Rena 前后清洗工艺培训教材.ppt
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rena清洗制绒设备培训
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Operation modes of the machine / 机器的操作模式 1.Mode Off / Off 模式 The background color of the status display is blue. The module is switched off and no outputs are switched on./该模式下状态的背景颜色是蓝 色，所有模块是关闭的，没有任何输出。 2. Mode Manual / 手动模式 The background color of the status display is yellow. The module is in the manual mode. /该模式下状态的背景颜色是黄色，模块处 于手动模式。 3.Mode Service / 维护模式 The background color of the status display is red. The module is in the service mode. /该模式下状态的背景颜色是红色，模块处 于维护模式。 4.Mode Auto / 自动模式 The background color of the status display is green . The module is in the automatic operation mode. /该模式下状态的背景颜色是绿色，模块处于自 动模式。
Software interface of RENA InTex RENA InTex 的软件界面
Software interface of RENA InOxSide RENA InOxSide 的软件界面
Status boxes and info box 状态框和信息框
RENA前后清洗
三、RENA Intex前清洗（酸制绒）工艺
RENA清洗设备 注：前、后清洗设备外观相同，内部构造和作用原理稍有不同
1.RENA前清洗工序的目的：
去除硅片表面的机械损伤层（来自硅棒切割的物理损伤） 清除表面油污（利用HF）和金属杂质（利用HCl） 形成起伏不平的绒面，增加对太阳光的吸收，增加PN结 面积，提高短路电流（Isc），最终提高电池光电转换效率。
3. 酸制绒工艺涉及的反应方程式:
HNO3+Si=SiO2+NOx↑+H2O SiO2+ 4HF=SiF4+2H2O SiF4+2HF=H2[SiF6] Si+2KOH+H2O →K2SiO3 +2H2 NO2 + H2O = HNO3 + HNO2 Si + HNO2 = SiO2 + NO +H2O HNO3 + NO + H2O = HNO2
3.放测量片时，把握均衡原则。如第一批放在1.3.5.7道，下一批则 放在2.4.6.8道，便于检测设备稳定性以及溶液的均匀性。
刻蚀槽液面的注意事项： 正常情况下液面均处于绿色，如果一旦在流片过程中颜色改变，立 即通知工艺人员。
产线上没有充足的片源时，工艺要求: 1.停机1小时以上，要将刻蚀槽的药液排到tank，减少药液的挥发。 2.停机15分钟以上要用水枪冲洗碱槽喷淋及风刀，以防酸碱形成的 结晶盐堵塞喷淋口及风刀。 3.停机1h以上，要跑假片，至少一批（400片）且要在生产前半小时 用水枪冲洗风刀处的滚轮，杜绝制绒后的片子有滚轮印。
腐蚀深度与电性能间的关系
在绒面硅片上制成PN结太阳电池，它有以下特点:
(l)绒面电池比光面电池的反射损失小，如果再加减反射膜，其反射率可进
清洗工序培训课件教材
清洗工序培训课件一、清洗的定义二、清洗的流程三、清洗材料及工具四、清洗案例分析五、清洗人的素养六、总结一、清洗的定义词性动词近义词冲洗、洗刷、洗涤、洗濯◎清洗(1) 洗净(2) 清除物体表面受到物理、化学或生物的作用而形成的污染层或覆盖层称作污垢，去除这些污染物或覆盖层而使其恢复原表面状况的过程称为清洗。
清洗是采用一种化学药剂清除物体表面污垢的方法，它是借助清洗剂表面污染物或覆盖层进行化学转化、溶解、剥离以达到脱脂、除锈和去污的效果。
二、清洗的流程清洗是包拯修复中心的重要一个环节修复中心入库清洗本身也是好多步骤环环相扣的1从待清洗放置区取包2看流程单、手机扫码认领，检查包的附件是否齐全，包身有无破损、老化，异常脏污及染色3用气枪吹去除大小所有口袋及缝补接缝处的灰尘、颗粒物、纸屑等杂物。
注意：内衬、包身老化、丝线、容易吹坏，气枪应远离包身及内衬。
4重点脏污预处理，笔油、胶渍、口香糖。
5清洗包口拉链布条及周围金属件。
6包身皮子清洗7挂起晾干8收好附件，填写流程单。
9放到清洗待质检区。
三、清洗材料及工具皮革介绍皮革是经脱毛和鞣制等物理、化学加工所得到的已经变性不易腐烂的动物皮。
