光学镜片加工工艺
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光学镜片加工工艺
光学冷加工工序
玻璃镜片抛光工艺
镜片抛光
光学冷加工工艺资料的详细描述 模具机械抛光基本程序（对比）
2
3
4
光学清洗工艺10
镀膜过程中喷点、 潮斑（花斑）的成因及消除方法
12
抛光常见疵病产生原因及克服方法
光学冷却液在光学加工中的作用
23
25
光学冷加工工序
第
第
第
第
第
第
第
第
1
2
3
4来自百度文库
5
道：铣磨,是去除镜片表面凹凸不平的气泡和杂质,（约0.05-0.08）起到成型
道就是精磨工序,是将铣磨出来的镜片将其的破坏层给消除掉,固定R值.
道就是抛光工序,是将精磨镜片在一次抛光,这道工序主要是把外观做的更 道就是清洗,是将抛光过后的镜片将起表面的抛光粉清洗干净.防止压克.
道就是磨边,是将原有镜片外径将其磨削到指定外径。
道就是镀膜,是将有需要镀膜镜片表面镀上一层或多层的有色膜或其他膜 道就是涂墨,是将有需要镜片防止反光在其外袁涂上一层黑墨.
2.氧化铈的颗粒度
粒度越大的氧化铈， 磨削力越大， 越适合于较硬的材料，ZF玻璃应该用偏细 的抛光粉。
目前抛光玻璃镜片所使用的抛光粉以氧化铈(CeO2)为主， 抛光液调配的比例依 抛光时期不同而有所不同， 一般抛光初期与和抛光模合模时使用浓度较高的 抛光液， 表面光亮后，则改用浓度较稀的抛光液，以避免镜面产生橘皮现象(镜片表面雾化)。
1.抛光粉的材料 抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组
的 材料的硬度不同， 在水中的化学性质也不同， 因此使用场合各不相 同。 氧化铝和氧化铬 的莫氏硬度为9，氧化铈和氧化锆为7，氧化铁更低。 氧化 铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高， 硬度也相当，因此广泛用于玻璃的抛光。 为了增加氧化铈的抛光速度，通常在氧化铈抛光 粉加入氟以增加磨削率。铈 含量较低的 混合稀土抛光粉通常掺有3－8的氟；纯氧化铈抛 光粉通常不掺氟。 对ZF或F系列的玻璃来说，因为本身硬度较小，而且材料本身的氟含 量较高， 因此因选 用不含氟的抛光粉为好。
抛光与研磨所用的运动机构相同，除了抛光的工具与工作液体不一样外，抛光时 环境条件亦较研磨时严苛。一般抛光时要注意的事项如下：
抛光沥青的表面与抛光液中不可有杂质，不然会造成镜面刮伤。 抛光沥青表面要与镜片表面吻合， 否则抛光时会产生跳动， 因而咬持抛光粉而刮伤镜片 表面。 抛
光前必须确定镜片表面是否有研磨后所留下的刮伤或刺孔。 抛光工具的大小与材质是否适当。
1.2抛光粉的种类和性能常用的抛光粉有氧化铈(CeO2)和氧化铁(FeO3)。
a.氧化铈抛光粉 颗粒呈多边形，棱角明显，平均直径约2微米，莫氏硬度7〜8级，
重约为7.3。由于制造工艺和氧化铈含量的不同， 氧化铈抛光粉有 白色(含量达到98%上) 、淡黄色、棕黄色等。
在抛光过程中添加抛光液要适当。 太少了参与作用能够的抛光粉颗粒减少， 降低抛光效率。 太多了，有些抛光粉颗粒并不参与工作，同时也带来大量液体使玻璃边面的温度下降，影
求在1卩m以上（包括1卩（）的抛光工艺在模具加工车间中一个清洁的抛光室内即可进行。
使用顺序为#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。许多模具制造商为了节约时间 而选择从#400开始。
（2）半精抛 半精抛主要使用砂纸和煤油。砂纸的号数依次为：~ #1200 ~ #1500。 实际上#1500砂纸只用适于淬硬的模具钢 于预硬钢，因为这样可能会导致预硬钢件表面烧伤。
响抛光效率。抛光液的浓度也要适当，浓度太低， 即水 分太多， 参与工作的抛光粉颗粒减 少并使玻璃表面温度降低， 因此降低抛光效率。 浓度太高，即水分带少，影响抛光压力， 抛光粉不能迅速散步均匀，导致各部压 力不等，造成局部多磨，对抛光的光圈（条纹）质 量有影响。而且单位面积压力 减少，效率降低，抛光过程中产生的碎屑也不能顺利排除， 使工件表面粗糙。一 般是开始抛光时抛光液稍浓些，快完工时，抛光液淡些，添加次数少 些，这有利 于提高抛光效率和光洁度。 另外，一般认为抛光液的酸度 （pH值）应控制在6〜8之间，否则玻璃表面会被腐蚀，影响表面光洁度。
模具机械抛光基本程序（对比）
模具要想获得高质量的抛光效果，最重要的是要具备有高质量的油石、砂纸和钻石研
磨膏等抛光工具和辅助品。 而抛光程序的选择取决于前期加工后的表面 状况，如机械加工、 电火花加工，磨加工等等。机械抛光的一般过程如下：
（1）粗抛 经铣、 电火花、 磨等工艺后的表面可以选择转速在 转表面抛光机或超声波研磨机进行抛光。 常用的方法有利用直径 去除白色电火花层。然后是手工油石研磨，条状油石加煤油作
（3）精抛 精抛主要使用钻石研磨膏。若用抛光布轮混合钻石研磨粉或研磨
话，则通常的研磨顺序是9^m（#1800）- 6um（#3000）~3^m（#8000）。9卩m的钻石研 磨膏和抛光布轮可用来去除#1200和#1500号砂纸留下 的发状磨痕。接着用粘毡和钻石研 磨膏进行抛光，顺序为1^m（#14000）- 1/2卩（（#60000）~1/4^m（#100000）。精度要
道就是胶合,是将有2个R值相反大小和外径材质一样的镜片用胶将其联合
作用.
