RENA制绒工艺说明
RENA前后清洗
三、RENA Intex前清洗(酸制绒)工艺
RENA清洗设备 注:前、后清洗设备外观相同,内部构造和作用原理稍有不同
1.RENA前清洗工序的目的:
去除硅片表面的机械损伤层(来自硅棒切割的物理损伤) 清除表面油污(利用HF)和金属杂质(利用HCl) 形成起伏不平的绒面,增加对太阳光的吸收,增加PN结 面积,提高短路电流(Isc),最终提高电池光电转换效率。
3. 酸制绒工艺涉及的反应方程式:
HNO3+Si=SiO2+NOx↑+H2O SiO2+ 4HF=SiF4+2H2O SiF4+2HF=H2[SiF6] Si+2KOH+H2O →K2SiO3 +2H2 NO2 + H2O = HNO3 + HNO2 Si + HNO2 = SiO2 + NO +H2O HNO3 + NO + H2O = HNO2
3.放测量片时,把握均衡原则。如第一批放在1.3.5.7道,下一批则 放在2.4.6.8道,便于检测设备稳定性以及溶液的均匀性。
刻蚀槽液面的注意事项: 正常情况下液面均处于绿色,如果一旦在流片过程中颜色改变,立 即通知工艺人员。
产线上没有充足的片源时,工艺要求: 1.停机1小时以上,要将刻蚀槽的药液排到tank,减少药液的挥发。 2.停机15分钟以上要用水枪冲洗碱槽喷淋及风刀,以防酸碱形成的 结晶盐堵塞喷淋口及风刀。 3.停机1h以上,要跑假片,至少一批(400片)且要在生产前半小时 用水枪冲洗风刀处的滚轮,杜绝制绒后的片子有滚轮印。
腐蚀深度与电性能间的关系
在绒面硅片上制成PN结太阳电池,它有以下特点:
(l)绒面电池比光面电池的反射损失小,如果再加减反射膜,其反射率可进
RENA制绒09
冷却系统换水换冷冻剂步骤:
(1)当机器在工作的状态下,点击STOP,进入MODE MANUAL;
(2)进入chiller专区,排掉COOLING WATER;
(3)等冷却水排完后,打开冷却机后面的拧头(如图左),放出里面的液体;液体不可回收利用。
(4)关闭拧头,然后打开冷却机顶部的盖子,如图(右),加入15L的冷冻剂;
(5)原废液排完后可加水循环清洗,排掉后才能加冷冻剂及水;
(6)一切完毕后,filling;
的补液槽,左边三个就是它的三个感应传感器,,右边的是它的感应传感器;
尤其注意对碱槽的清洗:
步骤如下:
1.在主页面点机Manual键进入手动页面;
2.点机Alkaline键进入碱页面;
3.在进入此页面后,其步骤为:Mode
FillingChemcial键颜色变深色即可)—
“碱排液”:
当有液体时候,防漏传感器会感应到液体,会把信号传给此图的泵,这样就会把液体排掉;。
制绒工艺培训
仓库来料接收
上片
下片
制绒设备
速度1.0速度1.0-1.5 m/min 1.0
制
绒
水1
KOH bath
水 2
HF/HCl
水 3
吹干
bath
3.1 RENA制绒原理 制绒原理
RENA是通过化学反应来进行硅腐蚀的,其反应体系很复杂。 以下是其中的几个反应方程式: Si+2HNO3+6HF=H2SiF6+2HNO2+2H2O 3Si+4HNO3+18HF=3H2SiF6+4NO+8H2O 3Si+2HNO3+18HF=3H2SiF6+2NO+4H2O+3H2 5Si+6HNO3+30HF=5H2SiF6+2NO2+4NO+10H2O+3H2
主管工程师: 主管工程师: 关注当天的效率、碎片率、良品率等参数,对于出现的外观不良或是效率低下等异常,及时 安排排查。 根据工作需要,负责与其他职能部门进行沟通,共同解决问题。 对于汇报的异常,视情况到场解决或是电话给出解决方案。 根据实验结果,安排实施新的工艺方案,若新方案中涉及到更改化学品厂家、型号或是改变 工艺流程的,需向上级请示后决定是否实施。 定期总结制绒工序的工作情况,并向工艺经理汇报。 负责制绒工序人员的管理,分配领导安排的任务,定期组织会议,对本工段工作进行总结。 对工艺文件、作业指导书等进行审核。 完成领导安排的其他任务
工程师: 工程师: 关注当天的效率、碎片率、良品率等参数,对于出现的外观不良或是效率低下等异常,及时 联系其余工序的工程师进行排查。 对于日常工作中,根据需要,与其他职能部门(如设备、生产等部门)进行沟通,共同寻找 解决问题的方案。 对于助理工程师汇报的异常情况,视情况到场解决或是电话给出解决方案,若不能解决的, 及时通知工艺主管。 负责制绒化学品选用以及使用情况(控制的合理的单耗),选择工艺方案(最低的反射率, 换液周期)及工艺控制参数(减薄量、腐蚀深度),设备的维护周期,上报工程师。 定期进行优化实验或是腐蚀量异常时安排排查实验,根据实验结果提出改进措施。 负责编写制绒工段的工艺文件、作业指导书,并组织相关人员进行学习。 完成安排的其他工作。
简述制绒工艺流程
简述制绒工艺流程下载温馨提示:该文档是我店铺精心编制而成,希望大家下载以后,能够帮助大家解决实际的问题。
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RENA设备工艺介绍(光伏太阳能设备资料全)
片子减薄量是否太 片子减薄量控制在规定 提高带速,或减
大
范围之内
小蚀刻量
RENA设备:常见问题及解决方案
序号 所遇问题
检查项目
解释说明
解决方案
3
设备工作过程中碱洗槽高温 查看冷却系统是否 碱洗槽在超过设定 将温度参数的设置
