RENA前后清洗 全新
电池片工艺流程
水,但是仅能以2升为一个单位加入。
前清洗工艺碱槽或酸槽不循环观察设备下面的循环平衡有没有冒泡泡
原因分析:a：可能风刀堵塞,使溶液跑到水槽２中;
b:可能喷淋堵塞;c:可能滤芯塞;解决方法:a：先期在初始界面处可以发现各自对应的模板,在“ｒeaｄy”
生成的P2Ｏ5又进一步与硅作用，生成SiO2和磷原子,由此可见,在磷扩散时，为了促使POCｌ3充分的分解和避免PCl５对硅片表面的腐蚀作用，必须在通氮气的同时通入一定流量的氧气。
（1)去除硅片表面的机械损伤层(来自硅棒切割的物理损伤)
（2)清除表面油污(利用HＦ)和金属杂质(利用HCｌ)
（3)形成起伏不平的绒面,利用陷光原理,增加对太阳光的吸收，在某种程度上增加了PN结面积,提高短路电流(Isｃ），最终提高电池光电转换效率。
２、前清洗工艺步骤:制绒?碱洗?酸洗？吹干
Etchbａth:刻蚀槽,用于制绒。 所用溶液为HF＋HNO3，作用：
4/１3页
（二）扩散
1．扩散工序的目的:形成ＰN结
２、扩散工艺步骤:
ＬOADING--HEATUP－--SＴABILＩＺＥ-－DEPＯSIＴION -－－DRIVE
IN－-CＯOＬDOWＮ---－UNＬOADING
3.扩散工艺涉及的反应方程式:
PＯCl3是目前磷扩散用得较多的一种杂质源。无色透明液体,具有刺激性气味。如果纯度不高则呈红黄色。比重为1.67，熔点2?，沸点107？，在潮湿空气中发烟。ＰOCl3很容易发生水解,POＣl3极易挥发。
产量,过高的速度风刀很难将硅片吹干。所以如果滚轮速度小于1.０,
需要手动加液,一般按2升HF，5升ＨNO3进行补液。同时可以将温度
RENA前后清洗
三、RENA Intex前清洗（酸制绒）工艺
RENA清洗设备 注：前、后清洗设备外观相同，内部构造和作用原理稍有不同
1.RENA前清洗工序的目的：
去除硅片表面的机械损伤层（来自硅棒切割的物理损伤） 清除表面油污（利用HF）和金属杂质（利用HCl） 形成起伏不平的绒面，增加对太阳光的吸收，增加PN结 面积，提高短路电流（Isc），最终提高电池光电转换效率。
3. 酸制绒工艺涉及的反应方程式:
HNO3+Si=SiO2+NOx↑+H2O SiO2+ 4HF=SiF4+2H2O SiF4+2HF=H2[SiF6] Si+2KOH+H2O →K2SiO3 +2H2 NO2 + H2O = HNO3 + HNO2 Si + HNO2 = SiO2 + NO +H2O HNO3 + NO + H2O = HNO2
3.放测量片时，把握均衡原则。如第一批放在1.3.5.7道，下一批则 放在2.4.6.8道，便于检测设备稳定性以及溶液的均匀性。
刻蚀槽液面的注意事项： 正常情况下液面均处于绿色，如果一旦在流片过程中颜色改变，立 即通知工艺人员。
产线上没有充足的片源时，工艺要求: 1.停机1小时以上，要将刻蚀槽的药液排到tank，减少药液的挥发。 2.停机15分钟以上要用水枪冲洗碱槽喷淋及风刀，以防酸碱形成的 结晶盐堵塞喷淋口及风刀。 3.停机1h以上，要跑假片，至少一批（400片）且要在生产前半小时 用水枪冲洗风刀处的滚轮，杜绝制绒后的片子有滚轮印。
腐蚀深度与电性能间的关系
在绒面硅片上制成PN结太阳电池，它有以下特点:
(l)绒面电池比光面电池的反射损失小，如果再加减反射膜，其反射率可进
成人硅胶处理方法
成人硅胶处理方法
【导语】成人硅胶作为一种常见的日用品材料，了解其处理方法对于确保使用安全和卫生至关重要。
本文将详细介绍成人硅胶的储存、清洗、保养以及废弃处理等方面的方法。
一、储存方法
1.保持干燥：成人硅胶应存放在干燥、通风的环境中，避免潮湿导致硅胶发霉。
2.避免阳光直射：长时间的阳光照射会使硅胶老化，影响使用寿命。
3.妥善放置：硅胶制品应放置在清洁的容器内，避免与其他物品混放，以免污染。
二、清洗方法
1.使用前清洗：在首次使用成人硅胶之前，应用清水彻底冲洗，去除表面尘埃和残留物。
2.日常清洗：使用后，应及时清洗硅胶制品，可以用温水和温和的洗涤剂轻轻搓洗，然后用清水冲洗干净。
3.定期消毒：为了保证卫生，建议定期使用专业的消毒液对硅胶制品进行消毒处理。
三、保养方法
1.晾干：清洗后的硅胶制品应放在通风处晾干，避免潮湿。
2.避免划伤：在使用过程中，避免与尖锐物品接触，以免划伤硅胶表面。
3.定期检查：定期检查硅胶制品，如发现破损、老化等现象，应及时更
换。
四、废弃处理方法
1.分类丢弃：废弃的成人硅胶制品应按照当地垃圾分类规定进行分类丢弃。
2.环保处理：如有条件，可将废弃硅胶制品送到专业的回收处理机构进行环保处理。
通过以上介绍，相信大家对成人硅胶的处理方法有了更深入的了解。
新买的成人用品清洗方法
新买的成人用品清洗方法> 成人用品的私密性和特殊性使得它的清洗和消毒变得尤为重要。
正确的清洗方法不仅能保护我们的健康，而且能延长成人用品的使用寿命。
本文将介绍一些新买的成人用品的清洗方法，希望能帮助您正确地保养和清洁您的成人用品。
步骤一：阅读说明书在开始清洗之前，首先阅读和理解成人用品的说明书。
不同的成人用品可能有不同的材质和特性，需要采用不同的清洗方法。
同时，说明书中也会提供一些建议和注意事项，遵守这些指导能够更好地清洗和保养成人用品。
步骤二：准备清洗工具和材料为了能够有效地清洗和消毒成人用品，您需要准备一些清洗工具和材料，例如：- 温水和中性清洁剂或专用的成人用品清洗液- 温水和抗菌洗液或抗菌消毒液- 柔软的毛巾或纸巾- 小刷子或牙刷（建议选择软毛的刷子）- 干燥透气的容器或包装盒（用于存放已经清洗干净的成人用品）步骤三：清洗表面首先，使用温水和中性清洁剂或专用的成人用品清洗液清洗成人用品的表面。
注意不要将电子部分浸入水中，以免损坏。
轻轻地用毛巾或纸巾擦拭表面，确保清洁彻底。
如有需要，可以使用小刷子或牙刷清洁难以到达的角落。
步骤四：清洗内部部分接下来，根据成人用品的类型和材质，决定是否清洗内部部分。
有些成人用品拥有可拆卸的部件，可以将其分解后单独清洗。
建议使用温水和抗菌洗液或抗菌消毒液进行清洗。
如果使用的是防水产品，可以将其浸入温水中，加入适量的清洁剂或消毒液，轻轻地搅拌和按摩，然后彻底冲洗清洗剂。
如果使用的是非防水产品，可以使用湿巾或纸巾擦拭内部部分。
注意，一些成人用品内部有电池或电机，需要特别小心。
避免将电子部分浸入水中，以免损坏。
步骤五：消毒处理为了保证成人用品的卫生和健康，消毒是十分重要的一步。
您可以选择使用专门的抗菌消毒液或抗菌湿巾对成人用品进行消毒处理。
按照说明书的要求，将消毒液均匀地喷洒或擦拭在成人用品的表面和内部部分，确保每个角落都得到消毒。
然后，将其静置一段时间，以确保消毒剂发挥作用。
工艺控制点080813
