显示技术进展 铟锡氧化物透明导电薄膜的制程技术及其应用.
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*早期液晶显示组件的发展过程中，主要的电极材料是金(Au) 和氧化锡(SnO2)，尔后开发出目前常用的氧化铟和氧化锡的 混合物(In2O3-SnO2)，此乃因为铟锡氧化物薄膜具有很高的 透明度和导电特性。
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6-1前言
显示技术进展
*液晶显示组件的发展，也就是由被பைடு நூலகம்式矩阵驱动向列型(TN)
/超扭向型(STN)液晶显示器，推向主动式矩阵驱动薄膜晶体管
液晶显示器，并更加发展至所谓的新世代的显示器，-有机电 发光显示器或有机发光二极管(OLED)，无论如何发展而铟锡 氧化物薄膜的重要性并无任何地变化。 *使用于液晶显示器的ITO膜，不仅作为透明的画素电极之功能 而且也作为简单矩阵型STN-LCD的扫描电极和信号电极，以及 主动型TFT-LCD的共通电极和阵列电路中配线之重要角色， 随着彩色化、高解析化和人机界面化(触控面板)，促使相关液 晶显示器和其它平面显示器的成长快速。
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显示技术进展
6-1前言 6-2铟锡氧化物透明导电薄膜的材料及其特性 1.铟锡氧化物透明导电薄膜的材料种类 2.铟锡氧化物透明导电薄膜的结构及其特性 6-3铟锡氧化物透明导电薄膜的制作流程技术 1.铟锡氧化物透明导电薄膜的制造流程及其技术
2.铟锡氧化物透明导电薄膜的触控面板制程技术
6-4铟锡氧化物透明导电薄膜的应用领域与未来展望
3
6-1前言
显示技术进展
*在平面面板显示器的发展过程中，铟锡氧化物透明导电薄膜 是显示器面板制程中非常重要的技术项目，其薄膜的物理特性
将深深地影响到最终产品显示器的画质及其价位。 *铟锡氧化物透明导电薄膜的主要功能是在于其极佳的电极材料 而应用于平面面板显示器，具有发热、热反射、电磁波防止 和静电防止等不同的用途。
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6-2.2铟锡氧化物透明导电薄膜的结构及其特性
显示技术进展
*一般ITO透明导电膜的质量性需求，有低表面电阻、高的透光率
、低比电阻值、耐热性、耐酸碱性、图案加工性、电化学安定性 、膜表面形状、低成膜温度、模附着机械强度、膜厚及其硬度、
膜的外观、大面积和低成本。
*低温成膜之In2O3-ZnO(IZO)系的透明导电膜，由于因应新技术 市场的需要而被开发使用。IZO透明导电膜为10wt%氧化锌(ZnO)
显示技术进展
Progress in Display Technology
主讲：刘 琳
西安邮电学院光电信息工程教研室
Email ：liulin@xupt.edu.cn 西安邮电学院
光电信息工程教研室
2009～2010学年第一学期
显示技术进展
第 六 章
铟锡氧化物透明导电薄膜的制程技术及其应用
参考数据： 1.平面面板显示器 基本概论 二版 顾鸿寿/周本达/陈密 /张德安/樊雨心/周宜衡 编着 出版者：高立 书号：232526发行日期：2005年8月 2.显示器原理与技术 赵中兴 编着 出版者：全华 书号：03185-01发行日期：1999
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6-2铟锡氧化物透明导电薄膜的材料及其特性
显示技术进展
*一般平面显示器的透明电极用的透明导电膜，大多是 以铟锡氧化物(ITO)为靶材，而使用溅镀法制作而成
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6-2.1铟锡氧化物透明导电薄膜的材料种类
显示技术进展
*平面显示器的种类，表示方式和表示画质的不同，而相对地对
其显示性能的要求也就有所差异。目前的透明导电材料之种类，
要仍以溅镀法为其主流，通常的导电性靶材是以直流磁控式溅
掺杂于氧化铟而形成，其结晶形态为完全非晶质的而与ITO之结
晶质是不相同的。
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6-2.2铟锡氧化物透明导电薄膜的结构及其特性
显示技术进展
*掺杂有氧化铟之氧化锡或锢锡合金之导电膜的种类特性
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6-3铟锡氧化物透明导电薄膜的制作流程技术
显示技术进展
*一般氧化铟之氧化物膜或铟锡合金膜的制作方法有: 1.物理式气相蒸着法: 物理式气相蒸着法，可分为真空蒸镀法加热型和电子束 加热型、离子被覆膜法，以及溅镀法之直流磁控型和射频
有金属薄膜、金属氧化物、非金属氧化物以及导电性颗粒 分散铁电材料，其中以金属氧化物薄膜为主。薄膜的型式则是 单层膜、二层膜、多层膜或复层膜、无掺杂型、掺杂型和多元 素型。