皮是指皮胶原纤维仍处于其在动物身体上时的状态（指化学结构，未经任何处理）；革是指将动物皮经过物理及化学处理，除去了皮中无用的成分，并使皮的胶原纤维的化学结构发生变化而不同于其在动物体上时的状态。
革干燥状态柔软易曲，潮湿状态也不易腐烂。
皮是制革的原料，革是由皮制成的。
现在所说的“皮革”是一个固定名词，指的是经过化学处理过的“革”。
现在有人把天然皮革简称“皮”，非天然皮革简称“革”，是为了区分天然和合成皮革。
按照动物种类来分类:牛皮、马皮、山羊皮、鹿皮、猪皮是最常见的动物皮革。
同种动物皮革也会因为性别、年龄、鞣制方法二有不同的质地与名称。
还有鸵鸟，蟒蛇，鳄鱼等皮。
人造革是一种外观、手感似皮革并可代替其使用的塑料制品。
通常以织物为底基，涂覆合成树脂及各种塑料添加制成。
RENA前后清洗工艺培训教材(PPT 65页)
前清洗到扩散的产品时间: 最长不能超过4小时,时间过长硅片会污染氧化，到扩散污染炉管,从 而影响后面的电性能及效率
工艺卫生
二、RENA InOxSide后清洗工艺培训
后清洗的目的与原理
扩散过程中，虽然采用背靠背扩散，硅片的边缘将不可避免地扩 散上磷。PN结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域 流到PN结的背面，而造成短路。此短路通道等效于降低并联电阻。
当药液寿命（ Bath lifetime ）到后，需更换整槽药液。
HF酸槽的作用： 1.中和前道碱洗后残留在硅片表面的碱液； 2.去PSG 3.脱水 Rinse 1~3为水洗槽； Dryer 2为风刀；
滚轮分三段设定速度，可根据实际情况对滚轮速度进行修正。 基本的工艺调整原则、设备维护内容，注意事项都同于前清洗设备。
刻蚀槽的作用：
边缘刻蚀，除去边缘PN结，使电流朝同一方向流动。
Alkaline Rinse：碱洗槽 。 所用溶液为KOH，主要工艺参数： Firstfill concentration of chemical:5%; Bath lifetime:250hours; Bath processtemperature:20±10 ℃ 当药液寿命（ Bath lifetime ）到后，需更换整槽药液。
刻蚀槽液面的注意事项： 正常情况下液面均处于绿色，如果一旦在流片过程中颜色改变，立 即通知工艺人员。
产线上没有充足的片源时，工艺要求: 1.停机1小时以上，要将刻蚀槽的药液排到tank，减少药液的挥发。 2.停机15分钟以上要用水枪冲洗碱槽喷淋及风刀，以防酸碱形成的 结晶盐堵塞喷淋口及风刀。 3.停机1h以上，要跑假片，至少一批（400片）且要在生产前半小时 用水枪冲洗风刀处的滚轮，杜绝制绒后的片子有滚轮印。
工艺卫生
二、RENA InOxSide后清洗工艺培训
后清洗的目的与原理
扩散过程中，虽然采用背靠背扩散，硅片的边缘将不可避免地扩 散上磷。PN结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域 流到PN结的背面，而造成短路。此短路通道等效于降低并联电阻。
当药液寿命（ Bath lifetime ）到后，需更换整槽药液。
HF酸槽的作用： 1.中和前道碱洗后残留在硅片表面的碱液； 2.去PSG 3.脱水 Rinse 1~3为水洗槽； Dryer 2为风刀；
滚轮分三段设定速度，可根据实际情况对滚轮速度进行修正。 基本的工艺调整原则、设备维护内容，注意事项都同于前清洗设备。
刻蚀槽的作用：
边缘刻蚀，除去边缘PN结，使电流朝同一方向流动。
Alkaline Rinse：碱洗槽 。 所用溶液为KOH，主要工艺参数： Firstfill concentration of chemical:5%; Bath lifetime:250hours; Bath processtemperature:20±10 ℃ 当药液寿命（ Bath lifetime ）到后，需更换整槽药液。
刻蚀槽液面的注意事项： 正常情况下液面均处于绿色，如果一旦在流片过程中颜色改变，立 即通知工艺人员。
产线上没有充足的片源时，工艺要求: 1.停机1小时以上，要将刻蚀槽的药液排到tank，减少药液的挥发。 2.停机15分钟以上要用水枪冲洗碱槽喷淋及风刀，以防酸碱形成的 结晶盐堵塞喷淋口及风刀。 3.停机1h以上，要跑假片，至少一批（400片）且要在生产前半小时 用水枪冲洗风刀处的滚轮，杜绝制绒后的片子有滚轮印。
RENA设备培训教材
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2．F8 Rinse1：水清洗1。下图是在自动状态下 抓拍的。 • • • • • • • 2.1 Mode man：手 动操作模式 2.2 Fill DI： 充水 2.3 Draining: 排放 2.4 Star process: 循环开始 2.5 Stop :停止 2.6 Auto：自动模式 充水时注意，是先 从Rinse 3充，然后 通过溢流管道到 Rinse 2，再到 Rinse 1.