前段工艺控制点汇总单晶制绒：1、原材料的情况，包括片子的厚薄、电阻率、表面洁净度、指纹划伤等；2、不同厂家的片子对碱与醇的需求量上的差异3、超声波清洗各槽时间，溢流是否打开，生产人员的操作是否规范，是否将片子表面残留的清洗剂洗净4、各槽配液时的水量是否合格5、制绒槽溶液的实际温度，注意温度传感器千万不能接触加热管6、五、六、七槽的水要确保按要求更换，特别是六槽，溢流要打开，不然水很快就会变脏7、化学补给的量是否准确，注意实际的补给量8、在做不同厂家的片子前最好先试片，以确定溶液对新厂家的片子是否合适RENA制绒：1、RENA刻蚀槽后气刀情况，喷淋水压情况，循环流量，补液情况，碱槽清洗情况，脱水情况2、刻蚀槽寿命、酸碱槽寿命是否到；3、片子外观情况和腐蚀深度，包括是否发黄、暗纹、发亮等情况4、酸碱自动补液是否正常补5、注意外面酸桶内的酸余量，防止酸浸了及其未报警6、配液时注意实际的配液量，尤其是刻蚀槽7、排液时注意刻蚀槽是否排尽，特别是在加水清洗时要确保排尽扩散：1、传递窗积压片，包括清洗前滞留2、小推车洁净度3、清洗机上料台碎片清理4、清洗时间设定5、甩干时间设定，脱水情况，纯水电阻率≥15MΩ6、石英舟洁净度7、磷源温度、水箱水位、尾气管积液、注入管对中情况8、排毒箱接酸盒是否积酸过多9、是否提前结束工艺，舟速280±4010、测试仪器校准11、扩散间前后间气压≥1012、扩散前清洗前各槽壁清洗和碎片清理13、扩散各炉管的运行状况如何，可以从方块电阻测试数据分析14、扩散参数设置情况，工艺卫生，磷源是否足够，密封情况15、哪些炉管目前处于维护，维护的进程如何16、上班前了解上个班合格率如何，合格率低的原因是什么？本班如和解决此问题2008年8月13日早班全体工艺。
RENA清洗设备中文版说明书
RENA清洗设备中文版说明书仅操作部分6、操作6.1 开机6.1.1 步骤1：开机前准备第一步：打开药液供给侧的手动阀第二步：关闭所有后侧门第三步：关闭所有服务和维修窗口的盖板第四步：解锁所有急停按钮6.1.2步骤2：给机器上电第一步：将机器的主开关打到ON的状态此时机器有电第二步：移走UPS电源的盖板第三步：将UPS的主开关打到ON的状态第四步：将主机的主开关打到ON的状态此时操作系统启动6.1.3步骤3：给CHILLER上电第一步：将CHILLER的主开关打到ON的状态此时CHILLER启动6.1.4步骤4：登录Windows第一步：选择Operator用户第二步：输入Operator密码，点击确定6.1.5步骤5：启动应用软件6.1.5.1 启动SPS软件第一步：双击WINLC RTXSPS软件启动SPS软件开始自动运行，直到ON和RUN显示为绿色第二步：将WINLC RTX最小化6.1.5.2 启动Server第一步：双击Server第二步：点击Open Project第三步：选择Project Path第四步：点击[+]第五步：点击[Configuration]第六步：点击OK第七步：点击RUN第八步：点击Start Tag Provider第九步：最小化服务器程序6.1.5.3 启动用户界面第一步：双击[Client]6.1.6步骤6：用户登入第一步：登入Process6.1.7步骤7：控制系统上电第一步：按动ON按钮6.2 工艺初始化准备第一步：登入Service第二步：了解所有报警信息第三步：将机器打到Manual状态第四步：对所有的功能单元下载Recipe第五步：冷却系统补液第六步：清洗槽补液第七步：所有dosage tanks补液第八步：所有Pump tanks补液此时机器用于工艺已准备好6.3 自动生产第一步：登入Operator用户第二步：确认所有的功能单元都处在Ready状态第三步：点击Start production6.3.3 停止自动生产6.3.3.1 停止预定的自动生产第一步：点击Scheduled stop弹出一个窗口第二步：点击YES仍在机器内的硅片跑出后停止6.3.3.2 停止未预定的自动生产第一步：点击Unscheduled stop弹出一个窗口第二步：点击YES仍在机器内的硅片将过刻6.3.3.3 停止自动生产—关闭步骤1：停止预定的自动生产第一步：点击Scheduled stop第二步：点击YES仍在机器内的硅片跑出后停止步骤2：点击Unscheduled time6.3.4 手动补液6.3.4.1 工艺槽补液第一步：点击Process bath第二步：点击欲加液的dosage tank.第三步：点击dosage第四步：输入欲加液的体积第五步：点击Start manual dosage补液开始停止补液第一步：点击Stop manual dosage补液停止6.3.4.2 碱槽补液与以上相似6.3.4.3 酸槽补液与以上相似6.3.5 滚轮操作6.3.5.1 停止滚轮第一步：点击Drives break滚轮停止转动6.3.5.2 启动滚轮第一步：点击Drives continue滚轮开始转动6.3.6 机器保护门的操作6.3.6.1 解锁保护门第一步：点击Unlock pane保护门解锁6.3.6.2 锁保护门第一步：点击Lock pane保护门锁上6.3.7硅片计数器清零第一步：点击Reset wafer counter硅片计数器清零6.4 手动操作6.4.1 将机器打到Manual状态第一步：点击Manual第二步：等到所有功能单元都切换到Manual状态6.4.2 冷却系统补液第一步：将机器打到Manual状态第二步：点击Cooling System第三步：点击Manual functions第四步：点击Fill with City Water冷却系统开始补液中断冷却系统补液第五步：点击Stop正补液的冷却系统停止补液6.4.3 清洗槽补液第一步：将机器打到Manual状态第二步：点击欲加液的清洗槽第三步：点击Manual functions第四步：点击Fill with DI清洗槽开始补液6.4.4 dosage tank补液6.4.4.1 工艺槽dosage tank补液第一步：将机器打到Manual状态第二步：点击Process bath第三步：点击Manual functions第四步：点击欲加化学药品的Dosage Tank Filldosage tank开始补液第五步：对所有的dosage tank重复第四步的操作中断补液第六步：点击Stop补液被中断6.4.4.2 碱槽的dosage tanks补液与以上相似6.4.4.3 酸槽的dosage tanks补液与以上相似6.4.5 Pump tanks 补液6.4.5.1 工艺槽Pump tanks 补液第一步：将机器打到Manual状态第二步：点击Process bath第三步：点击Manual functions第四步：对所有的dosage