报警
正常
温度的情况下会停 值提高消除报警待
止运行
温度降下来再行运
1:保证RE保下个班工艺能及时准确的了解。(一般换碱液工艺人员控制在40分钟 之内,更换蚀刻槽液体控制在3~4小时,更换HF酸控制在2~3小时)
2:对片子减薄量的一个准确的控制。配合生产一线员工根据产量的具体情况每
400~800片做一次减薄量的测试。控制减薄量一般有以下几种方法1:改变带速(正 常情况下可以直接在界面上微调,如需彻底改变需要在参数里面改写。2改变蚀刻 量(在改变带速没有明显效果下改变蚀刻量)。3:改变溶液浓度(通过按照参数 配比直接添加,或改变自动补液的次数)。
RENA主界面详细说明7:
各添加桶状态
冷水机 状态
储液箱 状态
集中供液是 否READY
机器内化学品排 放是否READY
冷水机内自来 水的电导率
储液箱进口温度 储液箱设定温度 储液箱实际温度
RENA手动模式状态详解:
RENA刻蚀槽界面介绍:
MODE MAN&MODE AUTO----自动运行时单个槽的自动手动切 换 PT FILLING DI----储液槽加纯水 PT FILLING CHEMIE----储液槽加化学药品 SYSTERM RINSING----整个系统(包括外槽内槽储液槽)用纯水清 洗 SYSTERM DRAINING----整个系统排液 BATH CHANGE----刻蚀槽储液槽排空,再重新配液 START MAIN FUNCTION----在手动模式下单个槽运行工艺 RINSE BATH START----开始用纯水不断清洗(只有在槽内加满纯 水后次按键才有作用) RINSE BATH STOP----纯水清洗结束 FILL BATH----给刻蚀槽加化学药品(如果储液槽内是纯水则加的 是纯水) DRAIN BATH----刻蚀槽排液
1.RENA制绒工序作业指导书
文件修订记录目录1.目的 (3)2. 范围 (3)3. 职责 (3)4. 内容 (3)5. 记录 (3)6. 附件 (4)1. 目的规范多晶硅电池片生产中制绒工序的各项操作。
2. 范围用于本公司156 多晶电池片生产中RENA 清洗机制绒工序的操作作业指导。
3. 职责3.1 所有操作人员都必须严格按照本文件进行操作。
3.2 在操作过程中遇到问题应及时向工艺和设备人员反应,工艺和设备人员及时提供帮助。
3.3电池技术部负责按文件要求对产线进行检查、监督。
4. 内容4.1 制绒工序注意事项规定,见5-8页。
4.2 RENA制绒上料操作作业指导书(多晶),见9-10页。
4.3 RENA制绒流程操作作业指导书(多晶),见11-12页。
4.4 RENA制绒下料操作作业指导书(多晶),见13-14页。
4.5 减薄量测试作业指导书, 见15页。
4.6返工片操作作业指导书,见16-20页。
4.7产线异常控制作业指导书,见21页。
4.8 D8反射率使用作业指导书见22-23页。
5. 记录5.1 制绒减重反射率记录表(电子版)5.2 制绒换液记录表5.3 制绒工艺日常点检表5.4 电池生产流程单6. 附件6.1制绒常见异常处理方法(设备),见24-25页。
6.2多晶制绒工艺流程图,见26页。
6.3 化学品安全使用和应急处理,见27-28页。
制绒工序注意事项规定1.制绒工序区域环境要求1.1 洁净度:控制线8000 级,停产线10000 级1.2 温度:22±2℃1.3 湿度:<70%1.4 对参观通道保持3pa 正压1.5 排风:(500±50)Pa(RENA 机排风)2.着装及劳保用品使用要求2.1 人员着装要求:现场作业人员、支持人员须穿戴整齐(包括公司配备的洁净服、洁净帽、工作鞋、口罩)并保证着装整洁(如脏污须清洗或更换)。
2.2 手套使用要求:现场作业人员须戴乳胶手套作业,沾污、破损必须更换新手套;手动放片每两小时更换一次手套,出入车间后更换手套。
RENA制绒工艺说明
RENA 制绒工艺主要包括三部分: 硝酸与氢氟酸混合液 → 氢氧化钾 → 盐酸与氢氟酸混合溶液 在制绒过程中,首先是硝酸在损伤层与缺陷处将硅片氧化,形成氧化硅,然后氢氟酸与氧化 硅反应生长 硅的络合物(H2SiF6)与水,这样去损伤层与制绒同时进行,从而缩短了工艺流程。 制绒之后的硅片经过 KOH 溶液去除硅片表面的多孔硅,再经过 DI 水冲洗去掉表面残留的碱液。 最后利用 HF 与 HCl 的混合溶液除去硅片表面的各种金属离子等杂质,并用 DI 水冲洗酸性表面,最后用 压缩空气将硅片表面吹干。 5.2 制绒过程的反应方程式如下: 1) Si+4HNO3=SiO2+4NO2+2H2O
2) SiO2+4HF=SiF4+2H2O 3) SiF4+2HF=H2SiF6 5.3 制绒工艺流程: 上料→HNO3、HF 制绒→风刀 1→冲洗 1→KOH 腐蚀→风刀 2→冲洗 2→HF、HCl 清洗→风刀 3 →冲洗 3→风刀吹干→下料。 5.4 注意事项: 1)、腐蚀槽的腐蚀速率会随着硅片清洗量的增加而改变,新换的药液反应速度慢,因此需要 降低带速以 保证腐蚀量在 4.6-4.8 微米,随着生产的进行要求每隔半小时测量一次腐蚀深度,及时调整带速(0.8 -1.1m/min)以保证腐蚀深度在规定范围内。当腐蚀速度稳定后每隔一个小时测量一次腐蚀深度。当腐蚀 深度偏离规定时最好不要更改溶液浓度、溶液比例,因为浓度、比例发生改变腐蚀速度也随之发生变化, 导致腐蚀后硅片表面微观结构发生改变。 2)、腐蚀槽的自动补液量的设定应保证每个班组的手动补液次数不大于 1 次(由工艺人员进行操作)。 3)、当工艺方案因随车间的工艺调整而变化时,工艺人员应当及时通知并做好相应的记录。 4)、制冷机与腐蚀槽之间的流量 Setpoint recirculation flow 不易设置的太小,因为如果流量过小, 会导致制冷机输出的溶液温度降低,不利于工艺的稳定。
