模拟CMOS集成电路设计(拉扎维)第5章无源和有源电流镜研究报告

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模拟CMOS集成电路设计优质课程设计实验报告二级放大器的设计

模拟CMOS集成电路设计优质课程设计实验报告二级放大器的设计

模拟CMOS集成电路设计课程设计报告--------二级运算放大器旳设计信息科学技术学院电子与科学技术系一、概述:运算放大器是一种能将两个输入电压之差放大并输出旳集成电路。

运算放大器是模拟电子技术中最常用旳电路,在某种限度上,可以把它当作一种类似于BJT 或FET 旳电子器件。

它是许多模拟系统和混合信号系统中旳重要构成部分。

它旳重要参数涉及:开环增益、单位增益带宽、相位阈度、输入阻抗、输入偏流、失调电压、漂移、噪声、输入共模与差模范畴、输出驱动能力、建立时间与压摆率、CMRR、PSRR以及功耗等。

二、设计任务:设计一种二级运算放大器,使其满足下列设计指标:三、电路分析:1.电路构造:最基本旳二级运算放大器如下图所示,重要涉及四部分:第一级放大电路、第二级放大电路、偏置电路和相位补偿电路。

2.电路描述:输入级放大电路由PM2、PM0、PM1和NM0、NM1构成。

PM0和PM1构成差分输入对,使用差分对可以有效地克制共模信号干扰;NM0和NM1构成电流镜作为有源负载;PM2作为恒流源为放大器第一级提供恒定旳偏置电流。

第二级放大电路由NM2和PM3构成。

NM2为共源放大器;PM3为恒流源作负载。

相位补偿电路由电阻R0和电容C0构成,跨接在第二级输入输出之间,构成RC米勒补偿。

此外从电流电压转换角度来看,PM0和PM1为第一级差分跨导级,将差分输入电压转换为差分电流。

NM0和NM1为第一级负载,将差模电流恢复为差模电压。

NM2为第二级跨导级,将差分电压信号转换为电流,而PM3再次将电流信号转换成电压信号输出。

偏置电压由V0和V2给出。

3.静态特性对第一级放大电路:构成差分对旳PM0和PM1完全对称,故有G m1=g mp0=g mp1 (1)第一级输出电阻R out1=r op1||r on1 (2)则第一级电压增益A1=G m1Rout1=g mp0,1(r op1||r on1) (3) 对第二级放大电路:电压增益A2=G m2R out2= -g mn2(r on2||r op3) (4) 故总旳直流开环电压增益A0=A1A2= -g mp0,1g mn2(r op1||r on1)(r on2||r op3) (5) 由于所有旳管子都工作在饱和区,因此对于gm我们可以用公式g m =D I L W )/(Cox 2μ (6) 进行计算;而电阻r o 可由下式计算 r o =DI 1λ (7)其中λ为沟道长度调制系数且λ∝1/L 。

模拟cmos集成电路设计拉扎维MOS器件物理基础PPT课件

模拟cmos集成电路设计拉扎维MOS器件物理基础PPT课件
定义从D流 向S为正 PMOS管电流驱动能力比NMOS管差 0.8 m nwell:p=250cm2/V-s, n=550cm2/Vs 0.5 m nwell:p=100cm2/V-s, n=350cm2/V-
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跨导gm
VGS对IDS的控制能力 IDS对VGS变化的灵敏度
gm ID VGS VDS cons tant
• 直流关系式-I/V特性 • 交流关系式-小信号电路中的参数
第6页/共61页
MOS管简化模型
简化模型——开关 由VG控制的一个开关
第7页/共61页
MOS管的结构
Bulk(body)
源漏在物理结构上是完全对称的,靠什么区分开?
提供载流子的端口为源,收集载流子的端口为漏
最重要的工作区域?
受VG控制的沟道区
• 小信号模型 • 信号相对于偏置工作点而言比较小、不会显著影响偏置工作点时用该模型简化计算 • 由gm、 gmb、rO等构成低频小信号模型,高频时还需加上 CGS等寄生电容、寄生电阻(接触孔电阻、 导电层电阻等)
沟道电荷的产生
当VG大到一定 程度时,表面势 使电子从源流向 沟道区 VTH定义为表面电 子浓度等于衬底 多子浓度时的VG
第12页/共61页
阈值电压
0 栅与衬底功函数差
COX
OX
TOX
常通过沟道注入把VTH0调节到合适值 工艺确定后,VTH0就固定了,设计者无法改变
第13页/共61页
I/V特性-沟道随VDS的变化
第3页/共61页
掌握器件物理知识的必要性
• 数字电路设计师一般不需要进入器件内部,只把它当开关用即可 • AIC设计师必须进入器件内部,具备器件物理知识
• MOS管是AIC的基本元件 • MOS管的电特性与器件内部的物理机制密切相关,设计时需将两者结