tanks补液第五步：点击Fill chemistryPump tank将按照recipe的设定补液中断补液第六步：点击Stop补液被中断6.4.5.2碱槽Pump tanks 补液与以上相似6.4.5.2酸槽Pump tanks 补液与以上相似6.4.6 Bath槽补液第一步：将机器打到Manual状态第二步：冷却系统补液第三步：所有清洗槽补液第四步：所有dosage tanks补液第五步：所有pump tanks补液第六步：点击InOxSide第七步：点击Start productionBath槽开始补液6.4.7 冷却系统排液第一步：将机器打到Manual状态第二步：点击Cooling system第三步：点击Manual functions第四步：点击Drain冷却系统开始排液中断排液第五步：点击Stop排液被中断6.4.8清洗槽排液与以上相似6.4.9 将Baths的药液排到pump tank第一步：将机器打到Manual状态第二步：选择欲操作的功能单元第三步：点击Manual functions第四步：点击Drain bath to pump tankBath开始排液到Pump tank中断排液第五步：点击Stop排液被中断6.4.10 对baths and pump tank排液第一步：将机器打到Manual状态第二步：选择欲操作的功能单元第三步：点击Manual functions第四步：点击DrainBath和Pump tank将被排空6.4.11 对dosage tanks排液第一步：将机器打到Manual状态第二步：选择欲操作的功能单元第三步：点击Manual functions第四步：点击DrainBath和Pump tank将被排空第五步：点击欲操作的dosage tank的Drain dosage tankdosage tank的药液被排到pump tank.pump tank.的药业被排空中断排液第六步：点击Stop排液被中断6.4.12 换液Changing the bath第一步：将机器打到Manual状态第二步：选择欲操作的功能单元第三步：点击Manual functions第四步：点击Bath change6.4.13 启动自动清洗清洗周期和清洗时间由recipe的参数预设第一步：将机器打到Manual状态第二步：选择欲操作的功能单元第三步：点击Manual functions第四步：点击Clean开始清洗中断清洗第五步：点击Stop清洗被中断6.4.14 启动手动清洗6.4.14.1 工艺槽的手动清洗第一步：将机器打到Manual状态第二步：点击Process bath第三步：点击Manual functions第四步：点击Start manual rinseBath槽的排液阀门打开用水枪冲洗bath槽中断清洗第五步：点击StopBath槽的排液阀门关闭手动清洗被中断6.4.14.2 酸槽的手动清洗与以上相似6.4.15 停止手动清洗6.4.15.1 工艺槽的手动清洗第一步：将机器打到Manual状态第二步：点击Process bath第三步：点击Manual functions第四步：点击stop manual rinseBath槽的排液阀门关闭6.4.15.2酸槽的手动清洗与以上相似6.4.16 初始化第一步：将机器打到Manual状态第二步：选择欲操作的功能单元第三步：点击Init功能单元开始初始化中断初始化第四步：点击Stop初始化被中断6.4.17 dosage tanks的余量置零第一步：将机器打到Manual状态第二步：点击Process bath第三步：点击Manual functions第四步：点击Bath changeThe bath is changed.The rest volume dosage tank is reseted 6.4.18 检测第一步：登入Process用户第二步：打开检测单元的盖子第三步：将检测容器与检测软管连接第四步：关闭检测单元的盖子第五步：点击sampling按钮5秒第六步：打开检测单元的盖子第七步：取出检测容器第八步：锁上检测容器第九步：关闭检测单元的盖子第十步：登入Operator用户6.5 设置6.5.1 改变温度6.5.1.1 在生产过程中改变温度第一步：点击Inoxside第二步：点击Bath temperature第三步：改变温度值第四步：点击OK6.5.1.2 在Recipe里改温度第一步：点击Inoxside第二步：点击Process bath第三步：点击Recipe第四步：双击pump tank temperature or bath temperature的数值第五步：更改数值第六步：点击OK6.5.2 更改带速6.5.2.1在生产过程中改变速度第一步：点击Inoxside第二步：点击Speed setpoint第三步：改变速度值第四步：点击OK6.5.2.2在Recipe里改速度第一步：点击Inoxside第二步：点击Transport第三步：点击Recipe第四步：双击欲改变的数值第五步：更改数值第六步：点击OK6.5.3 设置第一次补液的比例第一步：点击Inoxside第二步：点击欲操作的功能单元第三步：点击Recipe第四步：双击Concentration for first fill'.的数值第五步：更改数值第六步：点击OK6.5.4 设置自动补液第一步：点击Inoxside第二步：点击欲操作的功能单元第三步：点击Recipe第四步：双击Dosage V olume'的数值第五步：更改数值第六步：点击OK6.5.5 设置自动清洗6.5.5.1设置清洗周期的编号第一步：点击Inoxside第二步：点击欲操作的功能单元第三步：点击Recipe第四步：双击Numbers of Cleaning Cycles'.的数值第五步：更改数值第六步：点击OK6.5.5.2设置清洗时间第一步：点击Inoxside第二步：点击欲操作的功能单元第三步：点击Recipe第四步：双击Cleaning time'.