制绒工艺规程
五、制绒工艺流程:
上料→HNO3、HF制绒→风刀1→冲洗1→KOH腐蚀→风刀2→冲洗2→HF、HCl清洗→风刀3→冲洗3→风刀吹干→下料。
六、工艺准备:
1、工艺洁净管理:操作时需戴口罩、洁净手套,并保持室内正压,严禁随便开启门窗,以保持室内洁净度。
4、RENA工艺操作规范:
1)减薄量控制范围:156正常片0.38~0.42g/pcs;返工片0.08~0.12g/pcs,125正常片0.23~0.28g/pcs;返工片0.06~0.09g/pcs。
2)带速控制范围:1.3~1.5m/min,建议控制在1.35m/min。
3)制绒槽温度控制范围:正常片设定值8℃,波动区间7~9℃;返工片设定值5℃,波动区间4~6℃。
9、为防止硅片沾污,制绒后的硅片应尽量避免较长时间暴露在空气中,应尽快转入扩散工序。
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审核
批准
日期
二、原理:
在制绒过程中,首先是硝酸在损伤层与缺陷处将硅片氧化,形成氧化硅,然后氢氟酸与氧化硅反应生长硅的络合物(H2SiF6)与水,这样去损伤层与制绒同时进行,从而缩短了工艺流程。
制绒工艺主要包括三部分:
硝酸与氢氟酸混合液→氢氧化钾→盐酸与氢氟酸混合溶液
在制绒过程中,首先是硝酸在损伤层与缺陷处将硅片氧化,形成氧化硅,然后氢氟酸与氧化硅反应生成硅的络合物(H2SiF6)与水,这样去损伤层与制绒同时进行,从而缩短了工艺流程。
4)循环流量控制范围:120~150L/min,建议设定值:135L/min
5)减薄量记录规范:开线每隔10分钟称测一次,针对温度,带速,填补量做好相应更改;正常生产时每隔一小时称测一次,作好记录。
电池RENA制绒操作
添加碱槽的pump tank/ 添加酸槽的pump tank/ 添加所有 Rinse,确认全部达到READ l.此时以Operator身份登录,点击“Start production”便 可加液生产。
2. 生产中的按键功能对照: Drivers stop滚轮驱动停止 Drivers continue滚轮驱动继续 Lock pane锁窗格 Unlock pane解锁窗格 Reset wafer counter清空硅片计数器 3.取液步骤:a.确定设备是在自动或暂停状态 b.以“Engineers”级别权限登入,这时“Sampling”按键 被激活 c.依次点击IntexGeneralShow d.按下“Release Sampling temporary” e.到设备后面按住Sampling 5秒开始取样,取样完毕将挡 板盖好 f.将用户切换回Operator级别。
f. 将制冷剂的主电源打开(等待桌面PLC上run和on指示灯 变成绿色) g.双击Start REVIS h.最后按下操作台的“ON”按钮 i.以“Engineers”级别权限的用户登陆软件,确认所有报 警,将模式切换到“Manual”模式,给每个功能模块加 载相 应工艺方案,按下“Write to PLC” j.添加制冷机系统-->添加工艺槽补液罐/ 添加碱槽的补液 罐/ 添加酸槽的补液罐/ 添加DI水补液罐 k.添加工艺槽的pump tank/ 添加Rinse1-3的pump tank/
2
2. INTEX大致构造及工艺流程:
水 喷 淋 水 喷 淋 水 喷/HF 制绒
碱洗槽 KOH
HF/HCl 清洗
OUTPUT
INPUT→HNO3/HF制绒→冲洗1→KOH腐蚀→冲洗2→HF/HCl清 洗→冲洗3→烘干→OUTPUT “一化一水”,硅片每经过一次化学品,都会经过一次水喷淋清 洗。
Rena_前后清洗工艺培训
Firstfill volume:480L;
Bath processtemperature:7±2 ℃
concentrations of chemical:HF&HNO3;
Quality:150.0Kg;
Setpoint recirculation flow:140.0L/min;
当药液寿命(Quality)到后,需更换整槽药液。
制绒的目与原理
根据工艺方法不同,制绒可分为碱制绒(仅适用于单晶硅制绒) 和酸制绒(可用于单晶和多晶硅表面的制绒)。RENA设备为酸制 绒设备,其目的主要有:
1.去除硅片表面的机械损伤层
2.清除表面油污和金属杂质
3.形成起伏不平的绒面,减少光的反射,增加硅片对太阳光的 吸收,增加PN结的面积,提高短路电流(Isc),最终提高电 池的光电转换效率。
RENA前后清洗工艺培训
Confidential
太阳能电池的种类及效率
Confidential
制造太阳能电池的基本工艺流程
前清洗(制绒) 扩散
后清洗(刻边/去PSG) PECVD SiNx
丝网印刷 /烧结/测试
RENA清洗设备 注:前、后清洗设备外观相同,内部构造和作用原理稍有不同
