X-射线光电子能谱2
X射线光电子能谱分析法
50000 40000 30000 20000 10000 0 292 290 288 286 COOH C=O C-OH
Intensity /Counts
50000 40000 30000 20000 10000 COOH C=O C-OH C-C
35000 30000 25000 20000 15000 10000 5000 0 292 290 288 286 284 282 COOH C=O
合物体系中失活前后谱图变
化对比。
07:28:23
固体化合物表面分析
三种铑催化
剂X射线电子能
谱对比分析;
07:28:23
纳米碳管氧化
80000 70000 60000
Intensity /Counts
A
90000 80000 70000
Intensity /Counts
100000
B C-C
Intensity /Counts
07:28:23
[4+2]
[2+2]
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吡啶在单晶硅表面的吸附:B酸和L酸测定 样品处于-90oC,吸附吡啶后用XPS记录N 1s 峰。有二个, 彼此相隔2eV,均属氧化态。Eb 高的与B酸有关,Eb 低的与L 酸有关
B酸意味着表面有质子存在,吡啶中的N接受质子而氧化。这 样吡啶分子吸附在B位时带正电
07:28:22
07:28:22
07:28:22
电子结合能
07:28:22
X射线光电子能谱分析法
X-ray photoelectron spectroscopy
光电子的能量分布曲线:采用特定元
素某一X光谱线作为入射光,实验测定的待 测元素激发出一系列具有不同结合能的电 子能谱图,即元素的特征谱峰群; 谱峰:不同轨道上电子的结合能或电
x射线光电子能谱
x射线光电子能谱X射线光电子能谱技术(XPS)是电子材料与元器件显微分析中的一种先进分析技术,而且是和俄歇电子能谱技术(AES)常常配合使用的分析技术。
由于它可以比俄歇电子能谱技术更准确地测量原子的内层电子束缚能及其化学位移,所以它不但为化学研究提供分子结构和原子价态方面的信息,还能为电子材料研究提供各种化合物的元素组成和含量、化学状态、分子结构、化学键方面的信息。
它在分析电子材料时,不但可提供总体方面的化学信息,还能给出表面、微小区域和深度分布方面的信息.另外因为入射到样品表面的X射线束是一种光子束,所以对样品的破坏性非常小。
这一点对分析有机材料和高分子材料非常有利。
以X射线为激发光源的光电子能谱,简称XPS或ESCA处于原子内壳层的电子结合能较高,要把它打出来需要能量较高的光子,以镁或铝作为阳极材料的X射线源得到的光子能量分别为1253.6电子伏和1486.6电子伏,此范围内的光子能量足以把不太重的原子的1s电子打出来。
周期表上第二周期中原子的1s电子的XPS谱线见图1。
结合能值各不相同,而且各元素之间相差很大,容易识别(从锂的55电子伏增加到氟的694电子伏),因此,通过考查1s的结合能可以鉴定样品的化学元素。
除了不同元素的同一内壳层电子(inner shell electron)(如1s电子)的结合能各有不同的值而外,给定原子的某给定内壳层电子的结合能还与该原子的化学结合状态及其化学环境有关,随着该原子所在分子的不同,该给定内壳层电子的光电子峰会有位移,称为化学位移(chemical shift)。
这是由于内壳层电子的结合能除主要决定于原子核电荷而外,还受周围价电子的影响。
电负性比该原子大的原子趋向于把该原子的价电子拉向近旁,使该原子核同其1s 电子结合牢固,从而增加结合能。
如三氟乙酸乙酯CF3COOC2H5中的四个碳原子分别处于四种不同的化学环境,同四种具有不同电负性的原子结合。
由于氟的电负性最大,CF键中碳原子的C(1s)结合能最高(图2)。
X-ray_Photoelectron_Spectroscopy_(XPS)
2 离子谱学 Ion Spectroscopies
二次离子质谱SIMS: Secondary Ion Mass Spectrometry 溅射中性质谱SNMS: Sputtered Neutral Mass Spectrometry 离子扫描能谱ISS: Ion Scattering Spectroscopy
本章部分PPT图片由石和彬教授提供, 谨致 谢意!