第五步：更改数值第六步：点击OK6.5.6设置流动时间第一步：点击Inoxside第二步：点击欲操作的功能单元第三步：点击Recipe第四步：双击Setpoint flow'第五步：更改数值第六步：点击OK6.5.7设置dryer第一步：点击Inoxside第二步：点击dryer第三步：点击Recipe第四步：双击要改变的参数第五步：更改数值第六步：点击OK6.6 关机6.6.1 步骤1：机器排液第一步：点击Scheduled stop◊No new wafers are conveyed into the machine.The mode of the machine is◊ changed to 'Standby'.Processing of any wafers that are still in the◊ machine is carried out to the end. The baths are drained into the pump◊ tank.The mode of the machine is changed to◊ 'Manual'.6.6.2步骤2：结束工艺准备就绪第一步：登入Process用户第二步：所有的Pump tanks排液第三步：所有的Dosage tanks排液第四步：清洗所有的Dosage tanks第五步：清洗所有的Pump tanks第六步：将机器状态改为Off6.6.3步骤3：关闭控制电源第一步：在控制面板上点击Off按钮机器将不再能从界面上控制6.6.4步骤4：关机准备第一步：关闭所有的药液提供侧的手动阀6.6.5步骤5：关闭总电源第一步：将主开关打到Off状态6.7 急停按下后的开机6.7.1步骤1：开机准备第一步：处理急停原因第二步：解锁所有的急停按钮6.7.2步骤2：打开控制电源第一步：点击ON按钮6.7.3步骤3：启动准备就绪第一步：登入Service用户第二步：将机器打到manual状态第三步：了解所有的报警信息6.7.4步骤4：开始自动生产第一步：登入Operator用户第二步：确保所有的功能单元都处于Ready状态第三步：点击InOxside第四步：点击Start production该按钮键变绿状态显示变为InitBaths槽开始补液状态显示变为Auto机器开始生产The Semi E10状态改为Start production 6.8断电后的开机6.8.1断电断于10分钟的开机6.8.1.1步骤1：开机前准备第一步：重启电源6.8.1.2步骤2：打开控制电源第一步：按动ON按钮控制电源上电该按钮键显示为绿色6.8.1.3步骤3：启动准备就绪第一步：登入Service用户第二步：将机器打到manual状态第三步：了解所有的报警信息6.8.14步骤4：开始自动生产第一步：登入Operator用户第二步：确保所有的功能单元都处于Ready状态第三步：点击InOxside第四步：点击Start production该按钮键变绿状态显示变为InitBaths槽开始补液状态显示变为Auto机器开始生产The Semi E10状态改为Start production 6.8.2大于10分钟断电后的开机6.8.2.1步骤1：开机前准备第一步：重启电源6.8.2.2步骤2：打开控制电源第一步：按动ON按钮控制电源上电该按钮键显示为绿色6.8.2.3步骤3：windows登入第一步：点击operator第二步：输入密码Operator点击OK6.8.2.4步骤4：启动准备就绪第一步：登入Service用户第二步：将机器打到manual状态第三步：了解所有的报警信息第四步：对所有的功能单元下载Recipe第五步：冷却系统补液第六步：所有清洗槽补液第七步：所有的dosage tanks 补液第八步：所有的pump tanks 补液此时设备准备好6.8.2.5步骤5：开始自动生产第一步：登入Operator用户第二步：确保所有的功能单元都处于Ready状态第三步：点击InOxside第四步：点击Start production该按钮键变绿状态显示变为InitBaths槽开始补液状态显示变为Auto机器开始生产The Semi E10状态改为Start production。
美容仪器的正确清洁方法
美容仪器的正确清洁方法作为现代美容界的热门产品，美容仪器在帮助人们实现美丽愿望的同时，也需要得到妥善的保养与清洁。
正确的清洁方法不仅能延长美容仪器的使用寿命，更能保证使用效果和美容效果的最大化。
在这篇文章中，我将为大家介绍一些美容仪器的正确清洁方法，助您轻松拥有健康美丽的肌肤。
首先，我们要注意的是对美容仪器的日常清洁。
美容仪器的表面容易积累灰尘和污垢，因此，每次使用后，都要用干净的湿布或纸巾擦拭仪器表面。
这样可以保证仪器的整洁，防止外界污染物对仪器的损坏和皮肤的刺激。
除了日常清洁，定期深度清洁也是美容仪器保养的重要环节。
根据不同的美容仪器种类和使用频率，一般建议每1-2个月进行一次深度清洁。
深度清洁可分为以下几个步骤：第一步，将美容仪器的部件拆卸下来，分别清洗。
使用温和的洗洁剂，借助刷子或海绵清洗仪器的部件。
注意洗洁剂要少用，以免残留造成皮肤刺激。
洗净后，用清水彻底冲洗干净。
第二步，对于可以水洗的部分，选择温水加入适量的消毒液或消毒片，将仪器浸泡于其中，以杀灭细菌和病毒。
浸泡时间一般为15-30分钟，具体时间根据产品说明书的要求为准。
第三步，使用纯净水对仪器进行彻底冲洗，确保清洗干净。
之后，需要将仪器放置在干燥通风的地方，自然风干。
千万不要用毛巾或纸巾擦拭，以免留下纤维和细菌。
此外，还需要注意美容仪器的存储问题。
美容仪器在存放的过程中也容易受到细菌和污染的影响，因此，我们应将其存放在干燥清洁的地方，并避免阳光直射。
建议在存放之前，用纯净水再次对仪器进行简单清洁和消毒，以确保下次使用前仪器的整洁和安全。
最后，我还要提醒大家，使用美容仪器前一定要将脸部清洁干净，以免将污垢带入仪器中影响使用效果。
此外，在使用美容仪器后，也要对仪器进行简单的清洁，以保持其使用效果和卫生性。
综上所述，美容仪器的正确清洁方法包括日常清洁和定期深度清洁。
通过正确的清洁，我们可以延长美容仪器的使用寿命，保证其有效发挥作用，并帮助我们拥有美丽健康的肌肤。
1.RENA制绒工序作业指导书
文件修订记录目录1.目的 (3)2. 范围 (3)3. 职责 (3)4. 内容 (3)5. 记录 (3)6. 附件 (4)1. 目的规范多晶硅电池片生产中制绒工序的各项操作。
2. 范围用于本公司156 多晶电池片生产中RENA 清洗机制绒工序的操作作业指导。
3. 职责3.1 所有操作人员都必须严格按照本文件进行操作。
3.2 在操作过程中遇到问题应及时向工艺和设备人员反应，工艺和设备人员及时提供帮助。
3.3电池技术部负责按文件要求对产线进行检查、监督。
4. 内容4.1 制绒工序注意事项规定，见5-8页。
4.2 RENA制绒上料操作作业指导书（多晶），见9-10页。
4.3 RENA制绒流程操作作业指导书(多晶)，见11-12页。
4.4 RENA制绒下料操作作业指导书（多晶），见13-14页。
4.5 减薄量测试作业指导书, 见15页。
4.6返工片操作作业指导书，见16-20页。
4.7产线异常控制作业指导书，见21页。
4.8 D8反射率使用作业指导书见22-23页。
5. 记录5.1 制绒减重反射率记录表（电子版）5.2 制绒换液记录表5.3 制绒工艺日常点检表5.4 电池生产流程单6. 附件6.1制绒常见异常处理方法（设备），见24-25页。