CMOS 模拟集成电路课件-电流源与电流镜

CMOS 模拟集成电路课件-电流源与电流镜
例2:采用M6代替电阻,选择足够大尺寸 (W/L)6 使得VGS6 ≈VTH6, 因此VB=VGS5+VGS4VTHM6
缺点:虽然电路不需要电阻,但仍然由于体效 应而存在误差
– 因此,设计时需要留一些余量.
VDD I1
IREF
VOUT
RB
Z
VB
M0
M4
X
IOUT=IREF M3 Y
M1
M5
M2
I1
M6 VB
IOUT
(W (W
/ L)2 / L)1
I REF
IOUT与IREF的比值由器件尺寸的比率决定,不受工艺 和温度的影响。设计者可以通过器件的尺寸比来调整 输出电流的大小。
在λ=0的情况下 !
2020/5/6
8
• 例子:
– 在电流镜电路的实际设计中,通常采 用叉指MOS管,每个“叉指”的沟道 长度相等,复制倍数由叉指数决定, 减小由于漏源区边缘扩散所产生的误 差,以减小器件的失配造成的电流失 配。.
3.2.1 简单电流源
• NMOS电流源: 工作在饱和区的MOSFET
VDD iOUT
iOUT
vOUT ≥VBIAS VTHN
斜率=1/rout
r 1 out
iOUT vOUT
IOUT
VGS=VBIAS
M1 VBIAS
+ vOUT -
0 VBIAS - VTHN
vOUT
2020/5/6
iOUT
1 2
+
-
+
vout
rs
vs
-
-
rout
vout iout
rs ro2 [( gm2 gmb2)ro2 ]rs

模拟cmos集成电路设计(拉扎维)第2章MOS器件物理基础

模拟cmos集成电路设计(拉扎维)第2章MOS器件物理基础

电流近似只 于W/L和VGS 有关, 不随 VDS变化
22
I/V特性—当VDS>VGS-VTH时
用作电流源或电流沉(current sink)
西电微电子学院-董刚-模拟集成电路设计
23
I/V特性—PMOS管
定义从D流 向S为正
PMOS管电流驱动能力比NMOS管差 0.8 m nwell:p=250cm2/V-s, n=550cm2/V-s
27
本讲
基本概念
简化模型-开关 结构 符号
I/V特性
阈值电压 I-V关系式 跨导
二级效应
体效应、沟道长度调制效应、亚阈值导电性
器件模型
版图、电容、小信号模型等
西电微电子学院-董刚-模拟集成电路设计
28
二级效应
前面VTH、I/V、gm等推导都是基于最简 单假设
忽略了VDS对L的影响等二级效应
0 栅与衬底功函数差
COX

OX
TOX
常通过沟道注入把VTH0调节到合适值
工艺确定后,VTH0就固定了,设计者无法改变
西电微电子学院-董刚-模拟集成电路设计
14
I/V特性-沟道随VDS的变化
西电微电子学院-董刚-模拟集成电路设计
15
I/V特性—推导I(VDS,VGS)
I Qd v
Qd WCox(VGS VTH)
dx
L
VD S
IDdx WCoxn[VGS V(x) VTH]dV
x 0
V0
ID

nCox
W L
[(VGS

VTH)VDS

1 2
VDS2 ]
西电微电子学院-董刚-模拟集成电路设计

电子科大集成电路原理实验报告-CMOS模拟集成电路设计与仿真标准实验报告

电子科大集成电路原理实验报告-CMOS模拟集成电路设计与仿真标准实验报告

电子科大集成电路原理实验报告-CMOS模拟集成电路设计与仿真标准实验报告电子科技大学微电子与固体电子学院集成电路原理与设计CMOS模拟集成电路设计与仿真电子科技大学实验报告实验地点:211楼606 实验时间:2014.6.7一、实验室名称:微电子技术实验室二、实验项目名称:CMOS模拟集成电路设计与仿真三、实验学时:4四、实验原理参照实验指导书。

五、实验目的本实验是基于微电子技术应用背景和《集成电路原理与设计》课程设置及其特点而设置,为IC设计性实验。

其目的在于:根据实验任务要求,综合运用课程所学知识自主完成相应的模拟集成电路设计,掌握基本的IC设计技巧。

学习并掌握国际流行的EDA仿真软件Cadence的使用方法,并进行电路的模拟仿真。

六、实验内容1、UNIX操作系统常用命令的使用,Cadence EDA仿真环境的调用。

2、设计一个运算放大器电路,要求其增益大于40dB, 相位裕度大于60?,功耗小于10mW。

3、根据设计指标要求,选取、确定适合的电路结构,并进行计算分析。

4、电路的仿真与分析,重点进行直流工作点、交流AC分析、瞬态Trans分析、建立时间小信号特性和压摆率大信号分析,能熟练掌握各种分析的参数设置方法。

5、电路性能的优化与器件参数调试,要求达到预定的技术指标。

6、整理仿真数据与曲线图表,撰写并提交实验报告。

七、实验仪器设备(1)工作站或微机终端一台(2)局域网2(3)EDA仿真软件 1套八、实验步骤1、根据实验指导书熟悉UNIX操作系统常用命令的使用,掌握Cadence EDA仿真环境的调用。