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6-2.1铟锡氧化物透明导电薄膜的材料种类
显示技术进展
*目前透明电极之种类，有金属薄膜、金属氧化物、 非金属氧化物以及导电性类粒分散铁电材料 *薄膜的型式则有单层膜、二层膜、多层膜、无掺 杂型、掺杂型和多元素型
*低温成膜的In2O3-ZnO(IZO)系的透明导电膜，由于因应技术 世场的需要而被开发使用。
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6-2.2铟锡氧化物透明导电薄膜的结构及其特性
显示技术进展
*ITO透明导电膜可区分为ITO膜和IT膜，就铟锡氧化物薄膜而言
，通常是将含有3~5%重量百分比的In2O3之SnO2烧结体，利用电子 束加热并使其在适当的氧分压下蒸发，而于300度C预热的基板上 蒸着薄膜，因其膜的颜色是白色而又称为白膜。 *就铟锡薄膜而言，铟锡薄膜的靶材是铟锡合金材料而非氧化物 ，利用溅镀法及室温制程制作半透明非晶质结构膜，在电极图 案加工和配向膜处理等工程中，使其安定化和透明化，因其膜颜 色是黑色而又称为黑膜。
磁控型。
2.化学式的气相蒸着法:
化学式的气相蒸着法则有电浆型、浸镀型和凝胶型
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6-3铟锡氧化物透明导电薄膜的制作流程技术
显示技术进展
*一般铟锡氧化物膜或铟锡合金膜的制作方法
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6-3.1铟锡氧化物透明导电薄膜的制造流程及其技术
显示技术进展
*一般铟锡氧化物膜或铟锡合金膜的制作方法有两大种类，但是
*透明导电膜的材料，以氧化锡中掺杂氧化铟的薄
膜，氧化锡、氧化锌以及氧化铟/氧化锌(IZO)也是 下一个新研发的透明导电薄膜材料
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6-2.2铟锡氧化物透明导电薄膜的结构及其特性 *ITO透明导电膜可区分为ITO膜和IT膜。
显示技术进展
*铟锡薄膜的靶材是铟锡合金材料而非氧化物，利用溅镀法及 室温制程制作半透明非晶质结构膜，在电极图案加工和配向膜 处理工程，使其安定化和透明化。 *一般ITO透明导电膜的质量特性需求，有低表面电阻、高透光 率、低比电阻值、耐热性、耐酸碱性、图案加工性、电化学安 定性、膜表面形状、低成膜温度、膜附着机械强度、膜厚及其 硬度、膜的外观、大面积低成本等
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6-1前言
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*液晶显示组件的发展，也就是由被பைடு நூலகம்式矩阵驱动向列型(TN)
/超扭向型(STN)液晶显示器，推向主动式矩阵驱动薄膜晶体管
液晶显示器，并更加发展至所谓的新世代的显示器，-有机电 发光显示器或有机发光二极管(OLED)，无论如何发展而铟锡 氧化物薄膜的重要性并无任何地变化。 *使用于液晶显示器的ITO膜，不仅作为透明的画素电极之功能 而且也作为简单矩阵型STN-LCD的扫描电极和信号电极，以及 主动型TFT-LCD的共通电极和阵列电路中配线之重要角色， 随着彩色化、高解析化和人机界面化(触控面板)，促使相关液 晶显示器和其它平面显示器的成长快速。
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显示技术进展
6-1前言 6-2铟锡氧化物透明导电薄膜的材料及其特性 1.铟锡氧化物透明导电薄膜的材料种类 2.铟锡氧化物透明导电薄膜的结构及其特性 6-3铟锡氧化物透明导电薄膜的制作流程技术 1.铟锡氧化物透明导电薄膜的制造流程及其技术
2.铟锡氧化物透明导电薄膜的触控面板制程技术
6-4铟锡氧化物透明导电薄膜的应用领域与未来展望
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6-1前言
显示技术进展
*在平面面板显示器的发展过程中，铟锡氧化物透明导电薄膜 是显示器面板制程中非常重要的技术项目，其薄膜的物理特性
将深深地影响到最终产品显示器的画质及其价位。 *铟锡氧化物透明导电薄膜的主要功能是在于其极佳的电极材料 而应用于平面面板显示器，具有发热、热反射、电磁波防止 和静电防止等不同的用途。
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6-2.2铟锡氧化物透明导电薄膜的结构及其特性
显示技术进展
*一般ITO透明导电膜的质量性需求，有低表面电阻、高的透光率
