高精密度平行光曝光机图形转移技术

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１前言
目前电子行业中ＰＢ路制作的图形转移曝光设Ｃ线备大多数为非平行光，属于散射光源，照射角度一般为３１。角，致使图形转移失真，对于精度要求高。－５的高密度电路板及液晶显示板，加工精度达不到高端
ａｉｔｏｍｏｅ２ｉ２ｌｌｅｃｐｃｔ．ｔｗａｃｉｖｉａｎｉｅｎｒｖｄｄａｓｏｇｔｃｎｃｌｂｌｙｔｖｍｌｍｉｉａａｉＩｉ／ｎｙｓｔａｈｅｅａｂｇｌｐｔｆｅｌｓａｄｐｏｉｅｔｎｅｈｉａｏｅｏｉｎｒ
（电子科技大学微电子与固体电子学院，四川成都６０５）１０４
、
摘ห้องสมุดไป่ตู้
要
随着电子产品高精度成像的需求，对印制电路板的设计与制造的要求也越来越高。这推动了ＰＢＣ生产所需
的曝光设备的研制为此研发出平行光曝光设备是制作密集细线路的关键。丈章介绍了平行曝光机工作原理，解析了高精密度平行光曝光机图形转移技术要点，￣ＰＢｎＣ粗糙度、贴膜、曝光、显影等。实验结果表明：可以从原来的０１７ｍ．ｍ／２０１７ｍ（ｉ／ｍ１线路能力提升到００ｒ／．５ｍ（ｍ１２ｉ）．２ｍ５１５ｉ）ｍ．５ｍ００ｍ２ｉ／ｍｌ能力，实现了向精细线路的大跨越，为制作高精密度线ａ
图形转移ｌａｉｇｍｇｎ
印制电路信息２１ｏ３０２Ｎ．
高精密度平行光曝光机图形转移技术
黄志远张建军梁四连（陵市超远精密电子科技有限公司，安徽铜陵２４０铜４００）杨小健王泽宇朱萌何为
ＡｂｓｒｃｔｔａＡｓａｖｎｅｎｅｅｔｏｉｒｄｔｔｎｒａｉｇｄｍａｓｆｒｈｇｅｅｏｕｉｎｏｇｎ，ｄａｃｓｉｌｃｒｎｃｐｏｕｃｓｗｉｈｉｃｅｓｎｅｎｄｏｉｈｒｒｓｌｔｏｆｉｍａｉｇ
ｌｇｔｅｐｏｕｒａｈｎｅｉｈｘｓｅｍｃｉ
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水平Ⅲ 【
高品质电器及高清晰显示器。为此研发出平行光曝光
设备。其主要特点：点光源配合反光镜镀膜技术，将宽光波长改变，将多余可见光滤出，Ｕｖ光控制在
３０ｎ一４０ｎ５ｍ一２ｍ，将其光反射在蜂镜上，将点光打散后，将光束改变成。～．。平行光，而且通过控１１５
ｔｒｒｒａｅｅａｄｎｐｉｔｄｃｒｕｔｂａｄｄｓｇｎａｒｃｔｏ．ｅｅｏｅｔｅｄｖｌｐｅｔｅｐｒｌｅｈｅｅａｅｇｅｔｒｄｍｎｓｏｒｎｅｉｃｉｏｒｅｉｎａｄｆｂｉａｉｎＴｈｒｆｒ，ｈｅｅｏｍｎｔａａｌｌｏｆｈｌｈｘｏｕｒｅｉｅｉｈｙｔａｉｇｉｔｎｉｅｆｅｌ．ｉｔｅｐｓｅｄｖｃｓｔｅｋｅｏｍｋｎｎｅｓｖｎｉＴｈｉｐｒｉｔｏｕｅｈｅｗｏｋｎｇｐｉｃｐｅｏｅｇｉｎｅｓｐａｅｎｒｄｃｄｔｒｉｒｎｉｌｆｔｈｐｒｌｅｘｏｕｅｍａｈｎｎｄａｌｚｄｔｅｈｇ－ｒｃｓｏａａｌｌｏｉａｉｏｒｐｙｐａｔｍｒｎｆｒｔｃｎｉａａａｌｌｅｐｓｒｃｉｅａｎａｙｅｈｉｈｐｅｉｉｎｐｒｌｅｐｔｌｌｈｇａｈｔｅｔａｓｅｅｈｃＪｃｔ
路板提供了强大的技术基础。关键词ＰＢ；平行曝光机；图形转移Ｃ
文献标识码：Ａ文章编号：１０ — ０６（０２）３０３ — ３０９０９２１０—０４０中图分类号：Ｔ４Ｎ１
，
Ｉａｉｇｔｃｎｌｇｆｉｈｐｅｉｉｎｐａａｌｌｍｇｎｅｈｏｏｙｏｇｒｃｓｏｒｌｈｅ
ｆｕｄｔｎｆｒｔｒｄｃｉｎｏｉｈｐｅｉｉｎｃｒｕｔｂａｄｏｎａｉｏｐｏｕｔｏｆｈｇ — ｒｃｓｏｉｃｉｏｒ．ｏｈｅ
Ｋｅｙｗｏｒｄｓ
ＰＣＢ；ａｒｌｘｓｅｍａｈｉｅ；ｍａｎｐａｌｅｐｏｕｒｃｎｉｇｉｇｅｌ