2、根据设计指标要求,设计出如下图所示的电路结构。

并进行计算分析,确定其中各器件的参数。

3、电路的仿真与分析,重点进行直流工作点、交流AC分析、瞬态Trans分析,能熟练掌握各种分析的参数设置方法。

4、电路性能的优化与器件参数调试,要求达到预定的技术指标。

具体计算步骤如下:(参见模拟CMOS集成电路设计)1. 通过额定功耗和片外电容C计算偏置电路电流以及流进M6,M8电流,再通过相关试验得到相关pmos,nmos的Vth和k和λ,得到m6,m8,m9宽长比并计算密勒电容Cc2. 通过cmr计算m4和m0的宽长比3. 通过GB和Cc求出m2和m5宽长比4. 由m6,m8的Ids电流计算m7宽长比5. 进行电路仿真,观察电路是否符合各方面要求。

模拟cmos集成电路设计研究生课程实验报告

模拟cmos集成电路设计研究生课程实验报告

模拟cmos集成电路设计研究生课程实验报告模拟CMOS集成电路设计研究生课程实验报告1. 引言在现代电子工程领域中,模拟CMOS集成电路设计一直是一个备受关注的研究领域。

本文将对模拟CMOS集成电路设计研究生课程实验进行全面评估,并撰写一份有价值的实验报告。

通过这篇文章,我们将深入探讨模拟CMOS集成电路设计的原理、方法和实践,为读者带来深刻而全面的理解。

2. 实验内容本次课程实验旨在通过实际操作,让学生深入理解模拟CMOS集成电路设计的基本原理和流程。

实验包括了对CMOS集成电路的基本认识、基于SPICE仿真工具的电路模拟设计、以及实际电路的布局与布线等内容。

在实验中,学生需要掌握CMOS集成电路的工作原理、信号传输特性、电路设计的基本流程以及布局与布线的关键技术。

3. 深度评估通过对实验内容的深度评估,我们可以认识到模拟CMOS集成电路设计的复杂性和重要性。

学生需要理解CMOS技术在集成电路设计中的核心地位,以及其在实际电路中的应用。

SPICE仿真工具在电路设计中的作用和优势也是本次实验的重要内容。

电路的布局与布线对于电路性能的影响不可忽视,学生需要深入理解布局布线的原理和方法。

4. 文章撰写在文章的撰写过程中,我们将按照知识的文章格式进行,使用序号标注,并在内容中多次提及模拟CMOS集成电路设计这一主题。

在文章的开头,我们将对模拟CMOS集成电路设计的重要性和实验的背景进行介绍,为读者带来对主题的直观了解。

我们将从CMOS集成电路的基本原理和工作特性入手,逐步展开对实验内容的深入解析。

在文章的结尾,我们将总结实验的收获和体会,共享对模拟CMOS集成电路设计的个人观点和理解。

5. 总结与展望通过本文的撰写和深度评估,我们不仅对模拟CMOS集成电路设计研究生课程实验进行了全面解析,同时也为读者带来了对这一领域的深刻理解和启发。

未来,希望能进一步探讨模拟CMOS集成电路设计的前沿技术和发展趋势,为电子工程领域的学术研究和技术应用提供更多有价值的内容。

拉扎维_模拟CMOS集成电路设计课后答案

拉扎维_模拟CMOS集成电路设计课后答案

CORRECTIONS TO SOLUTIONS MANUALIn the new edition, some chapter problems have been reordered and equations and figure refer-ences have changed. The solutions manual is based on the preview edition and therefore must be corrected to apply to the new edition. Below is a list reflecting those changes.The “NEW” column contains the problem numbers in the new edition. If that problem was origi-nally under another number in the preview edition,that number will be listed in the“PREVIEW”column on the same line.In addition,if a reference used in that problem has changed,that change will be noted under the problem number in quotes. Chapters and problems not listed are unchanged.For example:NEW PREVIEW--------------4.18 4.5“Fig. 4.38” “Fig. 4.35”“Fig. 4.39” “Fig. 4.36”The above means that problem4.18in the new edition was problem4.5in the preview edition.To find its solution, look up problem 4.5 in the solutions manual. Also, the problem 4.5 solution referred to “Fig. 4.35” and “Fig. 4.36” and should now be “Fig. 4.38” and “Fig. 4.39,” respec-tively._____________________________________________________________________________ CHAPTER 3NEW PREVIEW--------------3.1 3.83.2 3.93.3 3.113.4 3.123.5 3.133.6 3.143.7 3.15“From 3.6” “From 3.14”3.8 3.163.9 3.173.10 3.183.11 3.193.12 3.203.13 3.213.14 3.223.15 3.13.16 3.23.17 3.2’3.18 3.33.19 3.43.20 3.53.21 3.63.22 3.73.23 3.103.24 3.233.25 3.243.26 3.253.27 3.263.28 3.273.29 3.28 CHAPTER 4NEW PREVIEW--------------4.1 4.124.2 4.134.3 4.144.4 4.154.5 4.164.6 4.174.7 