一、RENA Intex前清洗工艺培训
刻蚀槽的作用: 1.去除硅片表面的机械损伤层; 2.形成无规则绒面。
Alka要工艺参数: Firstfill concentration of chemical:5%; Bath lifetime:240hours; Bath processtemperature:20±10℃ 当药液寿命(Bath lifetime)到后,需更换整槽药液。
需要注意的是碱槽的喷嘴角度和流量需要控制好, 否则碱液易喷至Rinse1中,而Rinse1中洗下的酸液和上 述碱液易在该槽中生成盐,使该处的滤芯很快被堵住而 失效。
Rena_前后清洗工艺培训
前清洗工艺步骤: 制绒→碱洗 →酸洗→吹干
RENA Intex前清洗设备的主体分为以下八个槽,此外还有滚轮、排 风系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。
Etch bath
Dryer1
Rinse1
Alkadic Rinse
Rinse3
Dryer2
Etch bath:刻蚀槽,用于制绒。 所用溶液为HF+HNO3,主要工艺参数:
台面
及碎硅片
Confidential
1、载片盒必须放在桌子上(不论是否有硅片在内) 2、操作员工接触圆片时须戴棉胶双层手套,禁止直接接触片子的表面,戴有橡胶手套后也需 要尽量少的接触硅片表面。 3、接触设备按键时不准带手套,必须全部裸手 4、橡胶手套必须保持干净、清洁,及时更换,接触硅片时必须戴上手 套,且保证手套上赃物 5、操作人员身上穿的净化服和净化鞋,必须穿戴整齐,必须保持洁净, 并定期清洗,清洗周期为2周 6、设备里的碎片在每周设备PM时必须清理干净 7、按照标示摆放物品,除标示区域以外不允许摆放任何其他物品 8、流程单不允许放在片盒中靠着硅片,需铺在片盒底下 9、设备的窗户在无异常状态下必须关闭 10、去测试测试片时需用干净的泡沫盒搬送,不能直接用手搬送 11、经过前清洗的硅片必须放在承片盒中,不能直接放在工作台面上 12、碎片盒中的碎片应及时清理 13、下料处的硅片应及时接受,不允许等硅片掉到设备下料端的槽体中 后再取硅片 14、不良须返工的硅片不能放在碎片盒中,需放在固定的地方统一返工 15、测量测试片时需生产一批测量一批,不允许一次性侧量好几批,这 样容易发生混批现象 16、由于碱与酸反应会生成盐的结晶,所以待料停止15分钟以上需要冲洗碱槽滚轮、喷淋、 风刀。已避免喷淋口,风刀口被堵。 17、如果有一个小时以上的待料停产,我们要求要将刻蚀槽的药液排到tank,减少药液的挥 发;并冲洗刻蚀槽滚轮,防止药液沉淀,产生滚轮印
01 RENA InTex制绒设备操作规程
1.目的为了让员工更熟练、安全、有效的掌握RENA InTex制绒设备的开关机流程。
2.适用范围适用于通威太阳能(合肥)有限公司所有电池车间的RENA InTex制绒设备的操作。
3. 规范性引用文件无4. 定义无5.职责权限所有RENA InTex制绒机的操作员工必须熟读并掌握该设备的开关机流程。
6.工作程序6.1 开机程序6.1.1 打开压缩空气、工艺冷凝水及纯水,自来水。
如下图是打开状态。
6.1.2打开电控柜总电源,开启电脑主机,点击“Login”显示图界面,输入用户名及密码,点击“OK”进入。
6.1.3 确认显示屏上各模块溶液显示Full DI 、FUII Chem 和设备门窗都关闭,Ecth Bath显示Not ready, Dryer1、Dryer2显示Ready.6.1.4 在设备背面处,确认KOH槽和酸槽的液面均达到第二液位感应器。
6.1.5 确认主界面中无报警信息6.1.6 点击“Manual”选项,进入手动控制模式。
随后点击“F4”三次进入传动系统。
6.1.7 选择“ALL Conveyor”,并点击“STOP”。
6.1.8 点击如图所示“F10”退回主界面。
6.1.9 点击如图所示“Mode Auto”,待界面上操作单元黄色转变绿色时设备将从Tank中向Etch Bath添加药液,待界面各槽温度稳定下方均显示为绿色Full chemie和绿色Ready.6.1.10 点击界面右下方的“Start”各模块自动运行,则可进行放片操作。
6.2 关机流程6.2.1 点击界面右下方的“Stop”选项。
6.2.2 各模块均停止工作后,点击“Manual”选项,进入手动控制模式。
随后点击“F4”三次,进入传动系统。
6.2.3 选择“ALL Conveyor”,并点击“Start”单击“F10”退回主菜。
6.2.4 进入Manual选项中Etch Bath,点击Drain bath,即把Etch bath 槽内的药液排到Tank 内。
电池片工艺流程
电池片工艺流程一、电池片工艺流程:制绒(intex)---扩散(diff)----后清洗(刻边/去psg)-----镀减反射膜(pecvd)------丝网、烧结(printer)-----测试、分选(tester+sorter)------包装(packing)二、各工序工艺了解:(一)前清洗1.rena前冲洗工序的目的:(1)去除硅片表面的机械损伤层(来自硅棒切割的物理损伤)(2)去除表面油污(利用hf)和金属杂质(利用hcl)(3)形成起伏不平的绒面,利用陷光原理,增加对太阳光的吸收,在某种程度上增加了pn结面积,提高短路电流(isc),最终提高电池光电转换效率。