完
谱学功函数极小,可略去, 得到 KE = hv - BE : 3 元素不同,其特征的电子键能不同。测量电子动能KE ,就得到对应每种元素的一系列BE-光电子能谱,就得 到电子键能数据。 4 谱峰强度代表含量,谱峰位置的偏移代表价态与环境的 变化-化学位移。
四 XPS的仪器Instrumentation for XPS
1激发光源——X射线(软X射线;Mg Kα : hv = 1253.6 eV ;Al Kα : hv = 1486.6 eV)或UV; 2电子能量分析器-对应上述能量的分析器,只可能是表 面分析; 3高真空系统:超高真空腔室super-high vacuum chamber( UHV避免光电子与气体分子碰撞的干扰。
第五章 X-射线光电子能谱(X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) ESCA)
一 概述
表面分析技术 (Surface Analysis)是对材料外层(the Outer-Most Layers of Materials (<100 ))的研究的 技术。包括: 1 电子谱学(Electron Spectroscopies) X-射线光电子能谱 XPS: X-ray Photoelectron Spectroscopy 俄歇能谱 AES: Auger Electron Spectroscopy 电子能量损失谱 EELS: Electron Energy Loss Spectroscopy
X射线光电子能谱(XPS)
X射线光电子能谱(XPS)X射线光电子能谱是利用波长在X射线范围的高能光子照射被测样品,测量由此引起的光电子能量分布的一种谱学方法。
样品在X射线作用下,各种轨道电子都有可能从原子中激发成为光电子,由于各种原子、分子的轨道电子的结合能是一定的,因此可用来测定固体表面的电子结构和表面组分的化学成分。
在后一种用途时,一般又称为化学分析光电子能谱法(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis,简称)。
与紫外光源相比,X射线的线宽在以上,因此不能分辨出分子、离子的振动能级。
此外,在实验时样品表面受辐照损伤小,能检测周期表中除和以外所有的元素,并具有很高的绝对灵敏度。
因此是目前表面分析中使用最广的谱仪之一。
7.3.1 谱图特征图7.3.1为表面被氧化且有部分碳污染的金属铝的典型的图谱。
其中图(a)是宽能量范围扫描的全谱,主要由一系列尖锐的谱线组成;图(b)则是图(a)低结合能端的放大谱,显示了谱线的精细结构。
从图我们可得到如下信息:1.图中除了和谱线外,和两条谱线的存在表明金属铝的表面已被部分氧化并受有机物的污染。
谱图的横坐标是轨道电子结合能。
由于X射线能量大,而价带电子对X射线的光电效应截面远小于内层电子,所以主要研究原子的内层电子结合能。
由于内层电子不参与化学反应,保留了原子轨道特征,因此其电子结合能具有特定值。
如图所示,每条谱线的位置和相应元素原子内层电子的结合能有一一对应关系,不同元素原子产生了彼此完全分离的电子谱线,所以相邻元素的识别不会发生混淆。
这样对样品进行一次宽能量范围的扫描,就可确定样品表面的元素组成。
2.从图7.3.1(b)可见,在和谱线高结合能一侧都有一个肩峰。
如图所标示,主峰分别对应纯金属铝的和轨道电子,相邻的肩峰则分别对应于中铝的和轨道电子。
这是由于纯铝和中的铝所处的化学环境不同引起内层轨道电子结合能向高能方向偏移造成的。
这种由于化学环境不同而引起内壳层电子结合能位移的现象叫化学位移。
x射线光电子能谱
x射线光电子能谱X射线光电子能谱(XPS),又称为“X射线衍射光谱”,是一种高分辨率的表征材料电子结构的重要方法。
它基于X射线和电子碰撞而产生,可以用来研究材料表面、界面和小尺寸结构中电子结构的特征,以及电子态、核体积之间的关系。
XPS既可以用于常规的材料表征,如检测气体的化学成分,也可以用于对超导、磁导体、聚合物等新材料的表征。
X射线光电子能谱是一种基于表面的结构分析技术,它利用X射线照射材料,使材料内部电子层转移到近表面,并以多种方式向外释放,如放射、内发射和外散射。