、低比电阻值、耐热性、耐酸碱性、图案加工性、电化学安定性 、膜表面形状、低成膜温度、模附着机械强度、膜厚及其硬度、
膜的外观、大面积和低成本。
*低温成膜之In2O3-ZnO(IZO)系的透明导电膜，由于因应新技术 市场的需要而被开发使用。IZO透明导电膜为10wt%氧化锌(ZnO)
显示技术进展
Progress in Display Technology
主讲：刘 琳
西安邮电学院光电信息工程教研室
Email ：liulin@xupt.edu.cn 西安邮电学院
光电信息工程教研室
2009～2010学年第一学期
显示技术进展
第 六 章
铟锡氧化物透明导电薄膜的制程技术及其应用
参考数据： 1.平面面板显示器 基本概论 二版 顾鸿寿/周本达/陈密 /张德安/樊雨心/周宜衡 编着 出版者：高立 书号：232526发行日期：2005年8月 2.显示器原理与技术 赵中兴 编着 出版者：全华 书号：03185-01发行日期：1999
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6-2铟锡氧化物透明导电薄膜的材料及其特性
显示技术进展
*一般平面显示器的透明电极用的透明导电膜，大多是 以铟锡氧化物(ITO)为靶材，而使用溅镀法制作而成
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6-2.1铟锡氧化物透明导电薄膜的材料种类
显示技术进展
*平面显示器的种类，表示方式和表示画质的不同，而相对地对
其显示性能的要求也就有所差异。目前的透明导电材料之种类，
要仍以溅镀法为其主流，通常的导电性靶材是以直流磁控式溅
掺杂于氧化铟而形成，其结晶形态为完全非晶质的而与ITO之结
晶质是不相同的。
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6-2.2铟锡氧化物透明导电薄膜的结构及其特性
显示技术进展
*掺杂有氧化铟之氧化锡或锢锡合金之导电膜的种类特性
12
6-3铟锡氧化物透明导电薄膜的制作流程技术
显示技术进展
*一般氧化铟之氧化物膜或铟锡合金膜的制作方法有: 1.物理式气相蒸着法: 物理式气相蒸着法，可分为真空蒸镀法加热型和电子束 加热型、离子被覆膜法，以及溅镀法之直流磁控型和射频
有金属薄膜、金属氧化物、非金属氧化物以及导电性颗粒 分散铁电材料，其中以金属氧化物薄膜为主。薄膜的型式则是 单层膜、二层膜、多层膜或复层膜、无掺杂型、掺杂型和多元 素型。
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6-2.1铟锡氧化物透明导电薄膜的材料种类
显示技术进展
*目前透明电极之种类，有金属薄膜、金属氧化物、 非金属氧化物以及导电性类粒分散铁电材料 *薄膜的型式则有单层膜、二层膜、多层膜、无掺 杂型、掺杂型和多元素型
*低温成膜的In2O3-ZnO(IZO)系的透明导电膜，由于因应技术 世场的需要而被开发使用。
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6-2.2铟锡氧化物透明导电薄膜的结构及其特性
显示技术进展
*ITO透明导电膜可区分为ITO膜和IT膜，就铟锡氧化物薄膜而言
，通常是将含有3~5%重量百分比的In2O3之SnO2烧结体，利用电子 束加热并使其在适当的氧分压下蒸发，而于300度C预热的基板上 蒸着薄膜，因其膜的颜色是白色而又称为白膜。 *就铟锡薄膜而言，铟锡薄膜的靶材是铟锡合金材料而非氧化物 ，利用溅镀法及室温制程制作半透明非晶质结构膜，在电极图 案加工和配向膜处理等工程中，使其安定化和透明化，因其膜颜 色是黑色而又称为黑膜。
磁控型。
2.化学式的气相蒸着法:
化学式的气相蒸着法则有电浆型、浸镀型和凝胶型
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6-3铟锡氧化物透明导电薄膜的制作流程技术
显示技术进展
*一般铟锡氧化物膜或铟锡合金膜的制作方法
14
6-3.1铟锡氧化物透明导电薄膜的制造流程及其技术
显示技术进展
*一般铟锡氧化物膜或铟锡合金膜的制作方法有两大种类，但是
*透明导电膜的材料，以氧化锡中掺杂氧化铟的薄
膜，氧化锡、氧化锌以及氧化铟/氧化锌(IZO)也是 下一个新研发的透明导电薄膜材料
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6-2.2铟锡氧化物透明导电薄膜的结构及其特性 *ITO透明导电膜可区分为ITO膜和IT膜。
显示技术进展
*铟锡薄膜的靶材是铟锡合金材料而非氧化物，利用溅镀法及 室温制程制作半透明非晶质结构膜，在电极图案加工和配向膜 处理工程，使其安定化和透明化。 *一般ITO透明导电膜的质量特性需求，有低表面电阻、高透光 率、低比电阻值、耐热性、耐酸碱性、图案加工性、电化学安 定性、膜表面形状、低成膜温度、膜附着机械强度、膜厚及其 硬度、膜的外观、大面积低成本等