好。
特殊工序:多片加工（成盘加工）和小球面加工（20跟轴）线切割 根据不同的生产工艺，工序也会稍有出入，如涂墨和胶合的先后次序。
玻璃镜片抛光工艺
用抛光机和抛光粉或抛光液一起下进行抛光要设定抛光时间,压力等参数.抛光
行清洗可浸泡,否则抛光粉会固化在玻璃上,会留有痕迹的.
沥青的软硬度与厚度是否适当。 抛光的过程中必须随时注意镜片表面的状况及精度检查。
透镜表面瑕疵的检查， 因为检测的过程是凭个人视觉及方法来判断，所以检验者应对
刮伤及砂孔的规范有深刻的认知， 要经常比对刮伤与砂孔的标准样版， 以确保检验的正确性。
光学冷加工工艺资料的详细描述(工艺过程老化)
1.抛光粉
1.1对抛光粉的要求a. b. c. d. e.颗粒度应均匀， 硬度一般应比被抛光材料稍硬； 抛光粉应 纯洁，不含有可能引起划痕的杂质； 应具有一定的晶格形态和缺陷， 并有适当的自锐性； 具有良好的分散性和吸附性； 化学稳定性好，不致腐蚀工件。
光学冷加工工序
玻璃镜片抛光工艺
镜片抛光
光学冷加工工艺资料的详细描述 模具机械抛光基本程序（对比）
2
3
4
光学清洗工艺10
镀膜过程中喷点、 潮斑（花斑）的成因及消除方法
12
抛光常见疵病产生原因及克服方法
光学冷却液在光学加工中的作用
23
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光学冷加工工序
第
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4来自百度文库
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道：铣磨,是去除镜片表面凹凸不平的气泡和杂质,（约0.05-0.08）起到成型
道就是精磨工序,是将铣磨出来的镜片将其的破坏层给消除掉,固定R值.
道就是抛光工序,是将精磨镜片在一次抛光,这道工序主要是把外观做的更 道就是清洗,是将抛光过后的镜片将起表面的抛光粉清洗干净.防止压克.
道就是磨边,是将原有镜片外径将其磨削到指定外径。
道就是镀膜,是将有需要镀膜镜片表面镀上一层或多层的有色膜或其他膜 道就是涂墨,是将有需要镜片防止反光在其外袁涂上一层黑墨.
