世界顶尖流化床品牌-Glatt实验室流化床

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制粒工艺
湿法制粒 – 摇摆式制粒
✓ – 流化床制粒 ✓ – 高速混合制粒 干法制粒
熔融制粒
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流化床底喷技术
底喷装置也成为Wurster系统, 由Dale Wuster教授研制,是 包衣技术的一次重要突破,使 对小粒径物料的包衣成为可能。 随着技术的发展,已经可以对 小至 50 µm 的粉末进行包衣。
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多功能流化床工艺装置2 - 底喷装置(Wurster系统)
隔圈
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物料槽
喷枪
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进风
空气分配板
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底喷装置
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流化床底喷(Wurster)包衣的特点:
1. 物料有序的循环运动, 接触到包衣液的几率相同, 有利于包衣的均匀性。
流化床技术简介
设备发展趋势 规格齐全:批处理能力从 2.5g 到大于 1 吨 控制系统:生产工艺的全自动化控制 物料传递:从进料至出料的全密闭、
无尘化操作 清洗工艺:在位自动清洁(CIP) 工艺灵活:与其他设备结合形成制粒
流水线,两种制粒工艺
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实验型流化床设备
流化床技术的基本特征: 比较高的干燥效率
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流化床技术简介
70 年代以来,流化床技术和喷枪技术相结合,应用上有 很大的突破,广泛应用于制粒、包衣、微丸制备等工艺, 主要用于制药、食品、化工、陶来自百度文库等行业。
流化床类型
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顶喷 底喷
切线喷
制粒 包衣
制微丸
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Glatt 的高速Wurster系统
Wurster HS: 采用新型的喷枪, 雾化能力增强, 喷液速度
是普通Wurster系统的3 - 4倍
喷枪的夹套设计 - 避免物料接触到未充分雾化的包衣液滴 - 避免物料接触喷嘴的负压区域 - 避免物料接触压缩空气高速区域
一步制粒 • 减少粉尘 • 提高流动性 • 提高可压性 • 改变堆密度 • 提高崩解,促进溶出
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流化床顶喷制粒原理: 粘合剂搭桥作用使粉末聚集形成颗粒
喷液
润湿
干燥
粉末聚集体
粘合剂 液滴
物料 粉末
形成液桥
形成固桥
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颗粒
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颗粒特性
流动性好,粒径较小且均匀, 有利于:
片剂包衣 ( 3 - 10mm )
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包衣的基本过程:小块衣膜的重复包裹
包衣喷液
铺展
干燥
包衣 微丸 液滴
形成 小块衣膜
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衣膜厚度 稳定增加
包衣微丸
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Figure 1: W a ter so lu b le su b stra te co a ted wi th a heat sensi tive pol y mer, applied aqueously.
Glatt实验设备的介绍
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实验设备介绍
流化床 高速混合制粒机 高速整粒机 高效包衣锅
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流化床技术简介
流化床技术是 50 年代发展起来的,最初设计只是用作 干燥设备,以提高干燥效率。
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德国Glatt公司1959年制造的 全世界第一台用于制药工业的流化床
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流化床切线喷技术
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流化床切线喷技术的应用 1 粉末上药工艺
适用于: 药物剂量大 药物在介质中不稳定 制备较低密度的载药微丸
包衣
具有和底喷系统几乎同样的包衣优点, 因此可以包出高质量的衣膜
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粉末上药工艺
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流化床顶喷技术的应用 2
热熔融包衣 •掩味 • 防潮及抗氧化 •缓释
特点: 工艺周期短
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An Examp顶le...喷热熔融包衣
未包衣颗粒
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30% 包衣增重 Compritol 888
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多功能流化床工艺装置1-顶喷装置
喷枪
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物料槽
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进风
底部筛网
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流化床顶喷技术
顶喷装置由锥型物 料槽和扩展室组成 物料自下而上、自 上而下形成流化运动 喷枪喷液使物料均匀 接触到浆液
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流化床顶喷技术的应用 1
减小重量差异 片剂表面的光洁度
密度较低,颗粒内部孔隙率较高 有利于:
干燥 提高可压性 制速溶颗粒
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流化床顶喷技术的应用 1
一步制粒:
• 适用于大多数处方, 微晶纤维素和乳糖是比较好的 颗粒成型辅料, 原辅料粒径尽量小
• 粘合剂: HPMC或PVP溶液 • 低剂量药物( 如小于1 mg ) • 中药制粒(片剂、颗粒剂)
Glatt公司1992年研制,用于生产型流化床 USP专利号:5,437,889
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皮肌炎图片——皮肌炎的症状表现
皮肌炎是一种引起皮肤、肌肉 、心、肺、肾等多脏器严重损害 的,全身性疾病,而且不少患者 同时伴有恶性肿瘤。它的1症状表 现如下:
1、早期皮肌炎患者,还往往伴 有全身不适症状,如-全身肌肉酸 痛,软弱无力,上楼梯时感觉两 腿费力;举手梳理头发时,举高 手臂很吃力;抬头转头缓慢而费 力。
Mini-Glatt / Micro-kit Midi-Glatt GPCG 2
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流化床设备的构造
出风处理系统
流化床机身
喷液系统
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进风处理系统
控制系统
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Glatt多功能流化床的工艺装置
顶喷
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底喷
切线喷
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Glatt多功能流化床的工艺装置
2. 同向喷液, 喷液方向与物料运动方向相同 3. 喷枪与物料间距离短, 有利于形成致密的衣膜
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流化床底喷技术
微丸包衣
丸芯上药(溶液 / 混悬液) 胃溶 / 肠溶 / 缓释包衣
颗粒 / 药物结晶包衣
粉末包衣(50 - 200 µm)
掩盖苦味(口崩片/分散片/颗粒剂) 提高稳定性 缓释混悬剂
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