仪表的损坏和人身的伤害。
它还会导致厂家质量保证的失效并危及仪表的正常工作以及仪表的电气完整性或CE标准如果你在仪表的安装、开机和使用中有任何可能的问题，请与你的当地供应商直接联系。
湿氧系统中英对照操作手册基本操作
操作手册目录Preface.序言 (III)Tempress documentation set. 文件设置 (III)User Definition. 用户定义 (IV)Notes, Cautions and Warnings..注意，小心，警告 (V)Contents description (VI)Revision History (VI)1. Introduction.......................................................................1-11.1 General.....................................................................................1-11.2 Operator area description.........................................................1-22. Safety.................................................................................2-22.1 Emergency Off (EMO)..............................................................2-22.2 Alarm Signals............................................................................2-22.2.1 Buzzer / LED.............................................................2-22.2.2 Touchscreen..............................................................2-22.2.3 Light tower.................................................................2-32.2.4 TSC Alarm menu.......................................................2-32.3 Light tower signal description (optional)....................................2-32.4 Toxic Material...........................................................................2-52.5 Safety measures.......................................................................2-53. Operator Instructions.....................................................2.5-13.1 Load or Unload process wafers.............................................3.1-13.1.1 Load process wafers...............................................3.1-13.1.2 Unload wafers.........................................................3.1-13.2 Selecting a new process recipe.............................................3.2-13.2.1 Touchscreen...........................................................3.2-13.2.2 TSC-2.....................................................................3.2-33.3 Start/Continue a new process recipe.....................................3.3-1 3.3.1 Touchscreen...........................................................3.3-13.3.2 TSC-2.....................................................................3.3-23.4 Stop a running process recipe...............................................3.4-1 3.4.1 Touchscreen...........................................................3.4-13.4.2 TSC-2.....................................................................3.4-23.5 Abort a running process recipe..............................................3.5-1 3.5.1 Touchscreen...........................................................3.5-13.5.2 TSC-2.....................................................................3.5-23.6 Clear Alarms..........................................................................3.6-1 3.6.1 Required action.......................................................3.6-13.6.2 Touchscreen...........................................................3.6-13.6.3 TSC-2.....................................................................3.6-2Preface序言This set of manuals explains how to operate a Horizontal Diffusion/LPCVD furnace.这套手册是操作水平扩散炉/ LPCVD的说明。
硅料清洗机操作说明
硅料清洗机使用说明书
CSE
苏州华林科纳半导体设备技术有限公司
2011-05
目录