调用补液模式下的子菜单
调用温度曲线下的子菜单 调用过程监控下的子菜单 调用诊断模式下的子菜单 关闭报警声音 调出报警详情和提示
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F9 service服务模式： 1.F9 inputs digital 数字量输入
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2.F8 inputs analog 模拟量输入
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3.F7 outputs digital 数字量输出
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3. F7 Alkaline: 碱槽
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Mode Manual 手动模式 Filling Di 充纯 水 Filling chemie 充碱液 Rinsing 水清 洗 Draining 排放 Star circulation 循环启动 Star Etching 刻蚀开始（当有 片子走过时， RENA会自动按 照设定值补液） Stop 停止 Mode Auto 自 动模式
密码：Administrator 密码：process 密码：service
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功能键介绍
Mode off 轻易不要点，模式关闭后，药液会自动排掉
•
模式关闭
。
• • •
手动模式 服务模式 自动模式
制绒工艺培训
Etch bath Rinse1 Alkaline Rinse
Rinse2
Acidic Rinse
Rinse3
Dryer2
主操作界面
详细说明
程序内 的日期 和时间 模式、与PLC的 连接情况及登陆 的用户名 灯塔状 态 机器名称 厂家名称
报警的详细信息
登陆按扭
详细说明
机器的三种报警:严重的问题、机器本 身的问题和一般的警报
初始配槽时HF和水的体积
RENISE3功能 功能
RENISE3功能 功能
MODE MAN&MODE AUTO----自动运行时单个槽的 自动手动切换 FILLING DI----给槽内加纯水（RENISE2的水是 RENISE3槽的水溢流过来的） DRAINING----整个槽排液 START PROCESS----在手动模式下单个槽运行工艺 STOP----结束操作
RENA InOxSide设备构造
RENA InOxSide工艺步骤：边缘刻蚀 碱洗 →酸洗 吹干 工艺步骤： 酸洗→吹干 工艺步骤 边缘刻蚀→碱洗 酸洗 RENA InOxSide后清洗设备的主体分为以下七个槽，此外还有滚轮、 后清洗设备的主体分为以下七个槽，此外还有滚轮、 后清洗设备的主体分为以下七个槽 排风系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。 排风系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。
5 关于刻蚀槽flow（流量）报警 出现此类报警时，工艺人员需检查是否有碎片堵住药液入口。如 有碎片需取出后，将药液打入tank混匀溶液后重新将药液打入bath 中。如果流量不稳定报警，需要求设备人员检查相应传感器 6 关于overfilled（溶液过满）报警 出现此类报警时，工艺人员需要求设备检查液位传感器是否正常 工作。如果确实过满，则需要手动排掉部分药液，直到达到生产液 位要求。 7 关于 tank empty（储药罐空）报警 出现此类报警时，说明外围相应储药罐中的药品已空，需及时通 知外围人员添加药液。 8 关于 valve blocked（阀门被堵）报警 出现此类报警时，则有阀门被堵，必须立即通知设备人员处理。
Rinse2
Acidic Rinse
Rinse3
Dryer2
主操作界面
详细说明