2、前冲洗工艺步骤:制绒→碱洗→酸洗→揉搓etchbath:刻蚀槽,用于制绒。
所用溶液为hf+hno3,作用:(1).除去硅片表面的机械受损层;(2).形成无规则绒面。
alkalinerinse:碱洗槽。
所用溶液为koh,促进作用:(1).对形成的多孔硅表面进行清洗;(2).中和前道退火后残余在硅片表面的酸液。
acidicrinse:酸洗槽。
所用溶液为hcl+hf,作用:(1).中和前道碱洗后残余在硅片表面的碱液;(2).hf可去除硅片表面氧化层(sio2),形成疏水表面,便于吹干;(3).hcl中的cl-存有随身携带金属离子的能力,可以用作除去硅片表面金属离子。
3.酸制绒工艺涉及的反应方程式:hno3+si=sio2+nox↑+h2osio2+4hf=sif4+2h2osif4+2hf=h2[sif6]s i+2koh+h2o→k2sio3+2h24.前冲洗工序工艺建议(1)片子表面5s控制不容许用嘴巴片子的表片,必须很湿手套,防止蔓延后发生脏片。
(2)称重a.自噬体片子的腐蚀深度都必须检测,不容许捏造数据,混用批次等。
b.要求每批测量4片。
c.摆测量片时,把握住平衡原则。
例如第一批放到1.3.5.7道,下一批则放到2.4.6.8道,易于检测设备稳定性以及溶液的光滑性。
瑞纳机器 --操作 制绒设备
RENA InTex机器的操作手册byDr. Ihor MelnykAxel Herguth1.一般的規章• 在腐蝕性的化學製品工作需要足夠的防護衣,建議使用抵抗腐蝕性的蓋板/衣服,鞋,手套和护目镜。
此外确保自己如果发生事故,能找到適當的緊急事件冲冲洗設施。
• 決不在機器內單獨工作• 當時操作的機器請不要打開/ 除去蓋板,由於內部蒸汽有特別危险性的鹼或酸化學品2.RENA InTex機器正常操作时的要求化學供應和處理1.正規操作的RENA InTex须分別要求穩定的供應HF 15 (L/h)的, 15(L/h)HNO3,5 (L/h) HCl,3(L/h) KOH和DI water。
這些数值可以隨用量不同而變化。
另外, 建议有備用HF 150 L,HNO3 250 L,75L HCl和KOH 10 L 的给新的化学槽使用。
2.對化學製品的準確測量來說,至少要求7 L /min的流量。
对于使用的化学槽處理,提供適當化學品HF/HNO3供應给蝕刻槽,最大的體積是550 L。
壓縮空氣1.對RENA InTex機器的Air Knifes規定的操作压力要求至少4bar的氣壓。
如果Air Knifes不使用,壓力必須是6bar。
2.如果Air Knifes的氣壓不足, HF和來自蝕刻槽的HNO3可能發生不需要的流量, 導致alkaline bath蝕刻产生棕色污點,因此造成产品品質不良。
3.如果不足的氣壓在Air Knife 2 和3 wafers可能沒被正確地吹干, 將需要另外的清潔程序做其它的處理。
• 当Air Knife动作时請确认全部閥門都打開.3. 旧的蝕刻槽處理蝕刻槽1.選单為Manual >etch bathFigure 1: Manual > Etch bath: disposal of old bath2.“mode man.”,透過按按鈕選擇手控模式。
3. 按下system draining”蝕刻槽和tank的化学品將被排掉4.等化学品排放過程完成,圖表显示Empty(黃色)為蝕刻槽以及Tank准备下一道程序5.蝕刻槽以及Tank沖洗,按下“system rinsing” 沖洗(螢幕的左邊)。
RENA操作流程
RENA 制绒工序操作流程1 主题内容本文规定了多晶制绒工序的基本操作流程。
2 适用范围本规定适用于多晶制绒工序。
3 内容3.1 生产准备3.1.1 进入车间室时必须穿好工作服、工作鞋,戴工作帽、手套和防尘口罩,衣着标准严格按照6S 执行,不得穿着工作服在车间外活动,进入车间必须走风淋门。
3.2 操作流程3.2.1 上料3.2.1.1用小推车将硅片运至RENA 机上料处3.2.1.2去除硅片内包装(如果有),将硅片放入专用泡沫箱中。
每一百片硅片一组隔开放置,3.2.1.3 取一摞(100片)硅片检查有无缺角隐裂碎片崩边油污等不良片,然后将硅片按规定的线痕方向承载盒中,双手提起承载盒将其放入上料机。
用气枪在平行于硅片表面方向将硅片吹开防止叠片。
3.2.1.4 点击“吸完为止”使其变红,点选与RENA 匹配的带速按钮,按下工艺启动按钮待机械臂行至原点后再次按下工艺启动按钮开始生产3.2.2 测腐蚀量取10至15片硅片使用电子天平依次称重记录,将称好的硅片按称量顺序放入腐蚀量专用花篮中,拿到上料处。
开始生产前取一片称好硅片放在RENA 机第三道待其流出后称重计算出腐蚀量,合格后开始生产,如果不合格通知工艺人员调整制绒液浓度。
3.2.3 下料3.2.3.1 将花篮按箭头向上的方式放在下料机花篮缓冲区传送带上,缓冲区最多放三个花篮。
3.2.3.2点选与RENA匹配的带速按钮,按下工艺启动按钮启动下料机。
3.2.3.3 待花篮插满硅片后,将花篮自下料处拿起放到货架上,非制绒面朝向下料人。
3.3 仪器/工具/材料3.3.1 仪器:启天上下料机,RENA制绒机3.3.2 工具:承载盒、花篮。
3.3.3 材料:硅检后硅片3.4 注意事项:3.4.1 注意观察上料处如有碎片、叠片将碎片叠片及时取出。
