MASK介绍与曝光机原理

MASK介绍与曝光机原理

Mask说明：

将mask上的图形通过曝光（UV光），复制到玻璃基板上，通过显影等方式，形成CF图形。

mask样图：

Mask规格

一、mask规格

1.适用范围

本规格书适用于清溢精密光电(深圳)有限公司为湖南普照爱伯乐显示器件有限公司提供的苏打玻璃铬版。

2.铬版规格

本资料为清溢精密光电（深圳）有限公司专有之财产，未经书面许可，不准透露或使用本资料，并不准复印、复制或转变为任何其它形式资料使用。

-p3/p12Document No:Rev.：

QINGYI PRECISION MASKMAKING[SHENZHEN]CO.,LTD

尺寸精度量测方式

项目规格

线缝精度测量贵司整版图形中最小的线(缝)宽整版测量图形

中靠四个角的单粒和图形中间位置单粒

(共五个单粒)，每个单粒选取两根线(缝)测量

(共10 条),如图一所示

①②E③④

C⑤⑥D

B

⑦⑧⑨⑩

F

产品型号

A

图一

*若贵司图形中最小线缝超越报价评审的最小线缝

范围和线缝精度，或贵司要求测量其它位置，应事先通知

协商.

外形尺寸精度测量铬版上两长边之间的距离及两短边之间的距离并计算与设计值的偏差，即图一中A、B的测量值与

设计值的偏差.

*若贵司需指定测量位置，应事先通知协商

图形居中精度测量铬版上图形四周边缘与铬版边缘的距离并计算与设计值的偏差，即图一中C、D、E、F的测量值与

设计值的偏差

*若贵司需指定测量位置，应事先通知协商

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QINGYI PRECISION MASKMAKING[SHENZHEN]CO.,LTD

总长精度测量MASK图形中长边及短边指定标记之间的距离并计

算与设计值的偏差；一般选取靠近图形边缘的四个十字

标记，测量之间的距离。如图二所示P1、P2、P3、P4 四

个标记之间的距离：

P4P3

P1P2

图二

*普通等级的铬版出货时不测量总长，如贵司需测量，

或贵司需指定测量标记，应事先通知协商

套合精度*测量MASK图形中长边及短边指定标记之间的距离并计算与同一套版中其它MASK的偏差；一般选取靠近图形边

缘的四个十字标记，测量之间的距离。如图二中P1、P2、

P3、P4四个标记之间的距离：

*普通等级的铬版出货时不测量套合，如贵司需测量，

或贵司需指定测量标记，应事先通知协商

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3.缺陷规格

3-1缺陷区域定义

区域定义

A图形关键显示区域

B区对位标记、引线区等非关键显示图形

C填充块、单粒中间、图形旁边等非图形区域

D图形区边缘距铬版边缘的区域

E产品标识

若贵司对缺陷区域定义有差异，需事先通知协商。

示意图：

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X

3-2 各区域缺陷规格

项目

规格

针孔

A 区：W ≤5um (且≤线宽 1/3) X

B 区：W ≤10um (且≤线宽 1/3) Y

C 区：目视看不到即可

D 区：无定义

E 区：无定义

W ＝（X+Y ）/2

凹陷（白凸） A 区：W ≤5um (且≤线宽 1/3)

B 区：W ≤10um (且≤线宽 1/3) X

C 区：目视看不到即可 Y

D 区：无定义

E 区：无定义

W ＝（X+Y ）/2

毛刺（黑凸） A 区：W ≤5um (且≤线宽 1/3)

B 区：W ≤10um (且≤线宽 1/3) Y

C 区：目视看不到即可

D 区：无定义

E 区：无定义

W ＝（X+Y ）/2

黑点

（铬残留） A 区：W ≤5um (且≤线宽 1/3)

X

B 区：W ≤10um (且≤线宽 1/3)

Y

C 区：目视看不到即可

D 区：无定义

E 区：无定义

W ＝（X+Y ）/2

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清溢精密光电[深圳]有限公司

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项目规格

连线不允许

断线不允许

划伤A区、B区：不影响曝光（透射光不阻碍光线透过）的轻微划伤允许。

C区：目视无划伤D

区、E区：无定义

脏点A区、B区：

1.不影响曝光的脏点允许

2.对于会使光线无法透过的污垢现象,则依黑点的规格

而定(包括异物和气泡)

3.对于看得到的污垢,若能用空气枪除去或用酒精

/D I水或其它MASK清洗剂清洗掉则可;若不能除去则依黑点

规格处理.

C区：目视不可见，允许D

区、E区：无定义

玻璃崩边/崩角X*Y*Z≥3.0*3.0*3.0mm，不允许整版2个以上不允许