这些电子与内部电子层之间的转移,会产生电子能谱,其特征反映了材料的电子结构。
XPS是一种实用性很强的材料表征技术,可用于研究材料表面、界面和小尺寸结构中的电子结构,使材料得到全面的表征。
它可以检测材料表面的化学成分,以及材料表面的电荷分布和失活层的厚度;检测薄膜的厚度、表面结构和反常表面状态;检测物质体积中的化学成分;检测复合物中材料的混合比例;以及测量超导、磁导体、多孔材料等新材料的电子结构等。
当材料受到光或电子诱导时,可利用XPS观察表面电荷分布的变化,从而研究光或电子诱导的电子量子效应和物质表面的电子结构。
XPS的主要仪器由X射线源、负压封装台和电子视觉系统三部分组成。
X射线源通常是氩弧光源,它可以产生1400~180 eV的能量范围的X射线。
负压封装台可以将样品放在真空环境或受到有机溶剂、氧气等介质的环境中,以便实现样品表面的近稳定状态。
电子视觉系统包括显微镜、探针或离子发射等,用于测量和检测电子发散的能量和强度。
XPS技术有很多优势,如直接量度表面氧化物层厚度、分析特殊表面吸附分子状态等,使材料表征变得更加简单快捷,这在材料和技术的各个方面都大有裨益。
除此之外,XPS的再现性优于其他表征技术,它的分辨率高于其他几乎所有表征技术,例如同位素分析、X射线粉末衍射分析和磁共振波谱。
尽管XPS的优势显而易见,但它也有一些缺点,如它的量子效率较低、需要用高能X射线照射样品,会产生一定的副产物,或检测能力受到限制等。
X射线光电子能谱
XPS的基本原理
与氧化态关系
当某元素的原子处于不同的氧化态时,它的结合 能也会发生变化。以金属铍的氧化过程为例。
参考文献
[1] 王文生. X射线光电子能谱技术及其应用 [J]. 电子元件与材料. 1991(01) [2] 俞宏坤. X射线光电子能谱(XPS)[J]. 上 海计量测试. 2003(04) [3] 吴正龙,刘洁. 现代X光电子能谱(XPS)分 析技术[J]. 现代仪器. 2006(01) [4] 文美兰. X射线光电子能谱的应用介绍 [J]. 化工时刊. 2006(08) [5] 郭沁林. X射线光电子能谱[J]. 物理. 2007(05)
X射线光电子能谱的应用
1.对固体样品的元素成分进行定性、定量或半定量及价态分 析; 2.固体样品表面的组成、化学状态分析,广泛应用于元素分 析、多相研究、化合物结构鉴定、富集法微量元素分析、 元素价态鉴定; 3.应用于氧化、腐蚀、摩擦、润滑、燃烧、粘接、催化、包 覆等微观机理研究;污染化学、尘埃粒子研究等的环保测 定;分子生物化学以及三维剖析如界面及过渡层的研究
1887年,海因里希·鲁道夫·赫兹发现了光电效应 1905年,爱因斯坦解释了该现象,并为此获得了1921年的 诺贝尔物理学奖 1907年,因斯(P.D. Innes)用伦琴管、亥姆霍兹线圈、 磁场半球(电子能量分析仪)和照像平版做实验来记录宽 带发射电子和速度的函数关系,他的实验事实上记录了人 类第一条X射线光电子能谱 第二次世界大战后瑞典物理学家凯·西格巴恩和他在乌普 萨拉的研究小组在研发XPS设备中获得了多项重大进展, 并于1954年获得了氯化钠的首条高能高分辨X射线光电子 能谱 1967年之后的几年间,西格巴恩就XPS技术发表了一系列 学术成果,使XPS的应用被世人所公认
《X射线光电子能谱》课件
3 3. 问题探讨和建议
鼓励听众思考和讨论涉及 X射线光电子能谱的问题, 并提供相关研究建议。
3
3. 统计研究实验中的应用,以及如何进行误差分析和数据可靠性评 估。
第四部分:X射线光电子能谱的应用案例
1. 反应机理和反应动力学 的研究
探索X射线光电子能谱在研究化 学反应机理和反应动力学中的应 用案例。
2. 材料表征和界面分析
展示X射线光电子能谱在材料表 征和界面分析中的实际应用,如 薄膜表面分析和纳米材料研究。
3. 化学成分分析
说明X射线光电子能谱在化学成 分分析中的优势,如表面元素含 量检测和化学状态表征。
第五部分:X射线光电子能谱的研究进 展和展望
1 1. 新技术和新方法的发展
预测X射线光电子能谱领域未来的发展方向,包括新的仪器技术和数据处理方法。
2 2. 应用领域的拓展
展望X射线光电子能谱在新的应用领域,如生物医学、能源材料和环境科学等方面的发展。
2 2. 光电效应原理