一、 公司简介.................................................................................................................................................2 二、 设备概况.................................................................................................................................................2 三、 设备构造.................................................................................................................................................4 四、 工作台面和工艺流程参数.....................................................................................................................5 五、 控制系统.................................................................................................................................................7 六、 安全保护.................................................................................................................................................7 七、 安全标识.................................................................................................................................................7 八、 安全使用信息.........................................................................................................................................9 九、 紧急停止操作介绍...............................................................................................................................11 十、 设备使用危险品简介...........................................................................................................................12 十一、 操作注意事项...................................................................................................................................16 十二、 设备的搬运及安装...........................................................................................................................16 十三、 机械附图...........................................................................................................................................17 十四、 电控操作说明...................................................................................................................................20 十五、 电器线路图纸（附）：.....................................................................................................................33 十六、 售后服务联络函：...........................................................................................................................33
常压脱硅操作规程标准范本
操作规程编号：LX-FS-A60357 常压脱硅操作规程标准范本In The Daily Work Environment, The Operation Standards Are Restricted, And Relevant Personnel Are Required To Abide By The Corresponding Procedures And Codes Of Conduct, So That The Overall BehaviorCan Reach The Specified Standards编写：_________________________审批：_________________________时间：________年_____月_____日A4打印/ 新修订/ 完整/ 内容可编辑常压脱硅操作规程标准范本使用说明：本操作规程资料适用于日常工作环境中对既定操作标准、规范进行约束，并要求相关人员共同遵守对应的办事规程与行动准则，使整体行为或活动达到或超越规定的标准。
资料内容可按真实状况进行条款调整，套用时请仔细阅读。
一、开停车规程（一）开车1、开车前的准备：（1）新安装或大修设备开车前，必须联系电、钳工检查，验收合格，清除开展妨碍物，具备开车条件。
（2）泵、槽停车超过8小时，电器设备刺上水或受潮，开车前必须通知电工检查测量绝缘情况。
（3）改好料浆、循环母液、蒸汽、冷凝水流程，检查各法兰连接有无泄漏，阀门是否灵活好用，备用设备要完备。
（4）各润滑点，减速箱油质、油量是否符合要求。
（5）各仪表显示是否正常，自控和安全装置是否灵敏可靠。
（6）向主控室汇报检查情况。
2、进料与加热1、启动投用脱硅槽的搅拌前，先攀车一圈以上无异常后启动，现场检查，如有故障及时汇报处理。
2、由主控室联系原料车间送原矿浆，当加热槽有半槽料时打开加热槽蒸汽管至冷凝水罐的放水阀。
3、适当打开蒸汽管的排水阀，冷凝水罐的排气阀。
工艺流程中二氧化硅去除的