3.4.2 开始生产后每500片测腐蚀量一次。
生产2000片后每2000片测腐蚀量一次。
3.4.3 rena机临时停机后复产需降低带速,腐蚀量正常后逐步提高带速3.4.4 检验硅片时严禁用裸手直接接触硅片。
单晶制绒(RENA)作业指导书
1. 目的为LDK电池生产线单晶制绒工序的作业提供标准的操作指导,使单晶制绒工序的生产操作管理规范化、标准化。
2. 范围适用于LDK电池生产线单晶制绒工序,从单晶制绒作业准备至结束所有生产操作步骤和要求。
3. 职责3.1工艺技术人员3.1.1负责单晶制绒工序生产工艺运行的正常性、稳定性。
3.1.2负责部门内工艺运行原始资料的累积、保管,随时检查工艺运行状态,并记录异常,积极处理工艺异常。
3.1.3负责应对单晶制绒设备常见、突出、重大的工艺异常,制定落实整改措施、预防措施、应急方案。
3.2设备技术人员3.2.1负责单晶制绒设备开关机、故障分析、设备维护及检修。
3.2.2如有工艺需求,积极配合工艺人员调整设备硬件设置。
3.2.3 负责部门内设备运行原始资料的累积,保管,随时检查设备运行状态,并记录异常,积极跟踪异常情况,处理设备故障;3.3生产人员3.3.1负责依照作业指导书要求,按标准进行生产作业,掌握正确的操作方法,确保操作安全、人身安全。
3.3.2细心总结操作经验,发现新问题或改善建议,及时向工艺技术员汇报。
3.3.3配合、协助设备的日常维护工作。
4. 单晶制绒工序标准作业流程4.1 单晶制绒目的4.1.1 在硅片表面通过化学腐蚀形成“金字塔”结构,通过陷光原理增加对太阳光吸收。
4.2 生产准备4.2.1 按照着装标准正确穿戴无尘服,正确佩戴口罩及手套。
4.2.2 确保手套没有粘有油脂性物质,如接触过皮肤、头发或者是带有油脂的物品,请更换手套。
4.2.3生产前检查的设备外围、供电、及工艺参数是否正确4.2.4确保生产用工具配齐4.3 生产操作过程4.3.1检查外包装箱子是否有破损,检查配料单和Qc检验入库信息是否一致,同时核对外包装箱上的数量合计是否与配料单一致。
4.3.2 搬动一箱硅片在电子秤上称重,检查包装箱上的重量是否与电子秤是否一致,如一致,将秤的重量写在装片记录上,称完重量的硅片立即从称上取下,电子称上严禁长时间放置物品。
RENA制绒工序工艺控制
恢复生产时生产员工需先把8道减薄量先称出来,正常生产后应每隔2小时测量一次减薄量,并在电脑软件上填写相应记槽换液周期为3.5天。
6.异常反馈
6.1减薄量异常
当发现减薄量异常时,如可通过带速调整,生产部工序长可以调整带速以控制减薄量;当调整带速不能控制减薄量时必须第一时间通知到值班工艺人员,由工艺人员调整确认后才能继续生产。
6.2报警异常
发现报警信息时及时查看,能消除报警信息即消除报警;如报警信息无法消除,及时反馈给工艺、设备人员。
5.附录
(a)绒面过小(b)绒面过大
(c)正常绒面
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1.目的
去除硅片表面的机械损伤层,在硅片表面形成绒面,清除表面油污和金属杂质,稳定设备、生产、工艺的正常运作。
2.范围
5-8线制绒工序。
3.职责
3.1所有操作人员都必须严格按照本档进行操作;
3.2在操作过程中遇到问题应及时向工艺人员反应,工艺人员及时提供帮助。
4.工艺控制规范
4.1减薄量工艺控制规范
减薄量工艺控制范围:0.45-0.55g/pc(正常片),0.15-0.3片(返工片)。
4.2带速工艺控制规范
带速工艺控制范围:1.2-1.4m/min,建议带速1.3m/min。
4.3制绒槽温度工艺控制规范
温度工艺控制范围:6-9℃
4.4循环流量工艺控制规范
循环流量工艺控制范围:100-160L/min
电池片工艺流程
电池片工艺流程一、电池片工艺流程:制绒(INTEX)---扩散(DIFF)----后清洗(刻边/去PSG)-----镀减反射膜(PECVD)------丝网、烧结(PRINTER)-----测试、分选(TESTER+SORTER)------包装(PACKING)二、各工序工艺介绍:(一)前清洗1.RENA前清洗工序的目的:(1) 去除硅片表面的机械损伤层(来自硅棒切割的物理损伤)(2) 清除表面油污(利用HF)和金属杂质(利用HCl)(3)形成起伏不平的绒面,利用陷光原理,增加对太阳光的吸收,在某种程度上增加了PN结面积,提高短路电流(Isc),最终提高电池光电转换效率。
2、前清洗工艺步骤: 制绒?碱洗?酸洗?吹干Etch bath:刻蚀槽,用于制绒。
所用溶液为HF+HNO3 ,作用:(1).去除硅片表面的机械损伤层;(2).形成无规则绒面。
Alkaline Rinse:碱洗槽。
所用溶液为KOH,作用:(1). 对形成的多孔硅表面进行清洗;(2).中和前道刻蚀后残留在硅片表面的酸液。
Acidic Rinse:酸洗槽。
所用溶液为HCl+HF,作用:(1).中和前道碱洗后残留在硅片表面的碱液;(2).HF可去除硅片表面氧化层(SiO2),形成疏水表面,便于吹干;(3).HCl中的Cl-有携带金属离子的能力,可以用于去除硅片1/13页表面金属离子。
3. 酸制绒工艺涉及的反应方程式:HNO3+Si=SiO2+NOx?+H2OSiO2+ 4HF=SiF4+2H2OSiF4+2HF=H2[SiF6]Si+2KOH+H2O ?K2SiO3 +2H24. 前清洗工序工艺要求(1) 片子表面5S控制不容许用手摸片子的表片,要勤换手套,避免扩散后出现脏片。