4.18“p. 4.6” “p. 4.17”4.8 4.194.9 4.204.10 4.214.11 4.224.12 4.234.13 4.24“p. 4.9” “p. 4.20”4.14 4.1“(4.52)” “(4.51)”“(4.53)” “(4.52)”4.15 4.24.16 4.34.17 4.44.18 4.5“Fig. 4.38” “Fig. 4.35”“Fig. 4.39” “Fig. 4.36”4.19 4.6“Fig 4.39(c)” “Fig 4.36(c)”4.20 4.74.21 4.84.22 4.94.23 4.104.24 4.114.25 4.254.26 4.26“p. 4.9” “p. 4.20”CHAPTER 5NEW PREVIEW--------------5.1 5.165.2 5.175.3 5.185.4 5.195.5 5.205.6 5.215.7 5.225.8 5.235.9 5.15.10 5.25.11 5.35.12 5.45.13 5.55.14 5.65.15 5.75.16 5.85.17 5.95.18 5.10“Similar to 5.18(a)” “Similar to 5.10(a)”5.19 5.115.20 5.125.21 5.135.22 5.145.23 5.15CHAPTER 6NEW PREVIEW--------------6.1 6.76.2 6.86.3 6.9“from eq(6.23)” “from eq(6.20)”6.4 6.106.5 6.11“eq (6.52)” “eq (6.49)”6.6 6.16.7 6.26.8 6.36.9 6.46.10 6.56.11 6.66.13 6.13“eq (6.56)” “eq (6.53)”“problem 3” “problem 9”6.16 6.16“to (6.23) & (6.80)” “to (6.20) & (6.76)”6.17 6.17“equation (6.23)” “equation (6.20)”CHAPTER 7NEW PREVIEW--------------7.27.2“eqn. (7.59)” “eqn. (7.57)”7.177.17“eqn. (7.59)” “eqn. (7.57)7.197.19“eqns 7.66 and 7.67” “eqns 7.60 and 7.61”7.217.21“eqn. 7.66” “eqn. 7.60”7.227.22“eqns 7.70 and 7.71” “eqns. 7.64 and 7.65”7.237.23“eqn. 7.71” “eqn. 7.65”7.247.24“eqn 7.79” “eqn 7.73”CHAPTER 8NEW PREVIEW--------------8.18.58.28.68.38.78.48.88.58.98.68.108.78.118.88.18.98.28.108.38.118.48.138.13“problem 8.5” “problem 8.9”CHAPTER 13NEW PREVIEW--------------3.17 3.17“Eq. (3.123)” “Eq. (3.119)”CHAPTER 14 - New Chapter, “Oscillators”CHAPTER 15 - New Chapter, “Phase-Locked Loops”CHAPTER 16 - Was Chapter 14 in Preview Ed.Change all chapter references in solutions manual from 14 to 16. CHAPTER 17 - Was Chapter 15 in Preview Ed.Change all chapter references in solutions manual from 15 to 17. CHAPTER 18 - Was Chapter 16 in Preview Ed.NEW PREVIEW--------------18.316.3“Fig. 18.12(c)” “Fig. 16.13(c)”18.816.8“Fig. 18.33(a,b,c,d)” “Fig. 16.34(a,b,c,d)”Also, change all chapter references from 16 to 18.。

模拟CMOS集成电路设计(毕查德·拉扎维著,陈贵灿等译,西安交通大学出版社) 绪论课件

模拟CMOS集成电路设计(毕查德·拉扎维著,陈贵灿等译,西安交通大学出版社) 绪论课件

模拟CMOS集成电路设计教材n模拟CMOS集成电路设计,毕查德.拉扎维著,陈贵灿等译,西安交通大学出版社参考资料n半导体集成电路,朱正涌,清华大学出版杜n CMOS模拟电路设计(英文),P.E.Allen,D.R.Holberg,电子工业出版社n模拟集成电路的分析与设计,P.R.Gray等著,高等教育出版社半导体集成电路发展历史n1947年BELL实验室发明了世界上第一个点接触式晶体管(Ge NPN)半导体集成电路发展历史n1948年BELL 实验室的肖克利发明结型晶体管n1956年肖克利、布拉顿和巴丁一起荣获诺贝尔物理学奖n50年代晶体管得到大发展(材料由Ge→Si)半导体集成电路发展历史n1958年TI公司基尔比发明第一块简单IC。

n在Ge晶片上集成了12个器件。

n基尔比也因此与赫伯特·克勒默和俄罗斯的泽罗斯·阿尔费罗夫一起荣获2000年度诺贝尔物理学奖。

半导体集成电路发展历史n19世纪60年代美国仙童公司的诺依斯开发出用于IC的平面工艺技术,从而推动了IC制造业的大发展。

半导体集成电路发展历史n60年代TTL、ECL出现并得到广泛应用n1966年MOS LSI发明(集成度高,功耗低)n70年代MOS LSI得到大发展(出现集成化微处理器,存储器)n80年代VLSI出现,使IC进入了崭新的阶段。

n90年代ASIC、ULSI和巨大规模集成GSI等代表更高技术水平的IC 不断涌现,并成为IC应用的主流产品。

n21世纪SOC、纳米器件与电路等领域的研究已展开n展望可望突破一些先前认为的IC发展极限,对集成电路IC的涵义也将有新的诠释。

集成电路用半导体工艺,或薄膜、厚膜工艺(或这些工艺的组合),把电路的有源器件、无源元件及互连布线以相互不可分离的状态制作在半导体或绝缘材料基片上,最后封装在一个管壳内,构成一个完整的、具有特定功能的电路、组件、子系统或系统。