工艺流程中二氧化硅去除的英文回答：To remove silicon dioxide in the manufacturing process, there are several methods that can be used. One common method is called etching, which involves using chemicals to dissolve the silicon dioxide layer. This can be done through wet etching or dry etching. Wet etching involves immersing the material in a liquid solution that reacts with the silicon dioxide and removes it. Dry etching, on the other hand, uses plasma to remove the silicon dioxide layer.Another method that can be used is called thermal oxidation. This involves exposing the material to high temperatures in the presence of oxygen, which causes the silicon dioxide to react and form a gaseous compound that can be easily removed.In addition to these methods, there are also mechanicalmethods that can be used to remove silicon dioxide. For example, abrasive techniques such as sandblasting or grinding can be used to physically remove the silicon dioxide layer.It is important to note that the choice of method will depend on the specific requirements of the manufacturing process. Factors such as the type of material, the thickness of the silicon dioxide layer, and the desired level of precision will all influence the choice of method.中文回答：工艺流程中去除二氧化硅有几种方法可供选择。
200SA说明书翻译
一重要信息这些说明写给操作GOW-MAC系列200SA硫分析仪的个人。
请阅读并理解手册里的安全提示，操作仪器时能熟悉安全操作。
DANGER：提醒你一个可能随时（即刻）发生的的危险将引起严重的伤害或死亡并且需要特别的警惕。
W ARNINGS：提醒你一个潜在的危险将在一定条件下引起也能中的伤害或死亡。
CAUTIONS：提醒你一个非立刻的或潜在的危险或一个不安全的操作，代表一个对身体伤害或损伤的一个小威胁。
NOTE：强调或提醒你一个重要的信息。
内容质量控制最终仪器监测报告重要警告、通知总的通知和安全总的操作前提示和储存高压钢瓶的提示1.操作原理1.1检测器1.2流量系统1.3电子元件2.规格3.操作控制3.1 200SA系列前面板。
3.2 200SA系列后面板4.安装4.1仪器需求4.2拆包装并留意检查4.3安装定位4.4电器连接4.5气体连接4.6检漏5.初始化程序：气体流量5.1注意FDP器械里的点火操作5.2设置气体流量6.操作6.1启动，开机6.2编程6.3标定6.4运行7.维修和服务7.1更换炉备件7.2反应炉烘烤7.3FPD更换、清洁8.疑难解决9.更换部件10.图质量控制监测报告仪器型号仪器序列号后面省略炉温检测器温度毫伏输出载气流速出口2流速（反冲）FPD总燃气氢气流速FPD总空气流速NIST可追溯的标准相关号二氧化碳中0.5-1.5ppm的羰基硫仪器显示读数电流限值20mA（1ppm）真实4mA （0ppm）真实激发准备日期技师重要警告安装、使用或维修这个产品的个人应该仔细阅读这个手册。
像其他的复杂仪器，这个200SA系列的硫分析仪只有在按照供应商说明书来安装使用和维护，这个仪器才会按设计的运行。
否则这个仪器将不能按设计的运行，并且操作这个仪器的人会有严重的身体伤害甚至导致死忙。
这个保证由GOW-MAC仪器公司承诺，避免仪器没有按照手册的说明来安装、使用和维护。
请按照这些操作说明来保护您自己以及您的员工。
otb中文操作手册(免费)
2.1 安全设施 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .7 2.2 安全标识. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . ……………8 2.3 常规安全说明 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . ……..8 2.4 警告标识. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 9 2.5 安全区域. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . ..10
光伏去PSG工艺作业指导书
主要仪器设备及工具：去磷硅玻璃清洗设备，电阻率测试仪，花篮承载框，清洗小花篮，量杯。
工艺技术要求：？？？？？？？？？？？？
操作规程：（1）配液：按处理液配方配制去磷硅玻璃处理液，处理液配方HF:H2O=1;6（体积比）。然后将处理液注入去磷硅玻璃设备的处理槽内,液面高度为离槽口约80mm。
4.操作员应时刻注意显示设备运转的指示灯，绿灯为正常运转，黄灯为手动或其他，红灯为异常或事故发生，立即按下急停按钮。
5.工作结束时及时关闭电源.氮气和水源.压缩空气。
（2）原材料的注意事项：去PSG的原材料中，氢氟酸具有一定的腐蚀性与危害性，需对要氢氟酸尤加注意。
1.绝对不允许直接用手接触硅片
2.物品和工具定点放置，用过的工具要放回原位，严禁乱放。
3.代用橡胶手套和防护制服。
4.确保车间卫生清洁。
5.按时清洁车间卫生
注意事项：（1）操作注意事项：1.严格按照去磷硅玻璃设备操作规程进行生产。
2.配制酸液时，必须按酸、碱清洗要求穿戴好相关的个人防护用品。
3.将硅片装入片架时，磷扩散的正面要面向片架的背面
去PSG工艺作业指导书
公司生产车间名称:光伏1号
文件名称:去PSG工艺作业指导书
版本：A
文件编号：
修订：
文件类型：
撰写人：
目的：1.去除磷硅玻璃（PSG）；
2.制作合格的太阳能硅片，保证人生安全。
适用设定标准参数
2.设定标准操作规程
？？？？？？？？？？？？？
（2）开机：按去磷硅玻璃设备的操作规程启动全自动清洗设备，使其处于正常运转状态（绿灯）
（3）装片：1.操作员带上口罩和乳胶手套，将去周边层后硅片插入硅片盒。注意装片时保证硅片的正面朝同一个标有明显标记方向。
常压脱硅操作规程范文（二篇）
常压脱硅操作规程范文一、概述常压脱硅是一种常用的分离技术，主要用于去除硅含量较高的原料中的杂质硅。
本操作规程旨在规范常压脱硅的操作步骤，确保操作过程安全、高效、稳定。
二、操作步骤1. 准备工作1.1. 确保脱硅设备、配件、干燥剂等各项设备和材料的完好无损。
1.2. 检查各项安全设施是否到位，包括防护罩、急停按钮等。
1.3. 完成必要的安全培训和操作技能培训。
2. 原料准备2.1. 根据工艺要求选择适宜的原料，确保原料质量符合要求。
2.2. 对原料进行必要的预处理，包括清洗、干燥等。
3. 启动设备3.1. 检查脱硅设备的电气连接是否正常，确保仪表显示准确。
3.2. 打开设备的进料、出料和排气阀门。
3.3. 启动设备，逐步增加设备的工作压力，确保设备能够正常运行。
4. 进料处理4.1. 将经过预处理的原料注入脱硅设备，确保进料管路畅通。
4.2. 在进料过程中，观察设备的运行状态，确保无异常情况发生。
5. 分离硅杂质5.1. 根据工艺要求，加入适量的分离剂，以促进硅杂质与其他杂质的分离。
5.2. 控制设备的温度和压力，加强硅杂质的脱附效果。
5.3. 定期监测设备的操作参数，如温度、压力、流量等，确保设备处于最佳工作状态。