6.2多晶制绒工艺流程图，见26页。
6.3 化学品安全使用和应急处理，见27-28页。
制绒工序注意事项规定1．制绒工序区域环境要求1.1 洁净度：控制线8000 级，停产线10000 级1.2 温度：22±2℃1.3 湿度：<70%1.4 对参观通道保持3pa 正压1.5 排风：（500±50）Pa(RENA 机排风)2．着装及劳保用品使用要求2.1 人员着装要求：现场作业人员、支持人员须穿戴整齐（包括公司配备的洁净服、洁净帽、工作鞋、口罩）并保证着装整洁（如脏污须清洗或更换）。
2.2 手套使用要求：现场作业人员须戴乳胶手套作业，沾污、破损必须更换新手套；手动放片每两小时更换一次手套，出入车间后更换手套。
电池片工序流程
电池片生产工序流程第一道工序是清洗制绒，目的是通过一系列化学处理使硅片表面形成绒面,来减少对光的反射,吸收更多的光。
目前我们公司使用的是德国产的RENA清洗机，它采用全自动计算机控制添加排放药液，智能分析控制药液流量及浓度，以达到高效率、高产量、高稳定性产品。
第二道工序是磷扩散工序，目的是通过扩散磷杂质，在P型衬底硅表面形成N型硅，制作PN结。
PN结的制作是生产太阳光伏电池的核心工艺步骤。
目前我们公司主要使用的是中国电子科技集团公司第四十八研究所的扩散炉，它能达到较好的扩散控制精度。
第三道工序是后清洗工序，通过酸碱腐蚀去除扩散在硅片边缘的PN结，防止电池正负极短路。
目前我们公司使用的是德国RENA机，全自动计算机控制生产速度快。
第四道工序是PECVD工序，目的是通过等离子增强化学气相沉积在扩散面上镀上一层淡蓝色SIN膜，减少光反射，同时也起到钝化、抗氧化及绝缘作用。
目前我们公司使用的是德国产C—T管式PECVD等离子增强化学气相沉积机。
主要优点是全自动控制，提高生产效率。
第五道工序是丝网印刷工序，它分三道印刷完成，第一道是印刷背电极，目的是电池片形成良好的欧姆接触易于焊接。
第二道是印刷背电场，目的是收集载流子。
第三道是印刷正电极，目的是收集电流易于焊接。
目前我们公司使用的是意大利产BACCINI印刷机，是目前全球最先进的丝网印刷机。
第六道工序是烧结工序。
目的是通过红外加热管加热，烘干去除浆料里的有机物质，再经过高温使上下电极与硅片形成良好的欧姆接触，提高转换效率。
烧结后印刷电极可引出电流，形成电流回路。
目前我们公司使用的是美国产DESPATCH 烧结炉和德国产C—T烧结炉，设备优点是能达到快速烧结，且温度精度控制好。
最后一道工序是分类检测。
它通过模拟太阳光照射电池片，再通过模拟负载测出每片电池片的电流、电压、电阻等电性能参数，换算出转换效率进行分档。
目前我们公司使用的也是意大利产BACCINI分检机，它的优点是全自动分档范围广速度快。
RENA设备工艺介绍
4
设备运行过程中碱洗槽的 干燥运行保护
碱液罐碱液是否 不够
5
设备工作过程中酸洗槽高 温报警
查看冷却系统是 否正常
6
第一道滚轮不转其他滚轮 运行正常
查看滚轮感应器 是否正常
感应器出错
40
RENA开机工艺准备工作：
开机前工艺人员必须确保所有的化学用液在规定范围之内，各槽参数正常，即 RENA机主界面全部是绿色的情况下方能正常运行。
15
RENA手动模式状态详解：
16
RENA刻蚀槽界面介绍：
MODE MAN&MODE AUTO----自动运行时单个槽的自动手动切 换 PT FILLING DI----储液槽加纯水 PT FILLING CHEMIE----储液槽加化学药品 SYSTERM RINSING----整个系统(包括外槽内槽储液槽)用纯水清 洗
进入服务模式按扭 进入手动模式按扭 工艺文件 进入手动添加界面
曲线图
进入报警信息界面 取消蜂鸣 取消报警
14
RENA主界面详细说明7:
各添加桶状态 冷水机 状态 储液箱 状态
集中供液是 否READY
机器内化学品排 放是否READY
储液箱进口温度 储液箱设定温度 储液箱实际温度 冷水机内自来 水的电导率
47
工艺技术人员对RENA机的工作内容及要求
对于RENA机，工艺技术人员最主要的工作就是要保证片子出来后符合工艺参 数要求在这边主要的一个工作内容包括以下几点： 1：保证RENA机各槽溶液的一个及时准确的更换，每个班必须记录下当天所换 药品，以确保下个班工艺能及时准确的了解。（一般换碱液工艺人员控制在40分 钟之内，更换蚀刻槽液体控制在3~4小时，更换HF酸控制在2~3小时）
RENA产品介绍
Dimensions 6500 x 3100 x 2400 mm (length x width x height) Throughput Depending on number of separation modules and proportion of good wafers • Wafer size 125 and 156 mm, 2650 wafers/h net Wafer thickness > 150 μm Media consumption • DI water 1-0.02 MOhm (1 - 50 μS/cm) 200 l/h temperature [°C] 18 +/- 3 • Compressed air 5 m3/h • Electricity 380 – 400 V AC +5% 3Ph+N+PE, 50 Hz 20 A
Throughput • Up to 3000 wafers/h dependent on wafer size Media consumption • Compressed air < 6 Nm3/h • Electricity 380 – 400 V Ac + 5% 3Ph+N+PE 50 Hz < 25 A Options • Shape/dimensional detection • Inline weighing • Complete inspection systems
refa洗脸刷中文说明书
refa洗脸刷中文说明书
refa 打造的又一洗面产品RefaClear，采用了3D音波上下左右震动方式，握住手柄后产生的离子能将肌肤毛孔上的污垢吸出并清除，特别在于它的刷毛，是选用广岛有名手工艺品熊野笔，毛刷非常细致柔软。
敏感皮肤都可以安全使用。
ReFaCLEAR通过对皮肤表面的凹凸起伏和毛孔大小进行3D分析而设计的椭圆音波震动轨道，可以覆盖普通洁面无法清洁到的每一个角落，宽~，长的音波震动轨道，将皮肤的所有沟壑以及毛孔深处的污垢全部洗净。
简直如春风般细腻温柔，完全不用担心皮肤受到损害。
refa洗脸刷用法
ReFa CLEAR有三种模式，一到时间就自动断电，用起来灰常方便省心。
Soft模式(1分钟)：温和洗净模式，适合清晨洗脸以及第一次使用的人。