程序内 的日期 和时间 模式、与PLC的 连接情况及登陆 的用户名 灯塔状 态 机器名称 厂家名称
报警的详细信息
登陆按扭
详细说明
机器的三种报警:严重的问题、机器本 身的问题和一般的警报
初始配槽时HF和水的体积
RENISE3功能 功能
RENISE3功能 功能
MODE MAN&MODE AUTO----自动运行时单个槽的 自动手动切换 FILLING DI----给槽内加纯水（RENISE2的水是 RENISE3槽的水溢流过来的） DRAINING----整个槽排液 START PROCESS----在手动模式下单个槽运行工艺 STOP----结束操作
RENA InOxSide设备构造
RENA InOxSide工艺步骤：边缘刻蚀 碱洗 →酸洗 吹干 工艺步骤： 酸洗→吹干 工艺步骤 边缘刻蚀→碱洗 酸洗 RENA InOxSide后清洗设备的主体分为以下七个槽，此外还有滚轮、 后清洗设备的主体分为以下七个槽，此外还有滚轮、 后清洗设备的主体分为以下七个槽 排风系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。 排风系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。
5 关于刻蚀槽flow（流量）报警 出现此类报警时，工艺人员需检查是否有碎片堵住药液入口。如 有碎片需取出后，将药液打入tank混匀溶液后重新将药液打入bath 中。如果流量不稳定报警，需要求设备人员检查相应传感器 6 关于overfilled（溶液过满）报警 出现此类报警时，工艺人员需要求设备检查液位传感器是否正常 工作。如果确实过满，则需要手动排掉部分药液，直到达到生产液 位要求。 7 关于 tank empty（储药罐空）报警 出现此类报警时，说明外围相应储药罐中的药品已空，需及时通 知外围人员添加药液。 8 关于 valve blocked（阀门被堵）报警 出现此类报警时，则有阀门被堵，必须立即通知设备人员处理。
rena技术员培训-精选文档
DI water
1.3.2 InOxSIde操作系统主界面
KOH DI water
蚀刻槽 HF+HNO3+H2SO4+DI
HF
CDA
DI water
1.3.3 RENA主界面详细说明
程序内 的日期 和时间 模式、与PLC的 连接情况及登陆 的用户名
灯塔状 态
机器名称
目 的 ：
a）去除硅片表面的磷硅玻璃；b）去掉硅片背面及
周边p-n结。
1.2.2 工作流程
Intex
上料台 制绒槽 吹 干 漂洗 1# 碱 洗
下料台
干 燥
漂洗 3#
酸 洗
漂洗 2#
InOxSide
上料台 刻蚀槽 漂洗 1# 碱 洗 漂洗 2#
下料台
干 燥
漂洗 3#
酸 洗
1.2.3 RENA一次清洗工艺
1.1.1 RENA整机
1.1.1 RENA整机
注：公司一般会根据需要在RENA前后加装上料台、下料台用来代替人工手工放片。 在下料台也会安装吸片装置，用以挑出损坏，破碎的片子。
6
1.1.2 冷却器
1.1.3 电控柜外部
1.1.4 电控柜内部
1.1.5 化学品输送及排风管道
1.1.6 气、水输送管道
KOH溶液，主要去除多孔硅和中和硅表面残余的酸。
反应如下：
Si+2KOH+H2O
K2SiO3+2H2
22
酸洗(HF)的目的及机理
酸洗槽（去PSG）： 氢氟酸能够溶解二氧化硅是因为氢氟酸能与二氧化硅 作用生成易挥发的四氟化硅气体。
SiO 4HF SiF 2H O
2 4 2
前后清洗工艺培训
清洗杂质和硅片上残留的酸
Dryer2
吹干硅片表面
9
4.前清洗主要工艺数据检测 腐蚀度的公式：
(硅片的前重－清洗后硅片的重量)×8.82μm/g 腐蚀度范围值：
3.7±0.5μm 我们要求控制在3.6-4.2之间 绒面反射率:
越低越好，酸制绒平均可以为25.4%, 理想值<27% (设定)参数的调节范围： conveyor速度0.9－2.0m/min 温度6－10℃（目前制绒绒槽温度8℃）
盐堵塞喷淋口及风刀。 3.停机1h以上，要跑假片，至少一批（400片）且要在生产前半小时用水