6. 排出杂质6.1. 当设备中的杂质浓度达到一定阈值时，通过排气阀将杂质排出设备。
6.2. 监测排出的杂质，进行必要的分析和检测，确保设备分离效果良好。
7. 清洗设备7.1. 在脱硅操作完成后，关闭进料、出料和排气阀门，停止设备运行。
7.2. 清洗设备内部的各个部件，确保设备的长期使用性能不受影响。
7.3. 整理清洗后的设备，确保设备的整洁和有序。
8. 记录数据8.1. 按照相关要求记录操作过程中的关键参数，包括进料量、进料时间、脱硅效率等。
8.2. 存储和管理操作记录，以便日后的检查和分析。
9. 安全措施9.1. 在操作过程中，严禁随意更改设备的操作参数和设置。
9.2. 若发现设备异常情况，应立即停机检修，切勿进行强行操作。
常压脱硅操作规程范文
常压脱硅操作规程范文一、目的和适用范围为了确保常压脱硅操作的安全性和高效性，规范化操作过程，提高生产效率，减少事故发生的概率，制定本操作规程。
本操作规程适用于常压脱硅操作过程中的设备操作人员，负责常压脱硅操作的负责人，以及与常压脱硅操作相关的其他人员。
二、操作人员的责任和义务1. 操作人员应经过专业培训，熟悉常压脱硅设备的结构、性能和操作规程，并获得相应的操作资格证书。
2. 操作人员应按照常压脱硅设备的操作规定进行操作，严禁任意更改操作参数或操作程序。
3. 操作人员在操作前应仔细检查设备的状态，确保设备处于正常工作状态，没有异常现象。
4. 操作人员应按照设备操作规程进行操作，不得擅自停止或调整设备运行。
5. 操作人员在操作过程中应随时关注设备的工作状态，发现异常情况及时报告，并采取相应的措施进行处理。
6. 操作人员在操作过程中应遵守安全操作规程，正确使用个人防护设备，严格遵守操作规范，杜绝任何违章操作。
7. 操作人员在操作完成后应负责设备的清洁和维护工作，确保设备处于良好的状态。
三、常压脱硅操作规程1.设备开启(1) 操作人员应事先确认设备电源和管路的连接是否正常，并保持适宜的工作条件。
(2) 操作人员应检查设备的各个部位是否存在异物，如有需要清理干净。
(3) 操作人员应按照设备的启动程序，依次开启设备的各个部位，确保设备能够正常工作。
2.操作前准备(1) 操作人员应准备好所需的材料和试剂，并按照设备操作规程进行准备。
(2) 操作人员应检查设备的各个部位是否处于正常工作状态，并进行相应的调整和修理。
(3) 操作人员应检查设备的控制系统是否正常，如有需要进行相应的修理和调整。
(4) 操作人员应清理好操作区域，并确保操作区域无杂物。
3.操作过程(1) 操作人员应按照设备操作程序进行操作，并严格按照设备操作参数进行调整。
(2) 操作人员应随时注意设备的工作状态，及时发现异常情况并采取相应的措施进行处理。
水处理专业术语中英文翻译 氧化塘 生物膜法 离子交换 广州清都环保
水处理术语中英文翻译表广州清都环保工业循环冷却水处理设计规范Code for design of industrial recirculating cooling water treatment1、循环冷却水系统Recirculating cooling water system2、敞开式系统Open system3、密闭式系统Closed system4、药剂Chemicals5、异养菌数Count of heterotrophic bacteria6、粘泥Slime7、粘泥量Slime content8、腐蚀率Corrosion rate9、系统容积System capacity volume10、预膜Prefilming11、旁流水Side stream12、补充水量Amount of makeup water13、排污水量Amount of blowdown14、热流密度Heat load intensity建筑与市政降水工程技术规范Technical code for Groundwater Lowering Engineering in Building and Municipal1、降水工程Engineering dewatering2、降水地质条件dewatering geological condition3、降水工程勘察dewatering geological condition4、降水工程地质参数dewatering geological parameters5、降水深度ground water level after lowering6、滞水detained ground water7、降水出水量yield water during lowering.污水稳定搪设计规范1、稳定塘stabilization ponds（氧化塘）oxidation pond2、厌氧塘anaerobic pond3、兼性塘facultative pond4、好氧塘aerobic pond5、曝气塘aeration pond6、生物塘biological pond7、水生植物塘macrohydrophyte pond8、养鱼塘fish pond9、生态塘ecological pond10、深度处理塘maturationy pond工业用水软化除盐术语1、软化水softened water2、除盐水demineralized water3、高纯水high-purity water , ultra-high purity water4、除硅desilication , silica removal5、脱碱dealkalization6、酸洗acid cleaning7、石灰浆lime slurry8、石灰乳milk of lime9、树脂污染resin fouling10、树脂降解resin degradation11、离子交换剂ion exchanger12、离子交换树脂ion exchange resin13、弱碱性阴离子交换树脂weak-base anion exchange resin14、弱酸性阳离子交换树脂weak-acid cation exchange resin15、强碱性阴离子交换树脂strong-base anion exchange resin16、强酸性阳离子交换树脂strong-acid cation exchange resin17、凝胶型离子交换树脂gel-type ion exchange resin18、大孔型离子交换树脂macro-reticular type ion exchange resin 20、后处理post-treatment22、再生液置换rinse displacement23、二级钠离子交换two stage sodium ion exchange24、顺流再生co-current regeneration25、对流再生counter-current regeneration26、逆流再生up-flow regeneration27、浮动床fluidized bed28、混合离子交换器mixed bed29、空气顶压逆流再生air hold down C.C.R , air blanket C.C.R30、水顶压逆流再生water hold down C.C.R , water blanket C.C.R31、无顶压逆流再生atmospheric press bed C.C.R32、离子交换剂床层膨胀率ion exchange bed expansion33、移动床moving bed34、再生剂耗量chemical measurement35、再生剂量regeneration level36、再生剂计量chemical measurement37、超滤器ultrafiler38、微孔过滤microporous filter39、双层床stratabed , multibed40、双室床double bed41、分布再生stepwise regeneration42、工作交换容量operating capacity43、树脂捕捉器resin