PVD蒸发镀膜

（3）建筑玻璃和汽车玻璃等：涂覆功能性涂层
（4）平板显示器：涂覆ITO膜，满足透明且成像的电 器
刀具表层进行蒸发镀膜
汽车玻璃使用蒸发镀膜
2.蒸发镀膜的发展：
（1）从单件小规模型向具有更高生产能力和大面积蒸镀方向 发展。 （2）开发新的工艺：分子束外延、离子束辅助蒸发镀膜； （3）设备和条件提高：制备纳米电子器件组装基底
2.基本过程：
（1）气相物质的产生：镀料加热蒸发、高能离子轰击靶材（ 镀料）； （2）气相物质的输送：一定真空度条件下，镀料直接到达基 片； （3）气相物质的沉积：是一种凝聚过程。 物理气相沉积工件
3.物理气相沉积的特点：
（1）镀膜材料来源广泛； （2）沉积温度低；
（3）镀层附着力强；
（4）工艺过程易于操控； （5）真空条件下沉积。
真空蒸发镀膜原理图
2.成膜机理：
（1）核生长型:蒸发原子在基片表面形核生长； （2）单层生长型：以单层分子均匀覆盖、逐渐沉积的方式；
（3）混合生长型：先单层原子沉积，随后以形核长大方式进
行。
基片表面上核生长型薄膜的形成过程
3.蒸发源：加热镀料并使之挥发的器具，也称为加热器
，主要可分为：
（1）电阻加热蒸发源：高熔点金属做成适当形状的 蒸发源，装上镀料，通电使镀料蒸发； （2）电子束蒸发源：镀料放入水冷坩埚钳中，用电 子束轰击镀料表面使其蒸发。 电阻加热蒸发源
2
物理气相沉积技术的分类
1.物理气相沉积的分类：
（1）蒸发镀膜；
（2）溅射镀膜； （3）离子镀膜技术； 真空蒸发镀膜
磁控溅射镀膜
离子镀膜
3
真空蒸发镀膜的基本原理
1.真空蒸发镀膜：是在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的
原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到固 体（称为衬底或基片）表面，凝结形成固态薄膜的方法。
物理气相沉积技术 之真空蒸发镀膜
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主目录
CONTENTS
物理气相沉积过程及特点
真空蒸发镀膜的基本原理 真空蒸发镀膜的应用及展望
1 2
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物理气相沉积技术的分类
合金膜和化合物膜的制备
1
物理气相沉积过程及特点
1.物理气相沉积（PVD）：在真空条件下，利用各种物理方
法，将镀料气化成原子、分子或使其电离成离子，直接沉积到基 片（工件）表面形成固态镀膜的方法
瞬间蒸发法装置示意图
2.化合物膜的镀制：
通常指金属元素与O、C、N、B、S等非金属元素的化合物 所构成的膜层。两种蒸镀方法： （1）直接蒸镀法：适用于蒸发时组成不变的化合物；
（2）反应蒸镀法：活性气体氛围中，使气体在基片上反应
得化合物膜。
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真空蒸发镀膜的应用及展望
1.蒸发镀膜的应用：
（1）日常生活：手表壳、手机壳、首饰； （2）刀具、模具等：改善使用时的表面性能；
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e型电子枪加热蒸发源
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合金膜和化合物膜的制备
1.合金膜的镀制：
沉积合金，需要在基片表层和膜层厚度范围内得到均匀的成分。 （主要控制不同物质蒸发速度不同）两种方法：
（1）瞬间蒸发发：又称闪蒸法，合金做成粉末，瞬间蒸发；
（2）双蒸发源法：两个蒸发源，分别控制蒸发速率，达到同步 。
双蒸发源法装置示意图