枪冲洗风刀处的滚轮。 前清洗到扩散的产品时间: 最长不能超过4小时,时间过长硅片会污染氧化，到扩散污染炉管,从 而影响后面的电性能及效率
21
前清洗几种常见不良片
片子类型
蓝点片
图片
黑点片
麻点片
黄斑片
导致片子产生 硅片表面水或酸的
扩散
利用三氯氧磷（POCl3）液态源扩散方法，掺入P，生成均匀的PN结。
后清洗 去除边缘N型硅，使硅片表面上下绝缘；去除因扩散形成的PSG
PECVD
对电池片进行镀膜，再次减少光的反射；钝化界面。
丝网印 刷
使电池片形成正负电极及背电场。
4
绒面的陷光原理
硅片酸制绒后形成的绒面形貌
酸制绒后硅表面形成的高低起伏 蜂窝状绒面，如上图所示。
前后清洗工艺培训
2
目录
一、太阳能电池片制造的工艺流程 二、前清洗 三、后清洗 四、 RENA机台常见报警信息 五、前后清洗常见异常处理流程
3
前清洗
一、太阳能电池片制造的工艺流程
制绒，利用陷光原理减少光的反射，形成对光的二次吸收或多次吸收；去 除硅片表面的机械损伤层，多孔硅和硅片上残留的金属杂质。
Dryer2
吹干硅片表面
9
4.前清洗主要工艺数据检测 腐蚀度的公式：
(硅片的前重－清洗后硅片的重量)×8.82μm/g 腐蚀度范围值：
3.7±0.5μm 我们要求控制在3.6-4.2之间 绒面反射率:
越低越好，酸制绒平均可以为25.4%, 理想值<27% (设定)参数的调节范围： conveyor速度0.9－2.0m/min 温度6－10℃（目前制绒绒槽温度8℃）
盐堵塞喷淋口及风刀。 3.停机1h以上，要跑假片，至少一批（400片）且要在生产前半小时用水
枪冲洗风刀处的滚轮。 前清洗到扩散的产品时间: 最长不能超过4小时,时间过长硅片会污染氧化，到扩散污染炉管,从 而影响后面的电性能及效率
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前清洗几种常见不良片
片子类型
蓝点片
图片
黑点片
麻点片
黄斑片
导致片子产生 硅片表面水或酸的
扩散
利用三氯氧磷（POCl3）液态源扩散方法，掺入P，生成均匀的PN结。
后清洗 去除边缘N型硅，使硅片表面上下绝缘；去除因扩散形成的PSG
PECVD
对电池片进行镀膜，再次减少光的反射；钝化界面。
丝网印 刷
使电池片形成正负电极及背电场。
4
绒面的陷光原理
硅片酸制绒后形成的绒面形貌
酸制绒后硅表面形成的高低起伏 蜂窝状绒面，如上图所示。
前后清洗工艺培训
2
目录
一、太阳能电池片制造的工艺流程 二、前清洗 三、后清洗 四、 RENA机台常见报警信息 五、前后清洗常见异常处理流程
3
前清洗
一、太阳能电池片制造的工艺流程
制绒，利用陷光原理减少光的反射，形成对光的二次吸收或多次吸收；去 除硅片表面的机械损伤层，多孔硅和硅片上残留的金属杂质。
RENA设备工艺介绍(光伏太阳能设备资料全)
配合设备人员解 决
片子减薄量是否太 片子减薄量控制在规定 提高带速，或减
大
范围之内
小蚀刻量
RENA设备：常见问题及解决方案
序号 所遇问题
检查项目
解释说明
解决方案
3
设备工作过程中碱洗槽高温 查看冷却系统是否 碱洗槽在超过设定 将温度参数的设置
报警
正常
温度的情况下会停 值提高消除报警待
止运行
温度降下来再行运
1：保证RE保下个班工艺能及时准确的了解。（一般换碱液工艺人员控制在40分钟 之内，更换蚀刻槽液体控制在3~4小时，更换HF酸控制在2~3小时）
2：对片子减薄量的一个准确的控制。配合生产一线员工根据产量的具体情况每
400~800片做一次减薄量的测试。控制减薄量一般有以下几种方法1:改变带速（正 常情况下可以直接在界面上微调，如需彻底改变需要在参数里面改写。2改变蚀刻 量（在改变带速没有明显效果下改变蚀刻量）。3：改变溶液浓度（通过按照参数 配比直接添加，或改变自动补液的次数）。
RENA主界面详细说明7:
各添加桶状态
冷水机 状态
储液箱 状态
集中供液是 否READY
机器内化学品排 放是否READY
冷水机内自来 水的电导率
储液箱进口温度 储液箱设定温度 储液箱实际温度
RENA手动模式状态详解：
RENA刻蚀槽界面介绍：