trapper44、电渗析器electrodialyzer45、反渗透器reverse osmosis unit46、一级除盐系统primary demineralization system47、单塔单周期移动床monobed and single cycle moving bed48、双塔连续再生移动床dual bed continuous contactor49、单床离子交换器mono-bed ion exchanger工业循环水冷却术语2、湿式冷却塔wet cooling tower3、干式冷却塔dry cooling tower4、干—湿式冷却塔dry-wet cooling tower5、自然通风冷却塔natural draft cooling tower6、机械通风冷却塔mechanical draft cooling tower7、风筒式冷却塔chimney cooling tower8、开放式冷却塔atmospheric cooling tower9、抽风式机械通风冷却塔induced draft mechanical cooling tower10、鼓风式机械通风冷却塔forced draft mechanical cooling tower11、横流式冷却塔crossflow cooling tower12、逆流式冷却塔counterflow cooling tower13、淋水填料packing14、点滴式淋水填料splash packing15、薄膜式淋水填料film packing16、点滴薄膜式淋水填料splash-film packing17、冷却塔配水系统cooling tower distribution system18、槽式配水系统troughing distribution system19、管式配水系统piping distribution system20、管—槽结合式配水系统pipe-troughing distribution system21、池式配水系统hot water distribution system22、旋转布水器rotating distributor23、溅水喷嘴spray nozzle24、冷却塔配水竖井vertical well of water distribution25、淋水面积area of water drenching26、淋水密度water drenching density27、逼近度approach28、冷却水温差cooling range29、除水器drift eliminator30、漂滴drift31、湿空气回流recirculation of wet air33、冷却池cooling pond34、深水型冷却池deep cooling pond35、浅水型冷却塔shallow cooling pond36、挡热墙skimmer wall37、潜水堰submerged weir38、蒸发损失evaporation loss39、风吹损失windage loss40、渗漏损失seepage loss41、温差异重流thermal density flow42、水面综合散热系数heat transfer coefficient室外排水术语1、排水制度sewer system2、合流制combined system3、分流制separate system4、检查井manhole5、跌水井drop manhole6、事故排水口emergency outlet7、暴雨溢流井（截留井）storm overflow well, intercepting well8、潮门tide gate9、生活污水domestic sewage, domestic wastewater10、工业废水industrial wastewater11、生产污水polluted industrial wastewater12、生产废水non-polluted industrial wastewater13、城市污水municipal sewage, municipal wastewater14、旱流污水dry weather flow15、水体自净self-purification of water bodies16、一级处理primary treatment17、二级处理secondary treatment18、生物处理biological treatment19、生活污泥法activated sludge process20、生物膜法biomem brane process21、双层沉淀池（隐化池）imhoff tank22、初次沉淀池primary sedimentation tank23、二池沉淀池secondary sedimetation tank24、生物滤池biological filter , trickling filter25、塔式生物滤池biotower26、生物转盘votating biological clisk27、生物接触氧化bio-contact oxidation28、曝气池aeration tank29、推流曝气plugflow aeration30、完全混合曝气complete-mixing aeration31、普通曝气conventional aeration32、阶段曝气step aeration33、吸附再生曝气biosorption process, contact stabilization34、高负荷曝气high-rate aeration35、延时曝气extended aeration36、氧化沟oxidation ditch37、稳定塘（氧化塘）stabilization pond, oxidation pond38、灌溉田sewage farming39、隔油池oil separator40、固定布水器fixed distributor41、活动布水器movable distributor42、空气扩散曝气diffused air aeration43、浅层曝气inka aeration44、机械表面曝气mechanical surface aeration45、混合液mixed liquor46、堰门weir gate47、原污泥raw sludge48、初沉污泥primary sludge49、二沉污泥secondary sludge50、活性污泥activated sludge51、消化污泥digested sludge52、回流污泥returned sludge53、剩余污泥excess activated sludge54、污泥气sludge gas55、污泥消化sludge digestion56、好氧消化aerobic digestion57、厌氧消化anaerobic digestion58、中温消化mesophilic digestion59、高温消化thermophilic digestion60、污泥浓缩sludge thickening61、污泥淘洗elutriation of sludge62、污泥脱水sludge dewatering63、需氧量oxygen demand64、供氧量oxygen supply65、氧转移率oxygen transfer efficiency66、充氧能力oxygenation capacity67、污泥回流比return sludge ration68、生化需氧量biochemical oxygen demand(BOD)69、化学需氧量chemical oxygen demand(COD)70、耗氧量oxygen consumption(OC或COD Mn)71、悬浮固体suspended solid(SS)通用术语1、给水工程water supply engineering2、排水工程sewerage, wastewater engineering3、给水系统water