2.氧化铈的颗粒度
粒度越大的氧化铈， 磨削力越大， 越适合于较硬的材料，ZF玻璃应该用偏细 的抛光粉。
目前抛光玻璃镜片所使用的抛光粉以氧化铈(CeO2)为主， 抛光液调配的比例依 抛光时期不同而有所不同， 一般抛光初期与和抛光模合模时使用浓度较高的 抛光液， 表面光亮后，则改用浓度较稀的抛光液，以避免镜面产生橘皮现象(镜片表面雾化)。
1.抛光粉的材料 抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组
的 材料的硬度不同， 在水中的化学性质也不同， 因此使用场合各不相 同。 氧化铝和氧化铬 的莫氏硬度为9，氧化铈和氧化锆为7，氧化铁更低。 氧化 铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高， 硬度也相当，因此广泛用于玻璃的抛光。 为了增加氧化铈的抛光速度，通常在氧化铈抛光 粉加入氟以增加磨削率。铈 含量较低的 混合稀土抛光粉通常掺有3－8的氟；纯氧化铈抛 光粉通常不掺氟。 对ZF或F系列的玻璃来说，因为本身硬度较小，而且材料本身的氟含 量较高， 因此因选 用不含氟的抛光粉为好。
抛光与研磨所用的运动机构相同，除了抛光的工具与工作液体不一样外，抛光时 环境条件亦较研磨时严苛。一般抛光时要注意的事项如下：
抛光沥青的表面与抛光液中不可有杂质，不然会造成镜面刮伤。 抛光沥青表面要与镜片表面吻合， 否则抛光时会产生跳动， 因而咬持抛光粉而刮伤镜片 表面。 抛
光前必须确定镜片表面是否有研磨后所留下的刮伤或刺孔。 抛光工具的大小与材质是否适当。
1.2抛光粉的种类和性能常用的抛光粉有氧化铈(CeO2)和氧化铁(FeO3)。
a.氧化铈抛光粉 颗粒呈多边形，棱角明显，平均直径约2微米，莫氏硬度7〜8级，
重约为7.3。由于制造工艺和氧化铈含量的不同， 氧化铈抛光粉有 白色(含量达到98%上) 、淡黄色、棕黄色等。
在抛光过程中添加抛光液要适当。 太少了参与作用能够的抛光粉颗粒减少， 降低抛光效率。 太多了，有些抛光粉颗粒并不参与工作，同时也带来大量液体使玻璃边面的温度下降，影
求在1卩m以上（包括1卩（）的抛光工艺在模具加工车间中一个清洁的抛光室内即可进行。
使用顺序为#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。许多模具制造商为了节约时间 而选择从#400开始。
（2）半精抛 半精抛主要使用砂纸和煤油。砂纸的号数依次为：~ #1200 ~ #1500。 实际上#1500砂纸只用适于淬硬的模具钢 于预硬钢，因为这样可能会导致预硬钢件表面烧伤。
响抛光效率。抛光液的浓度也要适当，浓度太低， 即水 分太多， 参与工作的抛光粉颗粒减 少并使玻璃表面温度降低， 因此降低抛光效率。 浓度太高，即水分带少，影响抛光压力， 抛光粉不能迅速散步均匀，导致各部压 力不等，造成局部多磨，对抛光的光圈（条纹）质 量有影响。而且单位面积压力 减少，效率降低，抛光过程中产生的碎屑也不能顺利排除， 使工件表面粗糙。一 般是开始抛光时抛光液稍浓些，快完工时，抛光液淡些，添加次数少 些，这有利 于提高抛光效率和光洁度。 另外，一般认为抛光液的酸度 （pH值）应控制在6〜8之间，否则玻璃表面会被腐蚀，影响表面光洁度。
模具机械抛光基本程序（对比）
模具要想获得高质量的抛光效果，最重要的是要具备有高质量的油石、砂纸和钻石研
磨膏等抛光工具和辅助品。 而抛光程序的选择取决于前期加工后的表面 状况，如机械加工、 电火花加工，磨加工等等。机械抛光的一般过程如下：
（1）粗抛 经铣、 电火花、 磨等工艺后的表面可以选择转速在 转表面抛光机或超声波研磨机进行抛光。 常用的方法有利用直径 去除白色电火花层。然后是手工油石研磨，条状油石加煤油作
（3）精抛 精抛主要使用钻石研磨膏。若用抛光布轮混合钻石研磨粉或研磨
话，则通常的研磨顺序是9^m（#1800）- 6um（#3000）~3^m（#8000）。9卩m的钻石研 磨膏和抛光布轮可用来去除#1200和#1500号砂纸留下 的发状磨痕。接着用粘毡和钻石研 磨膏进行抛光，顺序为1^m（#14000）- 1/2卩（（#60000）~1/4^m（#100000）。精度要
道就是胶合,是将有2个R值相反大小和外径材质一样的镜片用胶将其联合
作用.
好。
特殊工序:多片加工（成盘加工）和小球面加工（20跟轴）线切割 根据不同的生产工艺，工序也会稍有出入，如涂墨和胶合的先后次序。
玻璃镜片抛光工艺
用抛光机和抛光粉或抛光液一起下进行抛光要设定抛光时间,压力等参数.抛光
行清洗可浸泡,否则抛光粉会固化在玻璃上,会留有痕迹的.
沥青的软硬度与厚度是否适当。 抛光的过程中必须随时注意镜片表面的状况及精度检查。
透镜表面瑕疵的检查， 因为检测的过程是凭个人视觉及方法来判断，所以检验者应对
刮伤及砂孔的规范有深刻的认知， 要经常比对刮伤与砂孔的标准样版， 以确保检验的正确性。
光学冷加工工艺资料的详细描述(工艺过程老化)
1.抛光粉
1.1对抛光粉的要求a. b. c. d. e.颗粒度应均匀， 硬度一般应比被抛光材料稍硬； 抛光粉应 纯洁，不含有可能引起划痕的杂质； 应具有一定的晶格形态和缺陷， 并有适当的自锐性； 具有良好的分散性和吸附性； 化学稳定性好，不致腐蚀工件。