电镀层及其质量.
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镀金微孔
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– 优化接触界面的性质,尤其是连接器的机械和电气 性能。
• 与机械性能有关的参数主要是影响镀层的耐久性、或磨损, 以及配合力的因素。最重要的机械性能包括硬度,延展性 和镀层材料的摩擦系数。 • 电气性能的优化可从如下方面考虑,即对已经存在和即将 形成的位于接触镀层表面薄膜的控制。主要需求是建立和 维持稳定的连接器阻抗。
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二、镀金层微孔问题
4. 微孔形成的原因
① 电镀工艺:电流、时间、镀层厚度造成的颗粒沉积 状态 ② 电镀过程中沉积在被镀表面的绝缘颗粒
• 如灰尘、被氧化或腐蚀的金属颗粒、镀液中的绝缘杂质和 有机污染物颗粒等,造成金离子无法在其上面取得电子还 原成金颗粒而形成孔隙。 用微孔率(个/平方厘米)来表明微孔程度。实验表明, 微观表面越粗糙,微孔率越高。这是因为表面越粗糙,金 离子还原成金颗粒越不均匀,出现孔隙的机会越多。
1. 定义:电镀就是在电场作用下溶液中的金属离子 还原的过程。对电接触处的电镀和其他部位不同, 有其特殊要求,它对电接触的可靠性有着重要的 意义。
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二、电镀
2. 对滑动接触的电镀材料要求:
– 镀金层中的微孔有钝性和活性之分。当中间镀层为Ni或Sn/Ni时,微 孔中形成的氧化物具有保护性,而当中间镀层为Cu,Ag等时,微孔 中形成的腐蚀物很快就会蔓延至金表面,使接触不可靠。
– – – – – – 低电阻率 耐磨性 耐腐蚀性 与基底金属(Cu、Ni)的附着能力强 易焊性 微孔率低
3. 目前应用最广泛的材料是金及其合金;银及其合金、 钯、铑等。 4. 通常还为了节约贵金属,常用选择性电镀方法,只在 电接触处镀贵金属,其他部位则镀一般材料。
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图 镀金层厚度与微孔率间的关系 横坐标:镀金层厚度,单位:微米 纵坐标:微孔率,单位:微孔 / 平方 厘米
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二、镀金层微孔问题
6. 解决方法
① 净化环境、隔绝灰尘、清洁处理被镀材料表面(超声振动及溶 液去油污处理) 、清除镀液杂质(镀液循环过滤)等。 ② 提高基底材料表面光洁度可大大减少微孔率,通常可在镀金 前先光亮镀铜,以填充基底材料的微观凹凸表面,降低微孔 率。 ③ 在实际的电镀触点中,将镍作为中间镀层 – A.降低对微孔的敏感性,
2. 镀金表面微孔的形貌 3. 微孔对电接触的影响
大气中的腐蚀性潮湿性气体将由微孔的毛细孔作用而进入并接 触基底金属而成为沉积在内的电解液。由于金的电极电位高, 呈阴极,基底铜的电极电位低呈阳极。因此在金和铜之间形成 微电池腐蚀,基底材料铜被腐蚀。腐蚀生成物的体积远大于被 腐蚀的金属体积,因此腐蚀物就会沿微孔蔓延至镀层表面,造 成接触不良。
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二、镀金层微孔问题
1. 微孔的形成:
在电镀过程中,溶液中的金还原沉积在基底材料表面时,首先 呈核状,然后逐渐扩展,在颗粒之间不可避免地要出现间隙。 表现为金镀层通往基底金属的微孔。
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第一节概述
二、电接触表面覆盖金属的方法
• 电镀、镶嵌、熔焊、铆接、真空蒸发、离子溅射 和化学覆盖等, 其中电镀在接插件和开关件接触表面上的应用较 为广泛。
•
三、电镀
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电镀层及其质量
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内容
• • • • • • 第一节 概述 第二节 金及其合金 第三节 银及其合金 第四节锡及其合金 第五节铜及其扩散 第六节 接触材料的分类
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③ 基底材料粗糙度的影响
•
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二、镀金层微孔问题
5. 镀层厚度、表面粗糙度 与微孔率的关系
① 提高基底材料表面光洁度 可大大减少微孔率; ② 增加镀层厚度,颗粒之间 交错,堵塞孔隙,可使微孔 率减少。若镀金层的厚度 超过 5 μ m ,则基本没有微 孔,但由于成本价格等原 因,实际上镀金层的厚度 一般0.75~1.5微米。
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第一节 概述
一、使用接触镀层的原因 – 保护接触弹片的基材金属不受腐蚀,
• 接触镀层是用来封闭接触弹片与工作环境隔开以防止铜的 腐蚀。当然,镀层材料在其工作环境里必须不被损害(至 少在有害的范围内)。
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第二节 金及其合金
一、金及其合金特点
1. 优点:电阻率低、抗腐蚀、易焊接、与基 体材料如铜及其合金、镍等都有良好的附 着性。 2. 缺点:价格昂贵、电镀层比较薄、微孔问 题突出。纯金属硬度低,易粘结磨损,宜 用Au -Co合金。