Clean模式(1分钟)：彻底洗净模式，适合在外忙碌一整天的人以及晚间卸妆后使用。
Deep模式(30秒)：深层清洁模式，适合脸上出油厉害或毛孔问题较严重的人。
refa洗脸刷
一直以按摩滚轮著称的Refa也发售震动洗脸刷了，新洗脸刷叫做RefaClear，除了经典的三维震动模式外，电荷的加入能帮助表皮
的污垢浮起，达到更高效彻底的清洁力度。
具有圆弧表面的熊野笔刷头，超级柔软舒适。
REFA音波洗脸刷登场，左右、上下立体震动，通过电荷的力量清除污垢、深层清洁毛孔、去除酸化皮脂，刷头是经过特殊加工的熊野笔刷，惊人的柔软和舒适的使用感，使用1个月毛孔几乎消失，肌肤透明感UP。
RENA产品介绍
WTS硅片传输系统
―WTS‖系列自动传输系统，可对敏感性硅片进行 更好处置，并有效降低破损率。
优势和特性： 配备自动化硅片破损检测和分选系统 可达10条的流水线并轨的传输系统 温和的硅片传输系统—硅片仅以自重放置于传送带上 设有硅片规格快速转换系统，适用于各种规格的硅片 高可靠性，对新型的硅片有良好的兼容性 最高可达3000片/小时的产能（取决于不同硅片规格）
Wafer Inputautomated inline wafer cleaning
技术参数
Process • Final cleaning and drying of pre-cleaned, rectangular silicon wafers • Ultrasonic cleaning at different frequencies • Optimised inline transport system for thin solar wafers • Rinsers connected as cascades to minimise water usage • Cleaning is supported by minimum quantity of cleaning chemicals Dimensions 5 lanes 10570 x 2000 x 2200 mm (length x width x height) 8 / 10 lanes 7200 x 2500 x 2200 mm Throughput Gap between wafers: 60 mm Multi Mono 5 lanes • Wafer size 156 mm 2800 wafers/h net 2.2 m/min 2400 wafers/h 1.9 m/min 8 lanes • Wafer size 156 mm 2800 wafers/h net 1.5 m/min 2400 wafers/h 1.3 m/min 10 lanes • Wafer size 125 mm 4100 wafers/h net 1.5 m/min 3600 wafers/h 1.3 m/min
RENA操作
2 关于temperature（温度）报警
出现此类报警时，需确认coolingunit在工作，确认有 循环流量，然后等待并观察温度是否降低。
41
3 关于pump（泵）报警
出现此类报警时，需确认报警槽的溶液量是否达到 液位要求，循环是否正常。如有异常，补加药液并手动打 开槽体循环。检查该槽喷淋滤芯是否正常。
37
硅片表面未洗干净
手指印及其 他人为污染 非扩散面有明 显大面积脏污 停止 查看各槽循环 正常 严格遵守生 产操作规范 异常 通知设备 停止 打开循环 通知设备 清理喷淋 及风刀 有效 硅片表面发黄
查看碱槽循环 正常
查看各槽喷淋 及风刀
正常 刻蚀槽补药
异常 查看碱槽喷淋及 风刀 正常 增大碱槽流量
6
主操作界面
7
带数
带数
刻蚀槽温度
碱槽温度
风刀功率 循环流量 刻蚀槽寿命 酸、碱槽寿命
8
Manual界面
9
注：管路图，其中黄色为酸管路，紫色为碱管路， 绿色为水管路，灰色为压缩空气
10
Etch bath 刻蚀槽，是整个设备的核心部分，作用是去除背结、边缘 绝缘；主要含有DI水、H2SO4、HF、HNO3、按一定比例混合均匀后配 成。反应温度通常在5～8度。 主要反应方程式有： 1: Si + 4HNO3 = SiO2 + 4NO2 + 2H2O 2: SiO2 + 4HF = SiF4 + 2H2O 3: SiF4 + HF= H2SiF6
是
通知设备人员处 理
39
RENA设备常见报警信息
40
1 关于waferjam（叠片）报警
出现此类报警时，设备人员调整滚轮并取出碎片。如果 是滚轮原因造成上述报警，同时上级决定暂时不能停机， 可选择不在报警道投片，待工艺换药或设备PM时进行相应 调整。此外可要求生产人员不定时检查各段滚轮是否正常 工作，设备中是否出现卡片、碎片。如果出现上述异常， 需及时调整片间距，减少叠片的发生。
rena
Rena各部件功能介绍Rena各部件功能介绍-2 各部件功能介绍
• 8.电柜:放置安装设备总电源开关,各断路开关,电脑机箱以 8.电柜:放置安装设备总电源开关,各断路开关, 电柜 PLC(设备总控制器 设备总控制器). 及PLC(设备总控制器). • 9.后玻璃盖板:监视设备各部件运行情况,保护设备内气体流 9.后玻璃盖板 监视设备各部件运行情况, 后玻璃盖板: 隔绝设备尾气. 动,隔绝设备尾气. • 10.下料台:用于刻蚀后硅片卸片(插片). 10.下料台 用于刻蚀后硅片卸片(插片). 下料台: • 11.供气,供水管道:供应设备正常运转使用的压缩空气,纯水, 11.供气 供水管道:供应设备正常运转使用的压缩空气,纯水, 供气, 自来水以及冷却水. 自来水以及冷却水. • 12.排放管道:用于排去设备废水. 12.排放管道 用于排去设备废水. 排放管道: • 13.自动补液槽:用于储存设备自动运行时补偿的化学品. 13.自动补液槽 用于储存设备自动运行时补偿的化学品. 自动补液槽: • 14.集中供液管路:用于集中供液向自动补液槽添加化学品 14.集中供液管路 集中供液管路: 以及rena的首次加液. rena的首次加液 以及rena的首次加液. • 15.传动滚轴:用于rena设备内传送硅片. 15.传动滚轴 用于rena设备内传送硅片. 传动滚轴: rena设备内传送硅片
4
8 13
11 14
15 9 12 10
Rena水平刻 水平刻 பைடு நூலகம்清洗机2 蚀清洗机
8.电柜； 8.电柜； 9.后玻璃盖板； 9.后玻璃盖板； 10.下料台； 10.下料台； 11.供气，供水管道； 11.供气，供水管道；
12.排放管道； 12.排放管道； 13.自动补液槽； 13.自动补液槽； 14.集中供液管路 14.集中供液管路 ； 15.传送滚轴 传送滚轴. 15.传送滚轴.