模拟集成电路n1967年国际电工委员会(IEC)正式提出模拟集成电路的概念,它包括了除逻辑集成电路以外的所有半导体集成电路。

拉扎维带隙基准模拟cmos集成电路设计

拉扎维带隙基准模拟cmos集成电路设计

华大微电子:模拟集成电路原理
Bandgap Ref Ch. 11 # 17
第18页/共29页
Bandgap Ref Ch. 11 # 18
PTAT电流的产生
第19页/共29页
P TAT 电 流 的 产 生
华大微电子:模拟集成电路原理
第20页/共29页
VREF
VBE3
R2 R1
VT
ln n
Bandgap Ref Ch. 11 # 19
第4页/共29页
与电源无关的偏置
如何产生IREF?
I out
VDD R1 1 g m1
W W
L1 L2
华大微电子:模拟集成电路原理
Bandgap Ref Ch. 11 # 4
第5页/共29页
与电源无关的偏置
华大微电子:模拟集成电路原理
2Iout
nCOX W
L
N
VTH 1
2I out nCOX K W
华大微电子:模拟集成电路原理
Bandgap Ref Ch. 11 # 10
第11页/共29页
与温度无关的偏置
华大微电子:模拟集成电路原理
Vout
VBE2
VT
ln n1
R2 R3
Bandgap Ref Ch. 11 # 11
第12页/共29页
与温度无关的偏置
华大微电子:模拟集成电路原理
Bandgap Ref Ch. 11 # 12
第27页/共29页
实例分析
华大微电子:模拟集成电路原理
Bandgap Ref Ch. 11 # 27
第28页/共29页
感谢您的观看。
华大微电子:模拟集成电路原理

cmos模拟集成电路设计_实验报告概论

cmos模拟集成电路设计_实验报告概论

北京邮电大学实验报告实验题目:cmos模拟集成电路实验姓名:何明枢班级:2013211207班内序号:19学号:2013211007指导老师:韩可日期:2016 年 1 月16 日星期六北京邮电大学电子工程学院2013211207班何明枢CMOS模拟集成电路与设计实验报告目录实验一:共源级放大器性能分析 (1)一、实验目的 (1)二、实验内容 (1)三、实验结果 (1)四、实验结果分析 (3)实验二:差分放大器设计 (4)一、实验目的 (4)二、实验要求 (4)三、实验原理 (4)四、实验结果 (5)五、思考题 (6)实验三:电流源负载差分放大器设计 (7)一、实验目的 (7)二、实验内容 (7)三、差分放大器的设计方法 (7)四、实验原理 (7)五、实验结果 (9)六、实验分析 (10)实验五:共源共栅电流镜设计 (11)一、实验目的 (11)二、实验题目及要求 (11)三、实验内容 (11)四、实验原理 (11)五、实验结果 (15)六、电路工作状态分析 (15)实验六:两级运算放大器设计 (17)一、实验目的 (17)二、实验要求 (17)三、实验内容 (17)四、实验原理 (21)五、实验结果 (23)六、思考题 (24)七、实验结果分析 (24)实验总结与体会 (26)一、实验中遇到的的问题 (26)二、实验体会 (26)三、对课程的一些建议 (27)实验一:共源级放大器性能分析一、实验目的1、掌握synopsys软件启动和电路原理图(schematic)设计输入方法;2、掌握使用synopsys电路仿真软件custom designer对原理图进行电路特性仿真;3、输入共源级放大器电路并对其进行DC、AC分析,绘制曲线;4、深入理解共源级放大器的工作原理以及mos管参数的改变对放大器性能的影响二、实验内容1、启动synopsys,建立库及Cellview文件。

2、输入共源级放大器电路图。

模拟CMOS集成电路设计(拉扎维)第5章无源和有源电流镜PPT课件

模拟CMOS集成电路设计(拉扎维)第5章无源和有源电流镜PPT课件
基于IREF,“复制”产生所需各电流
常转用换复为制电方流法是先把IREF转换为电压,在由该电压
西电微电子学院-董刚-模拟集成电路设计
77
基本电流镜-等量复制
镜面
基本电流镜
I REF
=
n C ox
W (VGS
VTH ) 2
2L
I out = ff 1( I REF ) = I REF
I REF = f (VGS )
模拟集成电路原理
第5章 无源与有源电流镜
11
本讲 电流镜
基本电流镜
共源共栅电流镜
有源电流镜
电流镜做负载的差分放大器
大信号特性 小信号特性 共模特性
西电微电子学院-董刚-模拟集成电路设计
22
明确几个概念
电流源
Current source
电流沉
Current sink
电流镜
Current Mirror
西电微电子学院-董刚-模拟集成电路设计
55
基于电阻分压的电流源
电流值对工艺、电源、温度等变 化敏感
不同芯片阈值偏差可达100mV n 、VTH随温度变化
输出电压范围
大于M1管的VOV即可
为了输出电压范围较大,VOV取 典型值200mV
若VTH改变50mV,则IOUT改变44%
I OUT n Cox W ( R2 VDD
L L eff 2
drawn2
2LD= Ldrawn1 Leff 1= Ldrawn1 2LD Ldrawn1 2LD L L drawn2 eff 2 Ldrawn2 2LD Ldrawn2
结论: 取L1=L2,便于 获得期望的精确
电流值
西电微电子学院-董刚-模拟集成电路设计