深入解释X射线光电子能谱的定义和原理,以 及如何通过光电效应获得材料表面化学信息。
讲解光电效应的基本概念和原理,以及光电 子发射的条件和限制。
3 3. 能量分辨率和解析度的概念
4 4. 应用领域
介绍X射线光电子能谱的能量分辨率和解析度 是如何影响数据质量和实验结果的。
探讨X射线光电子能谱在材料科学、化学分析、 表面物理和界面研究等领域的广泛应用。
3 3. 未来的发展方向
探讨X射线光电子能谱可能的未来发展方向,如高分辨率、原位研究和多模态分析等。
总结
1 1. X射线光电子能谱
的优势和特点
总结X射线光电子能谱作 为表面分析技术的独特优 势,如高灵敏度、非破坏 性等特点。
X射线光电子能谱(XPS)课件
利用XPS对样品表面进行深度剖析, 了解表面元素的化学状态和组成, 为材料科学、环境科学等领域提供 有力支持。
05
XPS与其他分析方法的比 较
XPS与AES的比较
总结词
XPS和AES都是表面分析技术,但它们的工 作原理和应用范围有所不同。
详细描述
XPS(X射线光电子能谱)和AES(原子发 射光谱)都是表面分析技术,用于确定样品 表面的元素组成。然而,它们的工作原理和 应用范围有所不同。XPS主要测量的是光电 子的能量分布,可以提供元素种类、化学态 和电子态的信息。而AES则通过测量原子发 射出来的特征光谱来分析元素组成。在应用 方面,XPS更适用于轻元素的分析,而AES 更适用于重元素的分析。
02
XPS仪器设备
XPS仪器结构
01
02
03
04
发射源
X射线管,用于产生X射线。
真空系统
确保实验室内高真空度,以减 少气体对光电子的散射。
能量分析器
用于检测和测量光电子的能量 。
探测器
用于收集光电子,并将其转换 为电信号。
XPS仪器操作流程
样品安装
将样品放置在样品 台上,并确保稳定 固定。
数据采集
开发多元素同时分析的XPS技术, 能够快速获取样品中多种元素的
化学信息,提高分析效率。
XPS在各领域的应用前景
环境监测
生物医学研究
利用XPS技术对大气、水体、土壤等环境中 的有害物质进行快速、准确检测,为环境 保护和治理提供有力支持。
通过XPS技术对生物样品进行无损检测,有 助于深入了解生物分子结构和功能,推动 生物医学领域的发展。
数据采集
按照设定的参数进行测量,并 采集光谱数据。
X射线光电子能谱主要功能及应用实例
X射线光电子能谱主要功能及应用实例X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)是一种常用于表面化学分析的技术。
它可以提供关于材料表面化学组成、价态、电子结构和电荷转移等信息。
以下是X射线光电子能谱的主要功能及应用实例。
1.表面化学分析:XPS可以确定材料的表面化学组成,包括原子种类、化学键和它们的相对丰度。
通过测量不同能量的光电子能谱,可以得到元素特征峰的强度和形状,从而定量分析材料表面上各种元素的相对含量。
应用实例:XPS广泛用于研究材料表面的符合物、生物界面、涂层和薄膜等。
例如,可以通过XPS分析材料的腐蚀表面层,以了解腐蚀过程中发生的化学变化。
另外,XPS也常被用来探测化学元素的清洁度,以确定材料的纯度。
2.化学价态分析:XPS可以测量材料中不同元素的化学价态。
通过分析元素的开壳层电子能级,可以确定元素的氧化态、配位数和电荷转移等信息,从而揭示材料的化学特性和反应活性。
应用实例:XPS可以用于研究催化剂表面的价态变化和催化反应机理。
例如,可以通过测量催化剂在不同反应条件下的XPS谱图,来研究催化剂表面的电子状态和活性位点,以及反应物在界面上的吸附和解离等过程。
3.能带结构测定:XPS可以提供材料的电子能带结构信息。
通过测量材料的价带和导带的能带边、费米能级、能带间距和带隙宽度等参数,可以了解材料的电子结构和导电性质。
应用实例:XPS可用于研究半导体、金属和氧化物等材料的能带结构和电子性质。
例如,可以通过测量半导体材料的价带和导带的能带边,来研究材料的能隙和输运性质,以及探索在光电子器件中的应用。
4.化学键分析:XPS可以测量材料中化学键的电子密度和价电子轨道的分布。
通过观察峰位和峰形的变化,可以推断出化学键的键长、键数和键的极性等信息。