supply system4、排水系统sewerage system5、给水水源water source6、原水raw water7、地表水surface8、地下水ground water9、苦咸水（碱性水）brackish water, alkaline water10、淡水fresh water11、冷却水cooling water12、废水wastewater13、污水sewage, wastewater14、用水量water consumption15、供水量output16、污水量wastewater flow, sewage flow17、用水定额water consumption norm18、排水定额wastewater flow norm19、水质water quality20、渠道channel, conduit21、干管main22、泵房pumping house23、给水处理water treatment24、泵站pumping station25、污水处理sewage treatment, wastewater treatment26、废水处理wastewater disposal27、格栅bar screen28、曝气aeration29、沉淀sedimentation30、澄清clarification31、过滤filtration32、离子交换法ion exchange33、消毒disinfection34、氯化chlorination35、余氯residual36、游离性余氯free residual chlorine37、结合性余氯combinative residual chlorine38、污泥sludge39、污泥处理sludge treatment40、污泥处置sludge disposal41、水头损失head loss42、贮水池storage reservoir , storage tank43、过河管river crossing44、倒虹管inverted siphon45、稳定stabilization46、异重流density current室外给水术语1、直流水系统once through system2、复用水系统water reuse system3、循环水系统recirculation system4、生活用水domestic water5、生产用水process water6、消防用水fire demand7、浇洒道路用水street flushing demand, road watering8、绿化用水green belt sprinkling, green plot sprinkling9、未预见用水量unforeseen demand10、自用水量water consumption in waterworks11、管网漏失水量leakage12、平均日供水量average daily output13、最高日供水量maximum daily output14、日变化系数daily variation coefficient15、时变化系数hourly variation coefficient16、最小服务水头minimum service head给水工程中取水构筑物的术语及其涵义1、管井deep well, drilled well2、管井滤水管deep well screen3、管井沉淀管grit compartment4、大口井dug well, open well5、井群battery of wells6、渗渠infiltration gallery7、地下水取水构筑物反滤层inverted layer8、泉室spring chamber9、取水构筑物intake strcture10、取水口（取水头部）intake11、进水间intake chamber12、格网screen13、吸水井suction well给水工程中净水构筑物的术语1、净水构筑物purification structure2、投药chemical dosing3、混和mixing4、凝聚coagulation5、絮凝flocculation6、自然沉淀plain sedimentation7、凝聚沉淀coagulation sedimentation8、凝聚剂coagulant9、助凝剂coagulant aid10、药剂周转储备量current reserve11、药剂固定储备量standby reserve12、沉砂池desilting basin, grit chamber13、预沉池pre-sedimentation tank14、平流沉淀池horizontal flow sedimentation tank15、异向流斜管（或斜板）沉淀池tube (plate) settler16、同向流斜板沉淀池lamella17、机械搅拌澄清池accelerator18、水力循环澄清池circulator clarifier19、脉冲澄清池pulsator20、悬浮澄清池sludge blanket clarifier21、液面负荷surface load22、气浮池floatation tak23、气浮溶气罐dissolved air vessel24、气浮接触池contact chamber25、快滤池rapid filter26、虹吸滤池siphon filter27、无阀滤池valveless filter28、压力滤池pressure filter29、移动罩滤池movable hood backwashing filter30、滤料filtering media]31、承托层graded gravel layer32、滤速rate of filtration33、滤池配水系统filter underdrain system34、表面冲洗surface washing35、反冲洗backwash36、气水冲洗air-water washing37、滤池冲洗水量filter wash water consumption38、冲洗强度intensity of back washing39、膨胀率percentage of bed-expansion40、除铁接触氧化法contact-oxidation41、清水池clear-water reservoir42、配水管网distribution system, pipe system43、环状管网pipe network44、枝状管网branch system45、水管支墩buttress, anchorage11。
常压脱硅操作规程范本
常压脱硅操作规程范本一、操作目的常压脱硅是指在常压条件下通过一系列方法将硅杂质从原料中去除的工艺。
本操作规程的目的是规范常压脱硅操作的步骤和要求，确保操作的安全性和有效性。
二、适用范围本操作规程适用于常压脱硅操作的全过程，包括设备准备、操作前的准备工作、常压脱硅的实施过程以及操作后的清理与维护工作。
三、操作步骤3.1 设备准备3.1.1 检查常压脱硅设备的完好性和安全性，确保设备无漏损、无损坏。
3.1.2 清理常压脱硅设备，并确保干净无异物。
3.1.3 检查常压脱硅设备的输送系统、泵和阀门等是否正常工作。
3.2 操作前的准备工作3.2.1 根据操作要求，准备好所需的原料和试剂。
3.2.2 检查水源和电源是否正常，并进行测试和调整。
3.2.3 确认操作人员已经接受培训，熟悉操作要求和安全注意事项。
3.3 常压脱硅的实施过程3.3.1 打开常压脱硅设备的输送系统，使原料进入常压脱硅设备。
3.3.2 控制常压脱硅设备的流量和温度，确保操作的稳定性。
3.3.3 根据操作要求添加所需的试剂，如酸、碱或络合剂等。
3.3.4 设置常压脱硅设备的操作时间，根据实际情况进行调整。
3.3.5 监测操作过程中的关键参数，如温度、压力、PH值等，及时进行调整和控制。
3.3.6 完成常压脱硅操作后，关闭设备的输送系统，并停止试剂的添加。