模拟CMOS集成电路设计 拉扎维 ——复旦大学课件

模拟CMOS集成电路设计 拉扎维 ——复旦大学课件

参杂半导体
• 掺入三家获五价原子,提供一个载流子。
• N型:掺入五价元素,如磷(P)、砷(As),
提供一个电子,电子导电。
若:ND 是参杂浓度,D代表施主浓度 多子(电子)浓度: nn = ND
少子(空穴)浓度:
Pn
=
n
2 i
/
ND
• P型:掺入三价元素,如硼(B),
提供一个空穴,空穴导电。
若:NA 是参杂浓度,A代表施主浓度 多子(空穴)浓度: Pp = NA
参数化模块/单元 layout
宏模型 Matlab…
器件
器件特性
版图描述 design rule
器件模型 spice model
模拟集成电路的应用
• 模拟电路本质上是不可替代的
– 自然界是“模拟”的
• 集成传感器、显示驱动 • 模数和数模转换
– 数字信号经过传输后à模拟信号
• 无线和有线通讯 • 磁盘驱动
单极点低通Gm-C滤波器
Gm由偏置电流或电压确定,易受工艺、温度和电源 电压变化的影响
磁盘驱动器中的模块电路(2)
• 模数转换器(ADC)
– 6位ADC, – 由VCO提供采样时钟。采样频率由数字时钟恢复电路控
制。 – 偏移控制:采集63个比较器的失调电压,反馈到输入
端,抵消由此引起的失真。
• 数字信号处理
dQn dVR
=
ε 0ε si 2 ΦB
qN D + VR
1
2
=
Cj0
1
1
+
VR ΦB
2
C j0
=
ε
0ε si qN 2Φ B
D
2
= ε0εsi xn

cmos模拟集成电路设计-实验报告

cmos模拟集成电路设计-实验报告

cmos模拟集成电路设计-实验报告————————————————————————————————作者:————————————————————————————————日期:北京邮电大学实验报告实验题目:cmos模拟集成电路实验姓名:何明枢班级:2013211207班内序号:19学号:2013211007指导老师:韩可日期:2016 年 1 月16 日星期六目录实验一:共源级放大器性能分析 (1)一、实验目的 (1)二、实验内容 (1)三、实验结果 (1)四、实验结果分析 (3)实验二:差分放大器设计 (4)一、实验目的 (4)二、实验要求 (4)三、实验原理 (4)四、实验结果 (5)五、思考题 (6)实验三:电流源负载差分放大器设计 (7)一、实验目的 (7)二、实验内容 (7)三、差分放大器的设计方法 (7)四、实验原理 (7)五、实验结果 (9)六、实验分析 (10)实验五:共源共栅电流镜设计 (11)一、实验目的 (11)二、实验题目及要求 (11)三、实验内容 (11)四、实验原理 (11)五、实验结果 (15)六、电路工作状态分析 (15)实验六:两级运算放大器设计 (17)一、实验目的 (17)二、实验要求 (17)三、实验内容 (17)四、实验原理 (21)五、实验结果 (23)六、思考题 (24)七、实验结果分析 (24)实验总结与体会 (26)一、实验中遇到的的问题 (26)二、实验体会 (26)三、对课程的一些建议 (27)实验一:共源级放大器性能分析一、实验目的1、掌握synopsys软件启动和电路原理图(schematic)设计输入方法;2、掌握使用synopsys电路仿真软件custom designer对原理图进行电路特性仿真;3、输入共源级放大器电路并对其进行DC、AC分析,绘制曲线;4、深入理解共源级放大器的工作原理以及mos管参数的改变对放大器性能的影响二、实验内容1、启动synopsys,建立库及Cellview文件。

拉扎维《模拟集成电路设计》第二版课件 Ch5

拉扎维《模拟集成电路设计》第二版课件 Ch5

8
First Approach
• A cascode device can shield a current source, thereby reducing the voltage variations across it. • But, how do we ensure that VDS2 = VDS1? • We must generate Vb such that Vb - VGS3 = VDS1(= VGS1)
6
Example
• Calculate the small-signal voltage gain of the circuit shown in Figure.
• Gain=
7
Copyright © 2017 McGraw-Hill Education. All rights reserved. No reproduction or distribution without the prior written consent of McGraw-Hill Education.
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拉扎维的《AnalogCMOS集成电路设计》学习感受