应用实例:XPS可用于研究材料的化学键环境和键的特性。
例如,可以通过XPS测量材料中C1s能级的峰位和结构,来确定碳的化学键状态,从而分析碳材料的结构和官能团的存在。
(完整版)X射线光电子能谱分析(XPS)
第18章X射线光电子能谱分析18.1 引言固体表面分析业已发展为一种常用的仪器分析方法,特别是对于固体材料的分析和元素化学价态分析。
目前常用的表面成分分析方法有:X射线光电子能谱(XPS), 俄歇电子能谱(AES),静态二次离子质谱(SIMS)和离子散射谱(ISS)。
AES 分析主要应用于物理方面的固体材料科学的研究,而XPS的应用面则广泛得多,更适合于化学领域的研究。
SIMS和ISS由于定量效果较差,在常规表面分析中的应用相对较少。
但近年随着飞行时间质谱(TOF-SIMS)的发展,使得质谱在表面分析上的应用也逐渐增加。
本章主要介绍X射线光电子能谱的实验方法。
X射线光电子能谱(XPS)也被称作化学分析用电子能谱(ESCA)。
该方法是在六十年代由瑞典科学家Kai Siegbahn教授发展起来的。
由于在光电子能谱的理论和技术上的重大贡献,1981年,Kai Siegbahn获得了诺贝尔物理奖。
三十多年的来,X射线光电子能谱无论在理论上和实验技术上都已获得了长足的发展。
XPS已从刚开始主要用来对化学元素的定性分析,业已发展为表面元素定性、半定量分析及元素化学价态分析的重要手段。
XPS的研究领域也不再局限于传统的化学分析,而扩展到现代迅猛发展的材料学科。
目前该分析方法在日常表面分析工作中的份额约50%,是一种最主要的表面分析工具。
在XPS谱仪技术发展方面也取得了巨大的进展。
在X射线源上,已从原来的激发能固定的射线源发展到利用同步辐射获得X射线能量单色化并连续可调的激发源;传统的固定式X射线源也发展到电子束扫描金属靶所产生的可扫描式X射线源;X射线的束斑直径也实现了微型化,最小的束斑直径已能达到6μm大小, 使得XPS在微区分析上的应用得到了大幅度的加强。
图像XPS技术的发展,大大促进了XPS在新材料研究上的应用。
在谱仪的能量分析检测器方面,也从传统的单通道电子倍增器检测器发展到位置灵敏检测器和多通道检测器,使得检测灵敏度获得了大幅度的提高。
X射线光电子能谱(XPS)2
电子能谱(Electron Spectroscopy)
2−2
第二章 X 射线光电子能谱(XPS)
XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy) 又被称为 ESCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis) 它是以 X 射线为探针 检测由表面出射的光电子 来获取表面信 息的 这些光电子主要来自表面原子的内壳层 携带有表面丰富的物理和化学信息 XPS 作为表面分析技术的普及 归因于其高信息量 其对广泛样品的适应性以及其坚 实的理论基础 本章将介绍 XPS 方法并阐述其理论 仪器 谱的表示 射线与物质的相互作用
为领会表面分析方法XPS(ESCA) 对光电效应和光电发射的了解是必要的 当一 个光子冲击到一原子上时 将会发生下列三个事件之一 (1)光子无相互作用地穿过 (2)光子被原子的轨道电子散射 导致部分能量损失 (3)光子与轨道电子相互作用把光 子能量全部传给电子 导致电子从原子中发射 第一种情形无相互作用发生 第二种 可能性称为康普顿散射 它在高能过程中是重要的 第三种过程准确地描述了光电发 射 此即XPS的基础
2. 光电效应
1887年赫芝(Hertz)首先发现了光电效应 1905年爱因斯坦应用普朗克的能量量子 由此贡献爱因斯 化概念正确解释了此一现象 给出了这一过程的能量关系方程描述 坦获得了1921年的诺贝尔物理奖
我们知道原子中的电子被束缚在不同的量子化能级上 ĤΨi=EiΨi 原子吸收一个能量为hν的光子后可引起有n个电子的系统的激发 从初态波函数 i Ψ (n)和能量Ei(n)跃迁到终态离子Ψf(n-1,k)和能量Ef(n-1,k) 再加上一动能为EK的自由光 电子 k 标志电子发射的能级 只要光子能量足够大(hν > EB) 就可发生光电离过程
X射线光电子能谱(XPS)
化学位移