3.4 操作后的清理与维护工作3.4.1 关闭常压脱硅设备的泵和阀门，并排空设备中的液体。
3.4.2 清洗常压脱硅设备和管道，确保设备的清洁和无污染。
3.4.3 检查设备的密封性和连接件的完好性，及时修复和更换损坏的零件。
3.4.4 做好设备的日常维护工作，包括定期检查、保养和维修等。
四、安全注意事项4.1 操作人员要佩戴必要的个人防护装备，如安全帽、防护眼镜、防护服等。
4.2 在操作过程中要注意操作技巧和规范操作流程，防止发生事故和产生危险。
4.3 在使用试剂时要遵守相关规定，保证操作的安全性和环境的保护。
硅料清洗作业指导书
清洗工艺指导书1．目的介绍清洗工艺的原理，目的，准备工作，操作流程，机械的使用和维护方法2．内容1．原理与目的2．工艺操作流程3．机械的使用方法4．机械的维护3．原理与目的清洗工艺包括太阳能电池生产过程中，铸锭前硅料的清洗，其目的是使硅料表面清洁无杂质污染，从而提高硅片生产的质量。
根据污染物产生的原因, 大致可将它们分为颗粒、有机物杂质、金属污染物三类。
(1) 颗粒: 硅粉、氮化硅粉、灰尘、细砂。
(2) 有机物杂质: 它在硅料上以多种方式存在, 如人的皮肤油脂、防锈油、润滑油、松香、蜡等。
这些物质通常都会对加工进程带来不良影响。
(3) 金属污染物: 它在硅料上以范德华引力、共价键以及电子转移等三种表面形式存在。
对铸锭的少子铸命产生很大的影响。
(4)自然氧化膜：在传统的RCA清洗法中SC－1主要用于清洗硅片表面的粒子，SC-2主要用于清洗硅片表面的金属沾污，而DHF用于去除氧化层，SPM用于去除硅片表面的有机沾污。
SC-1清洗SC-1清洗液由NH4OH、H2O2和H2O组成，由于H2O2的作用，硅片表面有一层自然氧化膜（SiO2），呈亲水性，硅表面和粒子之间可用清洗液浸透。
由于硅表面的自然氧化层与硅片表面的Si被NH4OH腐蚀，因此附着在硅片表面的颗粒便落入清洗液中，从而达到去除粒子的目的。
在NH4OH腐蚀硅表面的同时，H2O2又在氧化硅表面形成新的氧化膜。
在硅片表面与粒子之间存在两种相互的作用力：范德化力和电偶层相互作用力。
当电位为同极性时，粒子必须越过位垒才能向硅表面附着，此时很难发生颗粒吸附现象，Si的电位为负，而大部分粒子只有在碱性条件下电位才为负。
在规模生产中，一般采用HF+HNO3 作为腐蚀液与硅材料发生化学反应。
为了降低剥离层厚度，对于反应温度、时间的控制非常关键。
对于块状料，由于其形状不规则且处理过程互相堆叠，增加了清洗及干燥的难度我们在经过多次试验后发现：对腐蚀槽溶液降温能有效控制反应速度、降低材料损失并可以获得更好的表面质量。
常压脱硅操作规程
常压脱硅操作规程常压脱硅操作规程一、前言常压脱硅是工业生产中常用的一种化学处理方式，主要用于去除硅杂质。
本操作规程旨在确保常压脱硅操作的安全、高效、稳定，保障生产的顺利进行，避免事故的发生。
二、操作前准备1. 做好安全措施，包括佩戴防护眼镜、手套、口罩等个人防护用品，确认操作场所的通风良好。
2. 准备好所需的仪器设备和试剂，包括脱硅设备、搅拌器、称量仪、PH计等。
3. 对设备和试剂进行检查，确保设备和试剂的完好无损、数量充足。
4. 进行前期清洁工作，清理脱硅设备和周边区域，保持环境整洁。
三、操作步骤1. 加入脱硅试剂将所需的脱硅试剂加入到脱硅设备中，按照比例加入。
加入试剂后，开启搅拌器，保持搅拌均匀，维持恒定的反应温度。
2. 调节PH值在搅拌均匀后，使用PH计对试剂中的PH值进行测量，根据需要调整PH值到合适的范围。
通常，脱硅反应的PH值在酸性范围内，根据试剂和反应情况的不同，PH值的调整范围也不同。
3. 加入处理物料在将试剂的PH值调整到合适的范围后，加入需要处理的物料。
物料的加入要缓慢、均匀，避免产生剧烈反应和溅跳现象。
加入物料后，继续保持搅拌均匀。
4. 反应过程控制在完成物料加入后，根据具体情况进行反应时间的控制。
通常情况下，常压脱硅反应时间较长，需要耐心等待反应完成。
在反应过程中，要不断监测PH值变化和反应情况，避免超出反应范围。
5. 过滤和洗涤在反应完成后，将反应液进行过滤和洗涤。
过滤过程中要注意滤纸的使用和更换，保证过滤效果和速度。
洗涤时采用逆流清洗法，保证洗涤干净彻底。
6. 干燥和包装完成过滤和洗涤后，将物料进行干燥，以去除多余的水分。
干燥完成后，进行包装和存储，保证物料的质量和稳定性。
四、注意事项1. 安全第一，严格遵守操作规程，做好个人防护措施。
2. 注意控制反应的PH值、温度和时间等参数，避免超出反应范围。
3. 物料的加入要缓慢、均匀，避免产生剧烈反应和溅跳现象。
4. 过滤和洗涤过程中，要注意过滤和分离效率，保证产品质量。
常压脱硅操作规程
常压脱硅操作规程第一章总则第一条为了规范常压脱硅操作过程，保障操作人员的安全，确保设备的正常运行，制定本操作规程。
第二条常压脱硅操作是指在常压条件下进行硅元素的去除工作，通常包括硫酸水解法、醋酸水解法和氧化还原法等。
第三条本操作规程适用于常压脱硅操作人员。
对于无操作资格或者未接受培训的人员，禁止进行常压脱硅操作。
第四条在进行常压脱硅操作前，操作人员应熟悉常压脱硅的工艺流程、设备的操作原理和操作要点。
第二章常压硫酸法脱硅第五条常压硫酸法脱硅采用硫酸水解的方法进行。
操作人员应严格遵守以下操作规程：1. 检查设备是否正常运行，确认相关设备是否开启。
2. 接通水源，通入适量硫酸。
3. 检查设备是否密封正常，确保不发生泄漏。
4. 按照规定的比例，将待处理的硅材料加入设备中。
5. 根据设备要求设置温度、压力等参数。
6. 注意观察设备运行情况，确保操作过程中没有异常。
7. 根据设备要求定时加入酸，确保反应进行顺利。
8. 操作完毕后，关闭设备，停止供水和加酸。
9. 清理设备，保持设备的清洁卫生。
第三章常压醋酸水解法脱硅第十条常压醋酸水解法脱硅采用醋酸水解的方法进行。
操作人员应严格遵守以下操作规程：1. 检查设备是否正常运行，确认相关设备是否开启。
2. 加入合适的醋酸，调节设备温度和压力。
3. 检查设备是否密封正常，确保不发生泄漏。
4. 将待处理的硅材料加入设备中。
5. 根据设备要求设置温度、压力等参数。
6. 注意观察设备运行情况，确保操作过程中没有异常。
7. 定时加入酸，确保反应进行顺利。
8. 操作完毕后，关闭设备，停止供酸。
9. 清理设备，保持设备的清洁卫生。
第四章常压氧化还原法脱硅第十一条常压氧化还原法脱硅采用氧化还原的方法进行。
操作人员应严格遵守以下操作规程：1. 检查设备是否正常运行，确认相关设备是否开启。
2. 加入合适的氧化剂和还原剂，调节设备温度和压力。
3. 检查设备是否密封正常，确保不发生泄漏。
4. 将待处理的硅材料加入设备中。
除硅剂用法
除硅剂用法除硅剂，这玩意儿在一些特定的场景里可真是个“小能手”呢。
就好比你家里有个特别爱捣乱的小调皮鬼，硅元素有时候在一些材料或者设备里就像那个调皮鬼，到处捣乱，影响各种性能，这时候除硅剂就像个超级英雄闪亮登场啦。
那这除硅剂到底咋用呢？咱得先知道它的脾气秉性。
除硅剂就像个挑食的小朋友，它在不同的环境下、针对不同的对象，使用的方法还真不太一样。
比如说在工业生产里，要是处理那些大型的金属设备上的硅垢，这就像是给一头大象洗澡，你得小心翼翼的。
你不能一股脑儿把除硅剂倒上去就完事儿了。
你得先把设备表面清理一下，就像给大象先搓搓泥儿，把那些大块儿的杂质去掉，这样除硅剂才能更好地发挥作用。
然后呢，按照一定的比例调配除硅剂和水，这个比例可重要啦，要是比例不对，就像做饭的时候盐放多了或者放少了，做出来的菜就不是那个味儿，除硅剂的效果也会大打折扣。
调配好之后，就可以把溶液均匀地涂抹在有硅垢的地方啦，就像给大象涂沐浴露一样，要涂得均匀，每个角落都不能放过。
再说说在一些小的精密仪器里用除硅剂吧。
这就好比给小猫咪清理耳朵，得特别细致。
你得用那种很精密的工具，像小滴管之类的，把除硅剂一滴一滴地加到有硅的地方。