拉扎维的《AnalogCMOS集成电路设计》学习感受

拉扎维的《AnalogCMOS集成电路设计》学习感受从学校微电子专业毕业,工作已经五年了。

最近终于完完整整地看完一遍拉扎维的《Design of Analog CMOS integrated circuits》。

在此记一下学习本书的感受和心得。

1、《Analog CMOS集成电路设计》是一本很好的集成电路设计入门的书籍。

其中涉及到许多的背景知识,随着读者的水平不一,看到的层次不一。

有些第一次看没感受,多看几次会有感受;有些在经历相关工作前看没觉得,但有工作经验之后看有新的体会;还有一些,你看了之后会去查找相关的专业知识来进行补充。

第一章《绪论》讲述了模拟设计的应用场合,设计挑战及要求(如鲁棒性、PVT)。

第二章《MOS器件物理基础》是全书的基础,推导出器件的电流公式Id及跨导公式gm,后面的设计都紧紧围绕着两个公式展开。

后面的习题对了解MOS管的行为,提升设计的直觉有很大的帮助。

第三章《单级放大器》基于MOS的三个端子讲述了三种单级放大器:共源级、共栅极、共漏级(源跟随);和一种组合:共源共栅。

其中例3.10涉及到50ohm高速传输线知识和实际的相关设计比较。

第四章《差动放大器》,描述了差动对信号具有抗噪声的优点(还有EMI降低),及差动对的分析、共模抑制比、吉尔伯特单元等。

第五章《电流镜》,分析了电流镜的特点和在差动电路中的应用。

第六章《放大器的频率特性》,介绍了密勒效应,每一级的极点的计算和评估。

这章开始涉及频率响应。

第七章《噪声》,介绍了IC中的各种噪声:热噪声4kTR(4kTrgm)、闪烁噪声(1/f噪声)K/(CoxWLf).给出了多种电路的主要噪声的谱和RMS计算,相应的低噪声的要求和特征。

第八章《反馈》,系统地描叙了反馈的结构,种类(V-V,V-I,I-I,I-I),环路增益计算,负反馈对电路性能带来的改变(增益灵敏度降低、阻抗有益改变、带宽增加,非线性减少)。

第九章《运算放大器》介绍运放中的一系列技术,最主要的事套筒式和折叠式;单级和多级运放,共模反馈,Rail-Rail介绍,大信号的转换速率slewing rate响应,电源抑制,注意Vdd至Vout约为1。

拉扎维模拟CMOS集成电路设计(前十章全部课件)

拉扎维模拟CMOS集成电路设计(前十章全部课件)
Cox:单位面积栅氧化层电容


Φ MS:多晶硅栅与硅衬底功函数之差 Qdep耗尽区的电荷,是衬源电压VBS的函数
模拟集成电路设计绪论 Ch. 1 # 23
重邮光电工程学院
MOS管的开启电压VT及体效应
VTH VTH0 2F VSB 2 F ,
2qsiNsub Cox
(a)自然界信号的数字化 ( b)增加放大器和滤波器以提高灵敏度
模拟集成电路设计绪论 Ch.1# 3
重邮光电工程学院
数字通信
数字信号通过有损电缆的衰减和失真
失真信号需放大、滤波和数字化后才再处理
模拟集成电路设计绪论 Ch.1# 4
重邮光电工程学院
数字通信
1 0
11
10 01
00
使用多电平信号以减小所需的带宽 组合二进制数据 DAC 多电平信号 ADC 确定所传送电平
模拟集成电路设计绪论 Ch. 1 # 4
重邮光电工程学院
MOS器件符号
MOS管等效于一个开关!
模拟集成电路设计绪论 Ch. 1 # 5
重邮光电工程学院
MOS器件的阈值电压VTN(P)
(a)栅压控制的MOSFET
(c)反型的开始
(b)耗尽区的形成
(d)反型层的形成
模拟集成电路设计绪论 Ch. 1 # 6
源极跟随器
无体效应
有体效应
模拟集成电路设计绪论 Ch. 1 # 24
重邮光电工程学院
MOSFET的沟道调制效应
模拟集成电路设计绪论 Ch. 1 # 25
重邮光电工程学院
MOSFET的沟道调制效应
L
L’
L' L L 1 1/ L' (1 L / L) L 1 1/ L' (1 V DS ), VDS L / L L nCox W ID (VGS VTH )2 (1 VDS) 2 L