Inst. Of Photoelectronics
➢ 谱峰的物理位移和化学位移
物理位移:固体的热效应与表面荷电的作用引起的谱峰位移
化学位移:原子所处化学环境的变化引起的谱峰位移
产生原因:
(1)价态改变:内层电子受核电荷的库仑力和荷外其他电子
的屏蔽作用;电子结合能位移Eb;
• 氧化作用使内层电子结合能上升,氧化
(2)筒镜式电子能量分析器
(CMA)
同轴圆筒,外筒接负压、内
筒接地,两筒之间形成静电
场;
灵敏度高、分辨率低;二级
串联;
X射线光电子能谱仪
Inst. Of Photoelectronics
➢ 检测器
• 产生的光电流:10-3~10-9mA;
• 电子倍增器作为检测器;
• 单通道电子倍增器;多通道电子倍增器;
给出表面的化学组成,原子排列,电子状态等信息。
• 对于XPS和AES还可以对表面元素做出一次全部定性和定量
分析,还可以利用其化学位移效应进行元素价态分析;利
用离子束的溅射效应可以获得元素沿深度的化学成份分布
信息。
• 此外,利用其高空间分别率,还可以进行微区选点分析,
线分布扫描分析以及元素的面分布分析。
电子的能量是特征的。
• 因此,我们可以根据光电子的结合能定性分析物质的元
素种类。
X射线光电子能谱仪
Inst. Of Photoelectronics
样品
光电子
能量分析器
探测器
X射线源
AlK或MgK
超高真空系统
优于10-9mbar
数据处理系统
Inst. Of Photoelectronics
X射线光电子能谱
• 除少数元素(如Cu Ag等)内层电子结合能位移 较小,在XPS谱图上不太明显外一般元素化 学位移在XPS谱图上均有可分辨的谱峰。 5
第五页,编辑于星期六:十三点 五十二分。
举例
• 三氟醋酸乙酯中C1s轨 道电子结合能位移.聚合 物中碳C 1s 轨道电子 结合能大小顺序 C−C < C−O <C=O < O−C=O < O−(C=O)−O
由化学位移的大小可以确定元素所处的状态,因此, 利用化学位移值可以分析元素的化合价和存在形式。
由于只有表面处的光电子才能从固体中逸出,因而 测得的电子结合能必然反应了表面化学成份的情况。 这正是光电子能谱仪的基本测试原理。
26
第二十六页,编辑于星期六:十三点 五十二分 。
练习题
• 什么是电子结合能和化学位移?它们有何实际应用?
• 一定元素的内层电子结合能会随原子的化学态(氧化态 晶格位和分子环境等)发生变化(典型值可达几个eV)—即 化学位移,这一化学位移的信息是元素状态分析与相关 结构分析的主要依据。
• 除惰性气体元素与少数位移较小的元素外,大部分元素 的单质态氧化态与还原态之间都有明显的化学位移,如 C1s TiC(281.7eV) ,石墨(284.3eV) ,CO2(297.5eV)。
• 元素定性分析, • 元素定量分折, • 化合物结构鉴定。
12
第十二页,编辑于星期六:十三点 五十二分。
定性分析
• 尽管X射线可穿透样品很深但只有样品近表面 一薄层发射出的光电子可逃逸出来,电子的逃 逸深度和非弹性散射自由程为同一数量级范围。
X射线光电子能谱学
选点分析,线扫描分析; 具有较高的空间分辨率(1mm-25微米) 荷电问题较小,可以测定绝缘体材料; 对样品的损伤小;
成像XPS
给出的是元素分布像 可给出元素化学成份像 可进行显微分析 25微米-10微米
35微米空间分辨率以及2eV的能量分辨率
4 多重劈裂
当价电子壳层内有一个或多个自旋未配对的电子, 而光电离发生在另一壳层时,会发生谱峰的多重劈裂。 这种情况主要发生在过渡族和稀土金属,因为它们具 有未填满的d层和f层。若满壳层发生光致电离产生一 个空穴,对应于无藕合自旋的两个轨道将发生祸合, 导致能级劈裂。当自旋未配对的电子具有同样的主量 子数n时,这种多重劈裂往往最为明显。例如,Fe203 中的Fe 3s线劈裂成为双线,彼此隔开7.3 eV。然而, 在Fe 2p3/2谱峰中劈裂的各次峰的能量太靠近,因而 不能分开。多重劈裂还会引起谱峰的非对称性,并使 周期表上第一排过渡族金属的化合物的2P1/2与2P3/2之 间的距离改变。这一排过渡金属的3s双线的距离依赖 于其化学环境,因此多重劈裂有时可用来鉴别化合物。