这时候可不能着急，就像哄小猫咪睡觉一样，得慢慢来。
而且加完之后，可能还得根据仪器的具体要求，控制一下反应的时间和温度。
如果温度不合适，就像给小猫咪盖被子，盖多了它会热得难受，盖少了它会着凉，除硅剂的反应也会不正常，达不到理想的除硅效果。
在家庭里有时候也会用到除硅剂呢。
比如说厨房的一些厨具上有硅垢，这就像厨房台面上沾了一块特别难擦的污渍。
你把除硅剂喷上去的时候，就像跟污渍开始一场战斗。
不过喷的时候也要注意量，喷多了就像洗碗的时候放太多洗洁精，泡沫到处都是，还不好清洗呢。
喷完之后，稍微等一会儿，让除硅剂和硅垢充分反应，这时候你可以想象是两个小战士在互相搏斗，然后再用抹布轻轻一擦，硅垢就像战败的小兵一样，乖乖地被擦掉了。
还有在建筑行业里，要是处理一些建筑材料上的硅问题，就像给一座大房子做美容。
离子交换除硅工艺流程
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电池片清洗工序指导书
清洗操作规程一、目的1.去除表面硅片有机物和金属杂质。
2.去除硅片表面机械损伤层。
3.在硅片表面形成表面组织，增加太阳光的吸收，减少反射。
二、原理单晶：利用碱溶液对单晶硅各个晶面腐蚀速率的不同，在硅表面形成金字塔状的绒面。
化学反应方程式：Si +2NaOH+H2O→Na2SiO3+2H2↑多晶：利用HNO3的强氧化性和HF的络合性，对硅片进行氧化和络合剥离，导致硅表面发生各向同性非均匀性腐蚀，形成类似凹陷坑状绒面。
化学反应方程式：SI+4HNO3+6HF→H2SiF6+4NO3+4H2O三、操作过程Ⅰ.生产准备1.穿好工作服、工作鞋、戴好工作帽，经过手动风淋后进入车间，并带上手套及口罩。
2..需要加物料的人员戴上安全眼镜、防护面具、防酸碱围裙、长袖防酸手套。
Ⅱ.制绒过程1.工艺参数单晶多晶2.清洗机操作顺序单晶多晶3.制绒要求单晶⑴插片房插好片，按要求把硅片整齐放入塑料蓝内400片/批，然后放在清洗机上，启动绿色按键，硅片到达指定位置后，在触摸显示屏上按下自动启动。
⑵制绒槽水位到达预定刻度，开启加热开关，盖上槽盖。
⑶当温度显示器达到制绒温度时，先按工艺规定的配液比例加入NaOH，让NaOH缓慢均匀的融入水溶液中，并搅拌均匀。
⑷再按工艺配液比例加入异丙醇和清洗剂，充分搅拌均匀，过完超声波的硅片便可以放入制绒池中制绒（两者间隔时间最好保持在两分钟内），盖上盖子，开始记时。
⑸每个制绒池做完一批后，需要定量补料，范围为根据实际生产出片制绒效果，结合工艺参数定夺。
多晶⑴插片房插好片，按要求把硅片整齐放入塑料蓝内400片/批，然后放在清洗机上，启动绿色按键，硅片到达指定位置后，在触摸显示屏上按下自动启动。
⑵制绒槽水位到达预定刻度，开启制冷机及循环泵，用测温枪监测温度。
⑶先按工艺要求把制绒的物料加入制绒池内，加料一定要缓慢准确添加，记好所加的物料数量。
⑷每一批都要根据硅片减重及表面质量，及时更改所加的物料。
四、工艺控制要求1.所有槽中的水必须一个班次更换一次，并清理槽内碎片，制绒池一定要用异丙醇擦洗干净后，再用水冲洗干净。
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除硅系统操作要点
1、常用术语：絮凝（聚沉）、溢流、PH（酸浓度）、PIL（静化铁液）、UIL（未处理铁液）、
滤泥（泥浆）
2、准备工作
（1）化学品和材料的准备：主要指氨水和絮凝剂，要通过实验确定氨水的浓度和絮凝剂的有效性。
实验设备校准备用。
确认公用介质（出口洗涤塔、蒸汽、冷却
水、压缩空气、仪表用气）的可靠性。
确认安全阀和真空破坏器开启，排放打
开。
校验中和罐出口打开。
中和罐出口洗涤塔运行以除去反应产生的氢气。
废
钢应清洗干净，无油漆、锈、油。
废钢应保证可靠的供应并定期进行金属分析，
确保净化后酸液成分。
在通蒸汽自动加热废酸之前蒸汽冷凝水必须排出。
如果
没有废酸直接向加热器通蒸汽会引起加热器严重破坏。
TCV-371与WPL、UIL
泵连锁，如果WPL、UIL泵停，TCV-371在自动模式运行时关闭。
如果TE-301
过高，TCV-371连锁保护关闭。
TE-301的高温报警连锁极限与热交换器的设计
极限温度有关。
热交换器的冷凝线打开。
打开疏水器过滤器的排放阀排出热气。
冷启动中和废酸大约需要24-48小时。
通过废酸泵和UIL泵注满中和罐和UIL
罐并循环直至中和后酸液PH值2.0以上。
一旦中和罐和UIL罐达到期望的液
位，废酸泵停。
（2）启动废酸泵
1、选择一个废酸罐供SRP使用并做好标记，不要向此罐添加废酸。
2、打开选择的废酸泵进出口阀门
3、确认UIL罐液位和泵密封水（包括检查密封水浊度和颜色，分析密封是否完好
和水源供应情况）。
4、选择合适的FIT-301的设定值并将FIT-301打到自动。
5、确认UIL泵出口循环阀关闭。
6、部分关闭废酸泵的出口阀。
7、现场手动启动废酸泵。
8、大约3秒缓慢打开出口阀门到100%并监测压力值。
9、监测泵出口压力约1分钟，如果有冲击则试着关闭打开出口阀门或打开取样阀
放气直至泵运行平稳。
10、确认FIT-301流量值。
11、检查管道是否有泄漏。
（3）启动废酸加热器
1、启动废酸加热器之前首先确认废酸流量正常。
2、缓慢打开蒸汽接点主阀门，确认到阀TCV-371之前蒸汽管线打开。
3、打开阀TCV-371之前过滤器的排放阀排出冷凝水。
4、确认从加热器出来的冷凝线的过滤器的排放阀打开，打开到蒸汽疏水器。
5、将TIC-371打到自动，TCV-371应当缓慢打开。
如果TCV-371打开响应过快，
则需进一步调整。
6、TIC-371的设置在85-88度，最小允许80度。
TCV-371从TE-301接受反馈信
号。
7、大约5分钟后，空气从加热器排出。
关闭冷凝线的过滤器的排放阀。
8、检查加热器有无泄漏。
尤其是在膨胀节处。
9、循环UIL直到PH值至少1.5。
10、计算加热能力。
可鉴别结垢问题。
11、监测蒸汽疏水器应定期打开和关闭。
如果不能打开，证明疏水器有问题，打开
旁路并轻微调节观察TE-301。
12、中和罐液位将缓慢升高并溢流到UIL罐。
当UIL罐液位达到70%时停废酸泵，
启动UIL泵。
13、尽量减少停废酸泵和启动UIL泵的间隔时间。
时间过长容易引起TE-301跳闸。
14、UIL液在循环模式，酸液浓度逐渐减低。
当酸液PH值达到1.5-2.5时，准备
进入下一步处理。
PH值1.5对应浓度0.1%。
15、当酸液PH值达到1.5-2.5时，UIL液被泵到1#PH调整罐，同时废酸泵启动。
工艺过程进入连续运行。
新废酸连续经加热器进入中和罐。
废酸流量通过PID-301实现控制。
16、巡查冷凝水接点到冷却器入口管线，除取样阀和排放阀外所有阀门打开。
17、确认水温适合约30度。
打开从冷却器返回管线排放阀。
并选取高点放气。
18、巡查到1#PH调整罐、2# PH调整罐的压缩空气管线。
稍微打开吹气阀10%并
记录流量值。
19、确认1#PH调整罐、2# PH调整罐、絮凝罐搅拌器未启动。
20、打开LCV-311和冷却器。
将LIC-310由手动转为自动。
缓慢关闭循环隔断阀。
21、UIL液冷却到大约38-40度喂入1#PH调整罐。
温度由TE-312检测并通过冷
凝水流量控制实现。
如果不能实现，可通过增减LIC-310的设置点有效关闭阀门LCV-311短暂时间直到酸液温度降下来。
22、喂入1#PH调整罐直到液位大约100mm将搅拌器叶片浸没。
设置搅拌器
速度在60rpm，启动1#PH调整罐搅拌器。
继续喂入废酸，吹入空气。
当液位达到40%时，增加到最大空气量的50%。
在液位达到60%之前，不加氨水。
氨水在喂入1#PH调整罐之前应与水混合调整浓度便于控制减少雾化。
23、效验选择的氨水泵的入出口阀门打开，旁路阀部分打开返回储罐。
确认释放
线打开。
24、当1#PH调整罐开始溢流到2#PH调整罐，打开空气吹管，设置流量在最大流
量的10%。