(2)称重a.每批片子的腐蚀深度都要检测,不允许编造数据,搞混批次等。
b.要求每批测量4片。
c.放测量片时,把握均衡原则。
如第一批放在1.3.5.7道,下一批则放在2.4.6.8道,便于检测设备稳定性以及溶液的均匀性。
1.RENA制绒工序作业指导书
1.RENA制绒工序作业指导书文件修订记录目录1.目的 (3)2. 范围 (3)3. 职责 (3)4. 内容 (3)5. 记录 (3)6. 附件 (4)1. 目的规范多晶硅电池片生产中制绒工序的各项操作。
2. 范围用于本公司156 多晶电池片生产中RENA 清洗机制绒工序的操作作业指导。
3. 职责3.1 所有操作人员都必须严格按照本文件进行操作。
3.2 在操作过程中遇到问题应及时向工艺和设备人员反应,工艺和设备人员及时提供帮助。
3.3电池技术部负责按文件要求对产线进行检查、监督。
4. 内容4.1 制绒工序注意事项规定,见5-8页。
4.2 RENA制绒上料操作作业指导书(多晶),见9-10页。
4.3 RENA制绒流程操作作业指导书(多晶),见11-12页。
4.4 RENA制绒下料操作作业指导书(多晶),见13-14页。
4.5 减薄量测试作业指导书, 见15页。
4.6返工片操作作业指导书,见16-20页。
4.7产线异常控制作业指导书,见21页。
4.8 D8反射率使用作业指导书见22-23页。
5. 记录5.1 制绒减重反射率记录表(电子版)5.2 制绒换液记录表5.3 制绒工艺日常点检表5.4 电池生产流程单6. 附件6.1制绒常见异常处理方法(设备),见24-25页。
6.2多晶制绒工艺流程图,见26页。
6.3 化学品安全使用和应急处理,见27-28页。
制绒工序注意事项规定1.制绒工序区域环境要求1.1 洁净度:控制线8000 级,停产线10000 级1.2 温度:22±2℃1.3 湿度:<70%1.4 对参观通道保持3pa 正压1.5 排风:(500±50)Pa(RENA 机排风)2.着装及劳保用品使用要求2.1 人员着装要求:现场作业人员、支持人员须穿戴整齐(包括公司配备的洁净服、洁净帽、工作鞋、口罩)并保证着装整洁(如脏污须清洗或更换)。
2.2 手套使用要求:现场作业人员须戴乳胶手套作业,沾污、破损必须更换新手套;手动放片每两小时更换一次手套,出入车间后更换手套。
RENA清洗员工培训
返工片挑选
控制点 工序 类型 油污、微晶片 一次清洗 上料台 二次清洗 膜未去干净 每片 标示为“膜未去干净”、返回 PECVD 通知工艺人员确认 检查频次 每片 异常片处理 挑出后集中处理 处理流程 通知工艺人员和质量人员确 认
外围设施
纯水:电阻率≥15M .cm、压力≥3bar 循环冷却水:温度≤18℃,进出水压差≥3 bar 压缩空气:压力≥6 bar
设备设施
风刀压力: ≥ 150 Nm3/ h 漂洗槽进水流量: ≥ 600L/h
工艺要求
•
上料 1、手套戴法:内层汗布手套 + 外层乳胶手套 更换频率:每一小时需更换手套,出入车间更换手套 2、将不同片源、不同批次、不同厚度的硅片区分开来,并分别开流程卡(流程卡 上注明以上所有信息)。 3 3、制绒槽新换液的第一个班,要在流程卡上注明“新换液”字样,有利于PECVD “ ” PECVD 调整工艺。 4、上料过程中如发现有油污片、发亮片、微晶片(片源有“微晶片”说明的除外)等 异常情况,需挑出集中处理并告知工艺员。 5、将缺角、隐裂等不合格硅片挑出,退库。
各槽换液频率
•
制绒(一次清洗)
类型 156多晶 125多晶 制绒槽 30±5万片 45±5万片 碱洗槽 每班交接班时 每班交接班时 酸洗槽 每天夜班结束时 每天夜班结束时 漂洗槽 每班交接班换液 每班交接班换液
•
注:生产如需停产≥24小时,所有槽内溶液应排掉,并清洗干净。 刻蚀(二次清洗)
类型 156多晶 125多晶 制绒槽 140±10万片 140±10万片 碱洗槽 每班交接班时 每班交接班时 酸洗槽 每天夜班结束时 每天夜班结束时 漂洗槽 每班交接班换液 每班交接班换液
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3)、当工艺方案因随车间的工艺调整而变化时,工艺人员应当及时通知并做好相应的记录。
4)、制冷机与腐蚀槽之间的流量Setpoint recirculation flow 不易设置的太小,因为如果流量过小,会导致制冷机输出的溶液温度降低,不利于工艺的稳定。
3、原材料准备:硅片需经抽检合格后方可投入,将不合格硅片挑拣出来。常见的不合格片包括:崩边、缺角、裂纹、锯痕、手印、孔洞、微晶、含氮化硅的硅片等。
4、工装工具准备:备齐用于工艺生产的PVC手套、口罩、防护眼罩、防护面罩、防护套袖、防护服、防酸碱手套、防酸碱胶鞋等。
5、工艺准备:确认设定的制绒工艺名称及参数正确无误。
7、设备内部或周围严禁接触和堆放易燃易爆等危险品。
8、在机器运行过程中任何人不得将头、手伸入工作腔体,以免发生危险。
9、工作时一定要有专人看守,工作结束后操作人员必须保证关闭设备电源后方可离开。
10、为防止硅片沾污,制绒后的硅片应尽量避免较长时间暴露在空气中,应尽快转入扩散工序。