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– 优化接触界面的性质,尤其是连接器的机械和电气 性能。
• 与机械性能有关的参数主要是影响镀层的耐久性、或磨损, 以及配合力的因素。最重要的机械性能包括硬度,延展性 和镀层材料的摩擦系数。 • 电气性能的优化可从如下方面考虑,即对已经存在和即将 形成的位于接触镀层表面薄膜的控制。主要需求是建立和 维持稳定的连接器阻抗。
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二、镀金层微孔问题
4. 微孔形成的原因
① 电镀工艺:电流、时间、镀层厚度造成的颗粒沉积 状态 ② 电镀过程中沉积在被镀表面的绝缘颗粒
• 如灰尘、被氧化或腐蚀的金属颗粒、镀液中的绝缘杂质和 有机污染物颗粒等,造成金离子无法在其上面取得电子还 原成金颗粒而形成孔隙。 用微孔率(个/平方厘米)来表明微孔程度。实验表明, 微观表面越粗糙,微孔率越高。这是因为表面越粗糙,金 离子还原成金颗粒越不均匀,出现孔隙的机会越多。
1. 定义:电镀就是在电场作用下溶液中的金属离子 还原的过程。对电接触处的电镀和其他部位不同, 有其特殊要求,它对电接触的可靠性有着重要的 意义。
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二、电镀
2. 对滑动接触的电镀材料要求:
– 镀金层中的微孔有钝性和活性之分。当中间镀层为Ni或Sn/Ni时,微 孔中形成的氧化物具有保护性,而当中间镀层为Cu,Ag等时,微孔 中形成的腐蚀物很快就会蔓延至金表面,使接触不可靠。
– – – – – – 低电阻率 耐磨性 耐腐蚀性 与基底金属(Cu、Ni)的附着能力强 易焊性 微孔率低
3. 目前应用最广泛的材料是金及其合金;银及其合金、 钯、铑等。 4. 通常还为了节约贵金属,常用选择性电镀方法,只在 电接触处镀贵金属,其他部位则镀一般材料。
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图 镀金层厚度与微孔率间的关系 横坐标:镀金层厚度,单位:微米 纵坐标:微孔率,单位:微孔 / 平方 厘米
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二、镀金层微孔问题
6. 解决方法
① 净化环境、隔绝灰尘、清洁处理被镀材料表面(超声振动及溶 液去油污处理) 、清除镀液杂质(镀液循环过滤)等。 ② 提高基底材料表面光洁度可大大减少微孔率,通常可在镀金 前先光亮镀铜,以填充基底材料的微观凹凸表面,降低微孔 率。 ③ 在实际的电镀触点中,将镍作为中间镀层 – A.降低对微孔的敏感性,
2. 镀金表面微孔的形貌 3. 微孔对电接触的影响
大气中的腐蚀性潮湿性气体将由微孔的毛细孔作用而进入并接 触基底金属而成为沉积在内的电解液。由于金的电极电位高, 呈阴极,基底铜的电极电位低呈阳极。因此在金和铜之间形成 微电池腐蚀,基底材料铜被腐蚀。腐蚀生成物的体积远大于被 腐蚀的金属体积,因此腐蚀物就会沿微孔蔓延至镀层表面,造 成接触不良。
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1. 微孔的形成:
在电镀过程中,溶液中的金还原沉积在基底材料表面时,首先 呈核状,然后逐渐扩展,在颗粒之间不可避免地要出现间隙。 表现为金镀层通往基底金属的微孔。
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第一节概述
二、电接触表面覆盖金属的方法
• 电镀、镶嵌、熔焊、铆接、真空蒸发、离子溅射 和化学覆盖等, 其中电镀在接插件和开关件接触表面上的应用较 为广泛。
•
三、电镀
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电镀层及其质量
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内容
• • • • • • 第一节 概述 第二节 金及其合金 第三节 银及其合金 第四节锡及其合金 第五节铜及其扩散 第六节 接触材料的分类
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10
③ 基底材料粗糙度的影响
•
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二、镀金层微孔问题
5. 镀层厚度、表面粗糙度 与微孔率的关系
① 提高基底材料表面光洁度 可大大减少微孔率; ② 增加镀层厚度,颗粒之间 交错,堵塞孔隙,可使微孔 率减少。若镀金层的厚度 超过 5 μ m ,则基本没有微 孔,但由于成本价格等原 因,实际上镀金层的厚度 一般0.75~1.5微米。
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第一节 概述
一、使用接触镀层的原因 – 保护接触弹片的基材金属不受腐蚀,
• 接触镀层是用来封闭接触弹片与工作环境隔开以防止铜的 腐蚀。当然,镀层材料在其工作环境里必须不被损害(至 少在有害的范围内)。
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第二节 金及其合金
一、金及其合金特点
1. 优点:电阻率低、抗腐蚀、易焊接、与基 体材料如铜及其合金、镍等都有良好的附 着性。 2. 缺点:价格昂贵、电镀层比较薄、微孔问 题突出。纯金属硬度低,易粘结磨损,宜 用Au -Co合金。