第五章无源与有源电流镜

第五章无源与有源电流镜

基本共源共栅电流镜摆幅损失的原因
分析基本共源共栅电流镜输出 摆幅损失了一个阈值电压VT的 原因不难发现: 由于M3退出饱 和时VB基本不变, 故为使: VXmin=Von3+Von2 必须使M2在正常工作时VB≈Von2(1), 由于VA=VB, 也即VA≈Von2(1), 然而在基本共源共栅镜中 VA=VGS1=Von1+VT, 显然, 为减小基本共源共栅电 流镜输出摆幅的损失必须减小VA的大小。
ID1 ID3 ID4 gm1,2Vin/2
ID2 gm1,2Vin/2
Iout ID2 ID4 gm1,2Vin , Gm gm1,2
无源与有源电流镜 Ch. 5 # 17
近似计算 Rout
1:1镜象到M4从 VX抽取的电流
IX
RXY从VX抽取的电流
2
VX
VX
2ro1,21/gm3 ro4
Rout ro2||ro4 , (2ro1,2 [1/gm3]||ro3)
Av gm1,(2 ro2||ro4)
无源与有源电流镜 Ch. 5 # 18
如何求有源负载差动对的小信号增益?
在有源负载的基本差分对中, 因电路实际上不是完全对称,P 点如果不看作是虚地呢,我们 用戴维南定理来求其小信号增 益。
=
V3 Vin
I1 ≈
1 gm3(4) Vin
=
g r m1(2) 01(2) 2gm3(4)(r01(2) + r03(4))
I1 ≈IX
=
V0 - Veq Req
=
gm1(2)(r01(2)//r03(4) - r01(2))Vin 2r01(2)
g r V m1(2) 01(2) in 2(r01(2) + r03(4))
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若VTH改变50mV,则IOUT改变44%
I OUT n Cox W ( R2 VDD
2 L R2 + R1
VTH ) 2确评、价稳:定电,流很值难无实法用精
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6
基于基准电流的电流源-原理
IREF
基准电流 由专门的电路来产生,如带隙基准源等(第11 章),是一个重要、活跃的研究领域 基准电流的电流值精确、稳定(对电源电压、工艺 偏差、温度变化等不敏感)
DW I REF DW
通过多个单元晶体管 = m(Wcell DW )I REF = m I REF
并联实现M1和M2
n(Wcell DW )
n
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15
电流镜中晶体管的W的取值方法
I out = Weff 2 I REF= m(Wcell
DW
) I
REF
m =
I REF
(VGS1 VTH1) 4 p (W / L)2
4 VSG2=1.2V。若VDD=3.3V,则
Vout不能大于2.1V
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12
电流镜中晶体管的L通常设计为相同
I out =
(W / L ) 2I REF (W / L )1
为什么取 L1=L2?
Iout = (Weff / Leff )2 IREF =Weff 2 Leff 1 IREF
(Weff / Leff )1
W L eff 1 eff 2
横向扩散和场 氧化层侵蚀会
使Leff drawn、 Weff drawn
L eff = L drawn DL Weff = Wdrawn
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DW
13
电流镜中晶体管的L通常设计为相同
I out = (Weff / Leff ) 2 I REF= Weff 2 Leff 1 I REF
Current sink
电流镜
Current Mirror
无源电流镜
Passive Current Mirror 用做产生直流偏置电流时
有源电流镜
Active Current Mirror 象有源器件一样用作小信号处理时
“有源/无源电流镜”概念仅在Razavi书中出现
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结论: 取L1=L2,便于 获得期望的精确
电流值
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14
电流镜中晶体管的W的取值方法
I
out
=
Weff 2 Weff 1
Leff 1 Leff 2
I
REF
=Weff 2 Weff 1
I
REF于电W流之复间制的精比度值取决
当W1=W2时
当W1 2时
Weff 1 = Wdrawn 1
(Weff / Leff )1
W L eff 1 eff 2
当L1=L2时
当L1 2时
Leff 1 = Ldrawn1
L L eff 2
drawn2
2LD= Ldrawn1 Leff 1= Ldrawn1 2LD Ldrawn1 2LD L L drawn2 eff 2 Ldrawn2 2LD Ldrawn2
Weff 1
n(Wcell DW )
n
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2 n C ox
W L
ID
Av=
g m1 = g m2
4 n (W / L ) 1 p (W / L ) 2
W
W
n ( )1 (VGS 1 VTH 1 ) 2 4 p ( ) 2 (VGS 2 VTH 2 ) 2
L
L
| VGS2
VTH2 |
n (W / L)1
若要求Av=-10,当
Av VOV1=200mV、VTH=0.7V时,
基于IREF,“复制”产生所需各电流
常转用换复为制电方流法是先把IREF转换为电压,在由该电压
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7
基本电流镜-等量复制
镜面
基本电流镜
I REF
=
n C ox
W (VGS
VTH ) 2
2L
I out = ff 1( I REF ) = I REF
I REF = f (VGS )
3
本讲 电流镜
基本电流镜
共源共栅电流镜
有源电流镜
电流镜做负载的差分放大器
大信号特性 小信号特性 共模特性
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4
基于电阻分压的电流源
电流值对工艺、电源、温度等变 化敏感
不同芯片阈值偏差可达100mV n 、VTH随温度变化
输出电压范围
大于M1管的VOV即可
为了输出电压范围较大,VOV取 典型值200mV
模拟集成电路原理
第5章 无源与有源电流镜
董刚 gdong@
微电子学院
1
本讲 电流镜
基本电流镜
共源共栅电流镜
有源电流镜
电流镜做负载的差分放大器
大信号特性 小信号特性 共模特性
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2
明确几个概念
电流源
Current source
电流沉
高输出摆幅、高增益的二极管接法MOS管做负 载的差分放大器
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10
高输出摆幅的差分放大器
见教材P104,图4.33
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11
单级共源放大器
提高输出摆幅
M1管偏置在饱和区,漏电流为I1, IS=0.75I1
I D2
=
I D1 4
gm =
VGS = f (1 I REF )
忽略了λ的影响(会影响复制精度) Iout也可以不等于IREF
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8
基本电流镜-比例复制
I REF
=
n C ox(
W )1 (VGS
VTH ) 2
2L
I out
=
n C ox(
W ) 2 (VGS
VTH )2
2L
设计者通过合理设计 M1和M2管的尺寸比, 即可获得期望的电流
I out = (W / L ) 2 I REF (W / L )1
若IREF精准、稳定,合理设计M1管和M2管的尺寸和位
置,使它们的VTH、μn、COX等工艺参数匹配度高、W/L
比值在一定精度内,则可获得一定精度且稳定的Iout
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9
基本电流镜在差分放大器中的应用
W W eff 2
drawn 2
DW =Wdrawn 1 DW Wdrawn 2
Weff 1 Wdrawn 1
Hale Waihona Puke W W eff 2drawn 2
取WWdradwrna2w=nn1=×mW×cWell,cell,I
m、n为整数
out
=Weff 2 Weff 1
I
REF
=Wdrawn 2 Wdrawn1
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