MODE MAN&MODE AUTO----自动运行时单个槽的自动手动切 换 PT FILLING DI----储液槽加纯水 PT FILLING CHEMIE----储液槽加化学药品 SYSTERM RINSING----整个系统(包括外槽内槽储液槽)用纯水清 洗 SYSTERM DRAINING----整个系统排液 BATH CHANGE----刻蚀槽储液槽排空,再重新配液 START MAIN FUNCTION----在手动模式下单个槽运行工艺 RINSE BATH START----开始用纯水不断清洗(只有在槽内加满纯 水后次按键才有作用) RINSE BATH STOP----纯水清洗结束 FILL BATH----给刻蚀槽加化学药品(如果储液槽内是纯水则加的 是纯水) DRAIN BATH----刻蚀槽排液
片子减薄量是否太 片子减薄量控制在规定 提高带速，或减
大
范围之内
小蚀刻量
RENA设备：常见问题及解决方案
序号 所遇问题
检查项目
解释说明
解决方案
3
设备工作过程中碱洗槽高温 查看冷却系统是否 碱洗槽在超过设定 将温度参数的设置
报警
正常
温度的情况下会停 值提高消除报警待
止运行
温度降下来再行运
1：保证RE保下个班工艺能及时准确的了解。（一般换碱液工艺人员控制在40分钟 之内，更换蚀刻槽液体控制在3~4小时，更换HF酸控制在2~3小时）
2：对片子减薄量的一个准确的控制。配合生产一线员工根据产量的具体情况每
400~800片做一次减薄量的测试。控制减薄量一般有以下几种方法1:改变带速（正 常情况下可以直接在界面上微调，如需彻底改变需要在参数里面改写。2改变蚀刻 量（在改变带速没有明显效果下改变蚀刻量）。3：改变溶液浓度（通过按照参数 配比直接添加，或改变自动补液的次数）。
RENA主界面详细说明7:
各添加桶状态
冷水机 状态
储液箱 状态
集中供液是 否READY
机器内化学品排 放是否READY
冷水机内自来 水的电导率
储液箱进口温度 储液箱设定温度 储液箱实际温度
RENA手动模式状态详解：
RENA刻蚀槽界面介绍：
MODE MAN&MODE AUTO----自动运行时单个槽的自动手动切 换 PT FILLING DI----储液槽加纯水 PT FILLING CHEMIE----储液槽加化学药品 SYSTERM RINSING----整个系统(包括外槽内槽储液槽)用纯水清 洗 SYSTERM DRAINING----整个系统排液 BATH CHANGE----刻蚀槽储液槽排空,再重新配液 START MAIN FUNCTION----在手动模式下单个槽运行工艺 RINSE BATH START----开始用纯水不断清洗(只有在槽内加满纯 水后次按键才有作用) RINSE BATH STOP----纯水清洗结束 FILL BATH----给刻蚀槽加化学药品(如果储液槽内是纯水则加的 是纯水) DRAIN BATH----刻蚀槽排液
RENA清洗区域机台培训
开关机步骤
• 开机：
1 确认外围设施已经就绪（电已接通、纯水压力在4Bar， 温度在20度、气压在6Bar）。 2 打开电源总开关，开启制冷装置开关。 3 打开电脑主机开关，打开显示屏开关。 4 启动软件，设置成手动状态。 5 根据工艺要求调整机器状态。 6 检查是否有报警现象并根据实际情况予以解决。
调整风刀角度 调整水刀角度 按图纸安装 重新按要求安装到位 更换新滚轮 重新把橡胶圈装回槽内 更换支架 调节盖子高度，调整喷淋方向
3
冷却机报警常见原因
13. WAFER 的质量如何 1. 水压是否正常 2. 水温是否正常 3. 滤芯是否堵塞
进水和回水的压力差在 3-6bar 冷却水温度在 15 至 18 度之间 滤芯上无杂质
6 关于overfilled（溶液过满）报警
出现此类报警时，设备检查液位传感器是否正常工作。如果确实 过满，则需要手动排掉部分药液，直到达到生产液位要求。
7 关于 tank empty（储药罐空）报警
出现此类报警时，说明外围相应储药罐中的药品已空，需及时通 知外围人员添加药液。
8 关于 valve blocked（阀门被堵）报警
水洗槽：清 洗片子表面 残留化学品
储液 罐 碱槽
碱槽：中和前 道残留酸；去 除多孔硅
