真空镀工艺

介绍一下我所了解的，真空镀分为蒸发镀、溅射镀、离子镀等几种，所用材料可以是金属也可以是非金属，如氧化物等，可以实现许多颜色，如镀铝达到镜面银、镀镍就是镜面灰，还可以镀不锈钢、铬、锡等，按导不导电分，有VM和NCVM，用在电子行业，一般还要配套的印刷油墨和喷涂涂料，要能通过相关测试。一般镀膜都要先喷底漆再镀，然后喷面漆，镀在塑料键的背面就一般不用喷面漆，而改为印刷保护油墨。为实现各种颜色效果，有印刷颜色后再镀，有喷涂颜色后镀，还可以在镀完后喷有颜色的中涂，然后喷面漆，可以实现镭雕字符。目前在手机按键行业，为防止电池干扰，NCVM（不到电镀）较流行，有镀Sｎ的或铟的，有镀铬及SｉO的，对了，镀氧化硅的对油墨要求高，喷涂的、印刷的。

真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在真空度不低于

10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶，使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。真空蒸发镀膜最常用的是电阻加热法，其优点是加热源的结构简单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能，使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功率激光器的造价很高，目前只能在少数研究性实验室中使用。溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电；三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，有许多优点。如任何物质均可以溅射，尤其是高熔点，低蒸气压的元素和化合物；溅射膜与基板之间的附着性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂，需要高压装置。此外，将蒸发法与溅射法相结合，即为离子镀。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力，有较高的沉积速率，膜的密度高。

真空镀膜技术的优点：

通过真空镀膜技术的应用，使塑料表面金属化，将有机材料和无机材料结合起来，大提高了它的物理、化学性能。其优点主要表现在：

改善美观，表面光滑，金属光泽彩色化，装饰性大大提高；

改善表面硬度，原塑胶表面比金属软而易受损害，通过真空镀膜，硬度及耐磨性大大增加；提高耐候性，一般塑料在室外老化很快，主要原因是紫外线照射所致，而镀铝后，铝对紫外线反射最强，因此，耐候性大大提高；

减少吸水率，镀膜次数愈多，针孔愈少，吸水率降低，制品不易变形，提高耐热性；

使塑料表面有导电性；

容易清洗，不吸尘

真空镀最初在化妆品行业用的较多，要求相对也不很高，而电子行业的真空镀，有EMI、按键、外壳等，要求要高一点，对镀层厚度、底漆面漆的要求也多，性能、颜色要求也高，还要能通过相关的测试，包括耐环境测试等，要求最高的是酸性汗液测试和水煮测试。现在的客户，尤其一些国内的客户，对装饰性要求特强，如波导等，富士康所接的一些单子要求高的他都外发给别人去做，有镀在注塑PC、PMMA等上面，还有镀在PC、PET片上的，外壳上的。诺基亚、索爱等国外厂商最近也有许多这方面的需求，外观确实也很炫！

真空度膜工艺过程中应该注意的几个问题:

在全部的工艺流程中，有如下几点决定了工艺的成败：

需要加工的零部件表面状态，这包括产品是否存在缺陷，表面状态，表面污染物等

表面缺陷的存在会导致外观件最终美观度。当然对于微小缺陷的存在，喷涂工艺可以掩盖。但是在注塑或者冲压成型过程中造成的批量瑕疵品必须在进货检验前剔出。

表面状态，这涉及是否是透明件，表面特殊粗糙度设计。设计外观状态要求的，必须在工艺制定前考虑整体工艺路线，否则完成后难以得到预想的外观效果。

表面污染物，对于批量产品，如何去除前段工序残留的污染物是关系质量与效率的关键。例如在注塑过程中产生的脱模剂的去除

夹具的设计，这包括夹具是否适应全部工艺流程，是否能保证表面均匀性，装夹效率

工艺过程中的环境控制与人员管理

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