11、在中和浓酸或浓碱时,必须先将其倒入水中稀释。
四、工艺原料及工艺要求:
合格的多晶硅片、HNO3(65%、电子级)、HF(40%、电子级)、KOH(50%、电子级)、HCl(37%、电子级)、DI水(大于15 MΩ·cm、6bar)、冷却水(4bar)、压缩空气(6 bar,除油、除水、除粉尘)、排风(0.01bar)、环境温度20℃~30℃、相对湿度40%~60%。
7、完工后详细填写完工转交单,要求字迹工整、投入、产出、碎片等信息准确无误,与制绒后的硅片一同转入扩散工序。
八、安全操作:
制绒工序大量使用强酸、碱等化学药品,了解酸、碱的知识对安全生产是十分必要的。酸碱对人体和衣物有强烈的腐蚀作用,而且有些有毒性和氧化作用。
1、员工上岗前必须经过专业培训,要严格按照本工序设备安全操作规程和工艺操作规程进行作业。
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工艺说明
名称
晶体硅太阳电池
编
号
制绒
图号
六、工艺准备:
1、工艺洁净管理:操作时需戴口罩、洁净手套,并保持室内正压,严禁随便开启门窗,以保持室内洁净度。
2、设备准备:确认设备能正常运行,工艺温度、冷却水、压缩空气等压力及流量正常。
七、工艺操作:
1、在工艺准备完成后,选择正确的工艺方案,点击开始进入自动运行模式。
2、自动装载操作:硅片的自动装载速度不得大于RENA的传输速度,以保证在RENA的装载区不会出现叠片现象。
3、手动卸载操作:操作人员务必仔细看护好硅片的传输,保证每个硅片都按照正确的位置传送到每一道后面的泡沫盒中,用肉眼观察硅片上下表面的绒面效果,发现绒面不明显或制绒面黑色印记较多时应及时反映给当班工艺人员进行调整。
2、硅片的装卸应该在10000级的洁净环境中进行,注意保持室内洁净度,进出时随手关门。
3、操作时务必小心,不可损伤或沾污硅片。
4、腐蚀槽在反应过程中会产生有毒气体,要保证良好的通风并注意防护,避免蒸气对人体的毒害。
5、操作要穿戴适当的防护用品,如防护服、防护眼罩、防酸碱手套、防酸碱套袖、口罩等。
6、搬运时要防止酸、碱瓶的倾倒和破裂,启封时,瓶口应向无人的地方,并且环境需通风良好。更换化学药品罐时须由专人负责,两人同时进行作业,穿好防护服,戴好防护面罩、防护套袖和手套,小心处理,换好药液后及时填写记录。
上料→HNO3、HF制绒→风刀1→冲洗1→KOH腐蚀→风刀2→冲洗2→HF、HCl清洗→风刀3→冲洗3→风刀吹干→下料。
5.4注意事项:
1)、腐蚀槽的腐蚀速率会随着硅片清洗量的增加而改变,新换的药液反应速度慢,因此需要降低带速以保证腐蚀量在4.6-4.8微米,随着生产的进行要求每隔半小时测量一次腐蚀深度,及时调整带速(0.8-1.1m/min)以保证腐蚀深度在规定范围内。当腐蚀速度稳定后每隔一个小时测量一次腐蚀深度。当腐蚀深度偏离规定时最好不要更改溶液浓度、溶液比例,因为浓度、比例发生改变腐蚀速度也随之发生变化,导致腐蚀后硅片表面微观结构发生改变。
二、原理:
在制绒过程中,首先是硝酸在损伤层与缺陷处将硅片氧化,形成氧化硅,然后氢氟酸与氧化硅反应生长硅的络合物(H2SiF6)与水,这样去损伤层与制绒同时进行,从而缩短了工艺流程。
三、设备及工具:
RENA制绒机、电子天平、PVC手套、口罩、防护服、防护眼罩、防护套袖、橡胶手套、防水胶鞋、浓度分析仪、反射仪、显微镜
12、盛过强碱、强酸的容器不可随意丢弃,应先倾倒干净,用水冲洗多遍,然后进行一般清洁处理。
13、不同废液不可随意混倒,废液应当分裂处理。
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工艺说明
名称
晶体硅太阳电池
编
号
制绒
图号
一、目的:
硅片在切割过程中会在表面形成大约10μm厚的损伤层,这一层因为与硅片基体的状态已经不同,基本上已经剥离于集体,会严重影响半导体器件(太阳电池)的性能。清洗工序制绒工艺就是利用硅片的这一层损伤层,通过硝酸对其氧化制绒,形成高低不平的表面,大大增加电池片表面的受光面积,减少反射,从而提高太阳电池的转换效率。
最后利用HF与HCl的混合溶液除去硅片表面的各种金属离子等杂质,并用DI水冲洗酸性表面,最后用压缩空气将硅片表面吹干。
5.2制绒过程的反应方程式如下: 1) Si+4HNO3=SiO2+4NO2+2H2O
2) SiO2+4HF=SiF4+2H2O
3) SiF4+2HF=H2SiF6
5.3制绒工艺流程:
五、工艺描述:
5.1工艺原理:
RENA制绒工艺主要包括三部分:
硝酸与氢氟酸混合液→氢氧化钾→盐酸与氢氟酸混合溶液
在制绒过程中,首先是硝酸在损伤层与缺陷处将硅片氧化,形成氧化硅,然后氢氟酸与氧化硅反应生长硅的络合物(H2SiF6)与水,这样去损伤层与制绒同时进行,从而缩短了工艺流程。
制绒之后的硅片经过KOH溶液去除硅片表面的多孔硅,再经过DI水冲洗去掉表面残留的碱液。
4、自动卸载操作:操作人员务必仔细看护好硅片的传输,保证各个硅片传入载片盒的正确位置。
5、取片时要随时将碎片取出并准确记录每一道的碎片情况,如发现硅片有未风干的现象则将湿硅片挑拣出来并及时向班组长反映情况,通过调整设备及工艺解决问题。
6、工艺过程中:定时检查设备运行情况,检查各槽是否都处于in process状态,检查传输速度、加热温度、气体流量等参数以及各工位液位情况。