储液罐
酸 槽
酸槽：去除氧化层， 形成疏水面更易吹干 表面。
滚轴可以单独控制，也可以全部一起控制
Recipe界面
填补量 溶液寿命
循环流量
刻蚀槽温度
填补量
碱槽温度
配槽浓度 碱槽寿命
配槽浓度
配槽浓度
酸槽寿命
其余副反应：
1.1: NO2 + H2O = HNO3 + HNO2 1.2: Si + HNO2 = SiO2 + NO +H2O 1.3: HNO3 + NO + H2O = HNO2
Rena_前后清洗工艺培训
Firstfill volume:480L;
Bath processtemperature:7±2 ℃
concentrations of chemical:HF&HNO3;
Quality:150.0Kg;
Setpoint recirculation flow:140.0L/min;
当药液寿命（Quality）到后，需更换整槽药液。
制绒的目与原理
根据工艺方法不同，制绒可分为碱制绒（仅适用于单晶硅制绒） 和酸制绒（可用于单晶和多晶硅表面的制绒）。RENA设备为酸制 绒设备，其目的主要有：
1.去除硅片表面的机械损伤层
2.清除表面油污和金属杂质
3.形成起伏不平的绒面，减少光的反射，增加硅片对太阳光的 吸收，增加PN结的面积，提高短路电流（Isc），最终提高电 池的光电转换效率。
RENA前后清洗工艺培训
Confidential
太阳能电池的种类及效率
Confidential
制造太阳能电池的基本工艺流程
前清洗（制绒） 扩散
后清洗（刻边/去PSG） PECVD SiNx
丝网印刷 /烧结/测试
RENA清洗设备 注：前、后清洗设备外观相同，内部构造和作用原理稍有不同
一、RENA Intex前清洗工艺培训
刻蚀槽的作用： 1.去除硅片表面的机械损伤层； 2.形成无规则绒面。
Alka要工艺参数： Firstfill concentration of chemical:5%; Bath lifetime:240hours; Bath processtemperature:20±10℃ 当药液寿命（Bath lifetime）到后，需更换整槽药液。
需要注意的是碱槽的喷嘴角度和流量需要控制好， 否则碱液易喷至Rinse1中，而Rinse1中洗下的酸液和上 述碱液易在该槽中生成盐，使该处的滤芯很快被堵住而 失效。
RENA培训
调节挡板 和滚轮之 间的距离
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调整喷淋管的位置，至滚轮能够光滑的运行． 调整风管和水管的位置，使得片子在通过的时候，不会影响片子的运行．
48
检查所有滚轮和O-ring的位置是正确的，确保上下滚轮在同一条线上． 调节滚轮的高度和水洗管的位置保证片子在传送过程中无偏移．如果发生 偏移会产生碎片．
49
调节滚轮１的速度小于滚轮２的速度，如果生产不赶产量，则尽量让 生产人员放片子不要太急，拉大片间距，这样片子进出设备较均匀，不 易产生叠片等现象．
片子之 间距离 2cm
50
周维护
1.检查供排酸管路有无泄漏。 2.循环泵是否正常工作，有无噪音。 3.检查各槽体排液过滤筛有无堵塞情况，并清理槽内碎片 4.检查风刀，水刀有无堵塞状况，并及时清理。 5.确认滚轮水平状况，并根据生产情况进行调整。
去PSG工序检验方法： 当硅片从HF槽出来时，观察其表面是否脱水，如果脱水，则表 明磷硅玻璃已去除干净；如果表面还沾有水珠，则表明磷硅玻璃 未被去除干净，可在HF槽中适当补些HF。
5.刻蚀设备构造
工艺步骤： 边缘刻蚀→碱洗 →酸洗→吹干 RENA InOxSide刻蚀设备的主体分为以下七个槽，此外还有滚轮、排 风系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。
Etch bath：刻蚀槽，用于制绒。 所用溶液为HF+HNO3 ，作用： 1.去除硅片表面的机械损伤层； 2.形成无规则绒面。 Alkaline Rinse：碱洗槽 。 所用溶液为KOH，作用： 1. 对形成的多孔硅表面进行清洗； 2.中和前道刻蚀后残留在硅片表面的酸液。