电池片工艺流程
电池片工艺流程一、电池片工艺流程:制绒(INTEX)---扩散(DIFF)----后清洗(刻边/去PSG)-----镀减反射膜(PECVD)------丝网、烧结(PRINTER)-----测试、分选(TESTER+SORTER)------包装(PACKING)二、各工序工艺介绍:(一)前清洗1.RENA前清洗工序的目的:(1) 去除硅片表面的机械损伤层(来自硅棒切割的物理损伤)(2) 清除表面油污(利用HF)和金属杂质(利用HCl)(3)形成起伏不平的绒面，利用陷光原理，增加对太阳光的吸收，在某种程度上增加了PN结面积，提高短路电流(Isc)，最终提高电池光电转换效率。
2、前清洗工艺步骤: 制绒?碱洗?酸洗?吹干Etch bath:刻蚀槽，用于制绒。
所用溶液为HF+HNO3 ，作用:(1).去除硅片表面的机械损伤层;(2).形成无规则绒面。
Alkaline Rinse:碱洗槽。
所用溶液为KOH，作用:(1). 对形成的多孔硅表面进行清洗;(2).中和前道刻蚀后残留在硅片表面的酸液。
Acidic Rinse:酸洗槽。
所用溶液为HCl+HF，作用:(1).中和前道碱洗后残留在硅片表面的碱液;(2).HF可去除硅片表面氧化层(SiO2)，形成疏水表面，便于吹干;(3).HCl中的Cl-有携带金属离子的能力，可以用于去除硅片1/13页表面金属离子。
3. 酸制绒工艺涉及的反应方程式:HNO3+Si=SiO2+NOx?+H2OSiO2+ 4HF=SiF4+2H2OSiF4+2HF=H2[SiF6]Si+2KOH+H2O ?K2SiO3 +2H24. 前清洗工序工艺要求(1) 片子表面5S控制不容许用手摸片子的表片，要勤换手套，避免扩散后出现脏片。
(2)称重a.每批片子的腐蚀深度都要检测，不允许编造数据，搞混批次等。
b.要求每批测量4片。
c.放测量片时，把握均衡原则。
如第一批放在1.3.5.7道，下一批则放在2.4.6.8道，便于检测设备稳定性以及溶液的均匀性。
@前后清洗故障排除方法案例@
前后清洗的常见故障及解决措施温馨提示：大家以后有空把前后清洗常见的故障记录在这里面，可以互相学习探讨！如有补充或修改的可以更改，也可以留下未解决的问题共同探讨！Rinse1\2\3槽流量过低1、风刀堵塞：通风刀；2、滤芯堵塞（附着结晶盐）：冲洗滤芯，严重堵塞时更换新滤芯3、碱槽喷淋过大、碱槽风刀堵塞4、电机是否正常工作HF\HNO3 Fell bellow minimum flow原因\措施：1、酸槽溢流口被碎片堵塞：吸碎片；2、溢流阀漏：更换溢流阀；3、溢流口有碎片；Convergor 1\2\3 drive error原因\措施：1电机与该处滚轮的故障2 误操作.滚轮速度超出范围HCL Media supply 1 Level for replenishment（补加） not achieved原因\措施：HF\ HCL Supply Level for remix not achieved原因\措施：Rinse Acidic 1 Bath Pretection against dry running原因\措施：缺少水：加水Rinse1\2\3 Timeout filling原因\措施：加水时间不够：继续添加水Coolingunit Level not OK原因\措施：液位达不到，手动补水，810/18出料时硅片有细小水珠：原因\措施：1、调整风刀大小或其角度；2、HF酸药过少：添加HF酸；3、风刀部分堵塞如何判断滚轮是坏的【滚轮的下边缘与滚轮轴有一定的间隙】1、滚轮上下滚动幅度较大；2、上滚轮轴相对下滚轮轴转动左右摆动；3、滚轮接触Wafer时向上动作幅度不明显连续误报警叠片，报警不消失1、检查感应进出料的传感器的灵敏度（机器进出料口侧面下方），调整其灵敏度（正常情况下是小指示灯{8个}红绿交替）。
2、拧松或拧紧机器上放的报警指示灯（红→黄→绿），直至显示绿灯亮为止如何减少碎片【就Rena机器而言】1、保持所有上滚轮、下滚轮各自水平且互相平行【做PM时调水平】；2、保持上下滚轮的O-Ring圈良好接触；3、滚轮滚动时其滚轮中心轴应在一条直线上【观察时可以其他参照物进行参照】；4、滚轮轴应与滚轮内侧下边缘保持一定的间隙；5、定期固定滚轮轴；6、调节喷淋、通风、喷药时其角度和流量的速度，切勿过大；7、齿轮箱磨损8. O-Ring是否磨损叠片的可能原因：1、Exhuast排风速度强；2、风刀、喷淋速度快；3、滚轮不水平；4、挡板处滚轮支架磨损，挡板相对变高刻蚀槽电机泵转速慢，打药打不上来检查变频器电压、电机三相、PLC开复机（Copy程序）做W156片后换W125片时有大量叠片，竟检查在酸槽中有一滚轮错装，离喷淋隔了一根，使得滚轮与喷淋间隙增大，跑片时无滚轮压而受水流影响打漂，致使其歪片，换装到喷淋管旁边时，跑片正常。
reena说明书
reena说明书
1、先用温水将面部打湿，同时将reena洁面仪的刷面也用水湿润。
然后再取适量洁面产品于手心或者是起泡网上打出泡沫，再将泡沫均匀涂抹在面部，之后再用reena洁面仪开始清洁面部。
2、然后需要按一下洁面仪的中间键启动reena洁面仪，再根据自己的肌肤调节适合自己的模式，之后再沿着下巴处开始，轻轻向上移动直至清洁完一遍脸颊，再用同样的方法清洁另一边脸颊。
3、清洁完脸颊之后，接下来再将reena洁面仪轻轻移动至额头处，从额头中间向两边轻轻移动，直至清洁完整个额头。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
3. 酸制绒工艺涉及的反应方程式:
HNO3+Si=SiO2+NOx↑+H2O SiO2+ 4HF=SiF4+2H2O SiF4+2HF=H2[SiF6] Si+2KOH+H2O →K2SiO3 +2H2 NO2 + H2O = HNO3 + HNO2 Si + HNO2 = SiO2 + NO +H2O HNO3 + NO + H2O = HNO2
Alkaline Rinse：碱洗槽 。 所用溶液为KOH，作用： 1. 对形成的多孔硅表面进行清洗； 2.中和前道刻蚀后残留在硅片表面的酸液。 Acidic Rinse：酸洗槽 。 所用溶液为HCl+HF，作用： 1.中和前道碱洗后残留在硅片表面的碱液； 2.HF可去除硅片表面氧化层（SiO2），形成疏水表面，便于吹干； 3.HCl中的Cl-有携带金属离子的能力，可以用于去除硅片表面金属离子。
前清洗到扩散的产品时间:
单晶硅片碱制绒绒面形状
多晶硅片酸制绒绒面形状
2. 陷光原理：
光在光滑半导体薄片表面上的 反射、折射和透射
陷光原理图
当入射光入射到一定角度的斜面，光会反射到另 一角度的斜面形成二次吸收或者多次吸收，从而增加 吸收率。
腐蚀深度在4.4± 0.4µ 时，制绒后的硅片表面反射率要一般 m 在20%~25%之间，此时得到的电性能较好。
Rinse 1~3：水洗槽，水洗槽与槽之间相互联通。水洗槽中液面高度 Rinse 3＞Rinse 2 ＞ Rinse 1。进水口在Rinse 3处。 Dryer 1和Dryer 2为风刀，通过调节风刀的角度和吹风的压力，使硅 片被迅速吹干。 滚轮分三段设定速度，其中converyor1≤converyor 2≤converyor 3，（ 传送带）否则前快后慢，易在设备中因为叠片而造成碎片。滚轮速度 （即制绒时间）根据需要的腐蚀深度来进行设置，生产过程中可根据 测试结果来进行滚轮速度修正。一般滚轮速度慢，则反应时间增加， 腐蚀深度加深，反之亦然。 (注:前清洗速度最好不要超过1.2m/min，速度过快，一方面硅片清洗 或吹不干净，扩散容易出现蓝黑点片；另一方面碎片高，有时碎片会 堵住喷淋口，清洗后出现脏片。此外，滚轮速度也不可太慢，否则影 响产量。)
