示踪阻垢分散剂的合成及其性能开题报告

五 难点和拟采取的解决办法
1.示踪阻垢分散剂的合成受引发剂、温度等各种 因素的影响。 对反应条件及合成工艺进行研究，寻找最佳工艺
2.用水作为合成聚合物的溶剂是，所合成的荧光 单体的水溶性较差。 把荧光单体溶于一种和水互溶的有机溶剂中。
3.聚合反应过程中，由于不饱和单体容易自聚不 利于目标产物的合成。 可以通过延长单体滴加时间的方法解决这一问题。
X
X
双基终止 ：
R C H 2 C H C HC H 2 R XX
2 阻垢性能依据
阻垢剂是一种能阻止无机盐类，尤其是CaCO3、 CaSO4、Ca(PO4)2、Mg(OH)2等负溶解性难溶盐的 沉积成垢，目前在工业循环冷却水系统、海水淡化、 锅炉、地热资源开发以及油气田等众多场合中得到 了广泛应用。阻垢机理是一个复杂的过程，包括好 几种作用，如螯合作用、分散作用、晶格畸变作用 等。
三、选题的依据
1 荧光单体合成 作为亲核试剂，一级胺、二级胺仍像氨一样，能与
酰氯、酸酐、酯作用生成酰胺。三级胺氮原子上没有氢 原子，所以不能生成酰胺。在亲核取代中，溴离子是很 好的离去基团，甲氧基是很好的亲核试剂，因此反应易 于发生。
1 聚合合成依据：
本反应属于自由基聚合反应，其大致存在以下过程 （1）.引发剂通过吸热分解为初级自由基:
I
2R
（2）.初级自由基与单体加成生成单体自由基:
RM
R M
（3）R M .链增M 长R M 过M 程:M R M M M M R M M M M
R C H 2 C H
R 1
（4）.链终止反应：
X
R C H 2 C HR 1 X
消耗一个自由基从而终止反应：
R C H 2C H C H C H 2 R
O
NCH2CH2NHCOCHCH2
R
O H3CO
O O
NCH2CH2NHC
Hale Waihona Puke R为AA、MA、AM、SVS、SAS等。
O CH2CR n COOH
七、预期结果以及创新点
预期结果： 通过实验的摸索，寻找出一条能制备出稳定且性
能优越的示踪型阻垢分散剂的道路，降低荧光检 出下线，提高阻垢率。
创新点
1.本研究所合成的荧光单体是以4-Br-1,8-萘二甲 酸酐和乙二胺为原料合成，且此荧光单体不溶于 水。
示踪阻垢分散剂的 合成及其性能
学 院：化工学院 班 级：研101 姓 名：石丽丽 指导老师：张光华教授
二、国内外研究动态和水平
目前,随着科学技术的发展, 阻垢剂的研究也在不断地深 入并日趋成熟,其特点及功能在日趋完善的同时，种类亦在 不断增加。近年来, 共聚物阻垢剂一直是循环冷却水处理药 剂研究的热点。如何精确地测定由于水量变化和药剂的降解 或分解造成的浓度变化， 实现自动补充药剂， 一直是国内 外水处理工作者和研究人员追求的目标之一。荧光检测技术 的关键是得到具有荧光示踪的水处理剂，这是近年来国内外 研究的热点。在这方面做出杰出贡献的人物有Moriarty、 Kagiya Tsutomu、Fong等。
2.荧光单体和阻垢单体通过自由基共聚合成了新 的含荧光基团的阻垢分散剂。
谢 谢！
4.合成荧光单体所需的丙烯酰氯易分解。
可以在冰浴下滴加。
六、研究方法及技术路线
荧光单体的合成
O
O
Br
O
H2NCH2CH2NH2 Br
NCH2CH2NH2
O
NaOCH3
H3CO
O O
CH2CHCOCl NCH2CH2NH2
O
H3CO
O NCH2CH2NHCOCHCH2
O
第二步：聚合生成分散剂
H3CO
技术依据：
根据示踪阻垢分散剂的作用机理和结构特征， 可以设计合理的分子结构，它的分子结构主要有 两部分组成，荧光单体和水处理药剂单体。常见 的荧光聚合物的合成方法有两种，一种是通过含 一定侧基的聚合物与一定的有机荧光衍生物之间 的（转）酰胺反应；另一种是将水处理药剂单体 与 荧光化合物或由其标记的单体直接进行共聚。
前期工作研究依据：
分析文献中同类型示踪阻垢分散剂开发与应 用过程中的优点与不足，结合自己的方案，初试 并完善实验方案。
四 研究内容
1.示踪阻垢分散剂的制备； 2.对合成物进行性能测试及表征； 3.示踪阻垢分散剂的应用实验； 4.根据应用实验情况，研究讨论合成阻垢分散剂
的最佳工艺条件和物料配比等。
示踪型阻垢剂在国内近几年才开始研究，主要研 究的是加强荧光有机酸盐与水处理剂共聚的研究； 进一步筛选了合成好的荧光单体，使得聚合物中 荧光单体的加入不影响聚合物的性能，在有氧化 型杀生剂存在时较稳定，不易被破坏且荧光聚合 物容易被监测；合成所需原料应经济易得。在国 内主要研究者有于丽华、雷武、张跃华等。