Acidic Rinse：酸洗槽 。 所用溶液为HCl+HF，作用： 1.中和前道碱洗后残留在硅片表面的碱液； 2.HF可去除硅片表面氧化层（SiO2），形成疏水表面，便于吹干； 3.HCl中的Cl-有携带金属离子的能力，可以用于去除硅片表面金属 离子。
RENA清洗员工培训
工序 一次清洗 二次清洗 重新制绒返工片 减薄量控制范围 4.3±0.3µm 0.9±0.2µm 1.5µm~2.5µm
返工片挑选
控制点 工序 类型 油污、微晶片 一次清洗 上料台 二次清洗 膜未去干净 每片 标示为“膜未去干净”、返回 PECVD 通知工艺人员确认 检查频次 每片 异常片处理 挑出后集中处理 处理流程 通知工艺人员和质量人员确 认
外围设施
纯水：电阻率≥15M .cm、压力≥3bar 循环冷却水：温度≤18℃，进出水压差≥3 bar 压缩空气：压力≥6 bar
设备设施
风刀压力： ≥ 150 Nm3/ h 漂洗槽进水流量： ≥ 600L/h
工艺要求
•
上料 1、手套戴法：内层汗布手套 + 外层乳胶手套 更换频率：每一小时需更换手套，出入车间更换手套 2、将不同片源、不同批次、不同厚度的硅片区分开来，并分别开流程卡(流程卡 上注明以上所有信息)。 3 3、制绒槽新换液的第一个班，要在流程卡上注明“新换液”字样，有利于PECVD “ ” PECVD 调整工艺。 4、上料过程中如发现有油污片、发亮片、微晶片(片源有“微晶片”说明的除外)等 异常情况，需挑出集中处理并告知工艺员。 5、将缺角、隐裂等不合格硅片挑出，退库。
各槽换液频率
•
制绒(一次清洗)
类型 156多晶 125多晶 制绒槽 30±5万片 45±5万片 碱洗槽 每班交接班时 每班交接班时 酸洗槽 每天夜班结束时 每天夜班结束时 漂洗槽 每班交接班换液 每班交接班换液
•
注：生产如需停产≥24小时，所有槽内溶液应排掉，并清洗干净。 刻蚀(二次清洗)
类型 156多晶 125多晶 制绒槽 140±10万片 140±10万片 碱洗槽 每班交接班时 每班交接班时 酸洗槽 每天夜班结束时 每天夜班结束时 漂洗槽 每班交接班换液 每班交接班换液
返工片挑选
控制点 工序 类型 油污、微晶片 一次清洗 上料台 二次清洗 膜未去干净 每片 标示为“膜未去干净”、返回 PECVD 通知工艺人员确认 检查频次 每片 异常片处理 挑出后集中处理 处理流程 通知工艺人员和质量人员确 认
外围设施
纯水：电阻率≥15M .cm、压力≥3bar 循环冷却水：温度≤18℃，进出水压差≥3 bar 压缩空气：压力≥6 bar
设备设施
风刀压力： ≥ 150 Nm3/ h 漂洗槽进水流量： ≥ 600L/h
工艺要求
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上料 1、手套戴法：内层汗布手套 + 外层乳胶手套 更换频率：每一小时需更换手套，出入车间更换手套 2、将不同片源、不同批次、不同厚度的硅片区分开来，并分别开流程卡(流程卡 上注明以上所有信息)。 3 3、制绒槽新换液的第一个班，要在流程卡上注明“新换液”字样，有利于PECVD “ ” PECVD 调整工艺。 4、上料过程中如发现有油污片、发亮片、微晶片(片源有“微晶片”说明的除外)等 异常情况，需挑出集中处理并告知工艺员。 5、将缺角、隐裂等不合格硅片挑出，退库。
各槽换液频率
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制绒(一次清洗)
类型 156多晶 125多晶 制绒槽 30±5万片 45±5万片 碱洗槽 每班交接班时 每班交接班时 酸洗槽 每天夜班结束时 每天夜班结束时 漂洗槽 每班交接班换液 每班交接班换液
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注：生产如需停产≥24小时，所有槽内溶液应排掉，并清洗干净。 刻蚀(二次清洗)
类型 156多晶 125多晶 制绒槽 140±10万片 140±10万片 碱洗槽 每班交接班时 每班交接班时 酸洗槽 每天夜班结束时 每天夜班结束时 漂洗槽 每班交接班换液 每班交接班换液