主操作界面
Manual界面
刻蚀槽管路图
A1. 换药时酸液流动方向 A2.补药时酸液流动方向 B. 循环时液体流动方向 C. DI Water 流动方向 D. Cool water 流动方向 E. Exhaust(acidic gas) V/V and Sensors a-c: liquid level sensor, a:under the level, not enough b: liquid is full c: liquid overfill d: liquid will overfall f: V/V open while liquid circulation g/G:MFC1 h: thermometer i: conductivity meter j: MFC2(Etch Bath airknife) k: MFC3 l:pump
当药液寿命（Bath lifetime）到后，需更换整槽药液。
酸洗槽的作用： 1.中和前道碱洗后残留在硅片表面的碱液； 2.HF可去除硅片表面氧化层（SiO2），形成疏水表面，便于吹干； 3.HCl中的Cl-有携带金属离子的能力，可以用于去除硅片表面金属离子。
Etch bath：刻蚀槽，用于制绒。 所用溶液为HF+HNO3 ，作用： 1.去除硅片表面的机械损伤层； 2.形成无规则绒面。
补液:
自动补液：当腐蚀深度控制在4.4± 0.4µm范围内时，硅片的腐蚀重量约 为0.3g/片，通过感应器计数，当跑片达到一定量时，机器自动对刻蚀槽 进行补液,其中HF量为0.05±0.005kg、 HNO3量为0.05±0.005kg。
手动补液：根据实际硅片的腐蚀情况，有时需要进行手动补液。通常每次 补液量如下： Replenishment Etch bath: HF 9.000L （补液） HNO3 6.000L Replenishment Alkaline: KOH 2.000L Replenishment Acidic: HCl 4.000L HF 2.000L 也可根据实际情况减少或增加手动补液量。但用量比例按照上述之比
Dryer2
Etch bath：刻蚀槽，用于制绒。 所用溶液为HF+HNO3，主要工艺参数： Firstfill volume:480L; Bath processtemperature:7± 2 ℃ concentrations of chemical:HF(154g/L)&HNO3 (358g/L); Quality:100.0Kg; Setpoint recirculation flow:140.0L/min; 制绒过程中根据腐蚀深度，可对温度作适当修正。越高的温度对应越快的反应 速度，故如果腐蚀不够则可适当提高反应温度，反之亦然。一般每0.1 ℃对应 约0.1µ m的腐蚀厚度。当药液寿命（Quality）到后，需更换整槽药液。 刻蚀槽的作用： 1.去除硅片表面的机械损伤层； 2.形成无规则绒面。
Alkaline Rinse：碱洗槽 。 所用溶液为KOH，主要工艺参数： Firstfill concentration of chemical:5%; Bath lifetime:250hours; Bath processtemperature:20±4 ℃ 当药液寿命（Bath lifetime）到后，需更换整槽药液。
例 ，补药过程一般不建议加入DI water。
前清洗补液原则
当腐蚀深度不够时，只对Etch bath进行手动补液。当 硅片表面有大量酸残留，形成大面积黄斑时，需要对KOH
进行手动补液。当硅片经过风刀吹不干，则可能硅片表面
氧化层未被洗净，此时可适当补充酸。
SPC控制(Statistical Process Control)即统计过程 每批次抽取4片样品，测量腐蚀前后的质量差，然后根据公式可获得腐 蚀深度，125单晶要求控制腐蚀深度在4.4± 0.4µm ,同时制绒后的硅片反射 率要求控制在21%~24%之间。
3.放测量片时，把握均衡原则。如第一批放在1.3.5.7道，下一批则 放在2.4.6.8道，便于检测设备稳定性以及溶液的均匀性。
刻蚀槽液面的注意事项： 正常情况下液面均处于绿色，如果一旦在流片过程中颜色改变，立 即通知工艺人员。
产线上没有充足的片源时，工艺要求: 1.停机1小时以上，要将刻蚀槽的药液排到tank，减少药液的挥发。 2.停机15分钟以上要用水枪冲洗碱槽喷淋及风刀，以防酸碱形成的 结晶盐堵塞喷淋口及风刀。 3.停机1h以上，要跑假片，至少一批（400片）且要在生产前半小时 用水枪冲洗风刀处的滚轮，杜绝制绒后的片子有滚轮印。
Recipe界面
Replenish界面
Trend界面
4.前清洗换药规程
5. 前清洗工序工艺要求
片子表面5S控制 不容许用手摸片子的表片，要勤换手套，避免扩散后出现脏片。
称重
1.每批片子的腐蚀深度都要检测，不允许编造数据，搞混批次等。 2.要求每批测量4片。
腐蚀深度与电性能间的关系
在绒面硅片上制成PN结太阳电池，它有以下特点:
(l)绒面电池比光面电池的反射损失小，如果再加减反射膜，其反射率可进
一步降低。 (2)入射光在光锥表面多次折射，改变了入射光在硅中的前进方向，不仅延 长了光程，增加了对红外光子的吸收，而且有较多的光子在靠近PN结附近 产生光生载流子，从而增加了光生载流子的收集几率。 (3)在同样尺寸的基片上，绒面电池的PN结面积比光面大得多，因而可以提 高短路电流，转换效率也有相应提高。 (4)绒面也带来了一些缺点:一是工艺要求提高了；二是由于它减反射的无 选择性，不能产生电子空穴对的有害红外辐射也被有效地耦合入电池，使 电池发热；三是易造成金属接触电极与硅片表面的点接触，使接触电阻损 耗增加。
碱洗槽的作用：
1.洗去硅片表面多孔硅； 2.中和前道刻蚀后残留在硅片表面的酸液。
Acidic Rinse：酸洗槽 。 所用溶液为HCl+HF，主要工艺参数： Firstfill concentration of chemical:HCl(10%)&HF(5%); Bath lifetime:250hours; Bath processtemperature:20± 2 ℃
刻蚀深度与电性能间的关系
设备的日常维护主要是滤芯的更换；视硅片清洗后 的质量排查可能的设备原因，调整喷淋和风刀的角度和 强度；药液寿命到后换药过程中清洗酸碱槽，以及清理 滚轮和各槽中碎片。
需要注意的是碱槽的喷嘴角度和流量需要控制好， 否则碱液易喷至Rinse1中，而Rinse1中洗下的酸液和上 述碱液易在该槽中生成盐，使该处的滤芯很快被堵住而 失效。
RENA前后清洗工艺培训
Confidential
一、什么是太阳能电池
1.太阳能电池的原理
太阳电池是利用光生伏特效应， 把光能直接转换成电能的一种器件。 它的工作原理可以概括成下面 几个主要过程：第一，必须有光的 照射，可以是单色光，太阳光或我 们测试用的模拟太阳光源。第二， 光子注入到半导体后，激发出电 子—空穴对。这些电子空穴对必须 有足够的寿命保证不会在分离前被 附和。第三，必须有个静电场（PN 结），起分离电子空穴的作用。第 四，被分离的电子空穴，经电极收 集输出到电池体外，形成电流。
2.设备构造
前清洗工艺步骤： 制绒→碱洗 →酸洗→吹干 RENA Intex前清洗设备的主体分为以下八个槽，此外还有滚轮、排 风系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。
Etch bath Dryer1 Rinse1 Alkaline Rinse