此外,当样品的磁性很强时,还有可能使分析器 头及样品架磁化的危险,因此,绝对禁止带有磁 性的样品进入分析室。
一般对于具有弱磁性的样品,可以通过退磁的方 法去掉样品的微弱磁性,然后就可以象正常样品 一样分析。
离子束溅射技术
在X射线光电子能谱分析中,为了清洁被污染的 固体表面,常常利用离子枪发出的离子束对样品 表面进行溅射剥离,清洁表面。
Mg/Al双阳极X射线源
能量范围适中(1253.7和1486.7eV) X射线的能量范围窄(0.7和0.85 eV) 能激发几乎所有的元素产生光电子; 靶材稳定,容易保存以及具有较高的寿
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3. 俄歇电子谱线(Auger lines):
俄歇电子谱线由于 处于激发态原子发生弛 豫过程(芯能级存在空穴 后) 产生的。它是伴随 着XPS光电子线。它具 有比光电发射峰更宽和 更为复杂的结构,其动 能与入射光子的能量hν 无关。
Auger电子的动能是固定 的,而X射线光电子的结合 能是固定的,可以通过改 变激发源(如Al/Mg双阳极X 射线源)的方法,观察峰位 的变化来识别Augar电子 峰和X射线光电子峰。
4. 能量损失谱线(energy loss lines):
光电子向表面迁移过程中发 生的分立损失结构卫星峰。任何 具有足够能量的光电子通过固体 时,与原子的外层电子相互作用, 引起能量损失。因材料的不同, 损失的能量不同。由于受到多次 损失,在谱图上呈现一系列等间 距的峰,强度逐渐减弱.
Al 2p 能量损失谱线 Al 2s 能量损失谱线
纵坐标—— CPS or 相对强度; 横坐标——结合能(Eb) or 动能(Ek)
钯的XPS(XPS spectrum obtained from a Pd metal sample using Mg Ka radiation) ; 主峰在Ek=330, 690, 720, 910 and 920 eV。 Ek(eV)
携上现象在顺磁性化合物中发生得非常普遍。
3. 多重分裂(multiple splitting):
偶尔会看到s轨道的分裂,这与价壳层中存在 未配对电子相关。当原子或自由离子的价壳 层拥有未成对的自旋电子时,光致电离所形 成的内壳层空位便将与价轨道未成对自旋电 子发生耦合,使体系出现不止一个终态.
Multiplet splitting effects are observed for Mn, Cr (3s levels), Co, Ni (2p3/2 levels), and the 4s levels of the rare earths.
4p 4s
Pd
1s22s22p63s23p63d104s24p64d85s2
3.2 XPS 谱图的初级结构 1. 光电子谱线(photoelectron lines)
■ 强度。 ■ 峰宽。 ■ 对称性。金属中的峰不对称性是由光电子与传导电子的 偶合作用引起的。 ■ 化学位移。 化学位移与原子上的总电荷有关(电荷减少→结合能 EB增加) ������ ● 取代基的数目; ������ ● 取代基的电负性; ������ ● 形式氧化态; 化学位移通常被认为是初态效应。
每一种元素都有自己最强的、具有表征作用的光电子线——元素定性 依据。一般,来自同一壳层上的光电子,总角量子数越大,谱线的强度 越大。常见的强的光电子线有1s、2p3/2、3d5/2、4f7/2、5d5/2等。
结合能(eV) 如: 对于Ti和Ti4+的Ti 2p1/2和Ti 2p3/2的化学位移。电荷从Ti→Ti4+ 减少,所以2p轨道弛豫到较高结合能 位置。 化学位移信息对官能团、化学环境和 氧化态是非常有力工具。
自旋-轨道分裂的大小随与核的距离增加(核屏蔽增加)而减小
C 1s
Ag 3d 3d5/2 3d3/2
Orbital=s l=0 s=+/-1/2 ls=1/2
378
6.0 Peak Area 2 : 3 362
Orbital=d l=2 s=+/-1/2 ls=3/2,5/2
290
288 284 280 Binding Energy (eV)
������ ������ ������ ������ ������ 小
▪ ▪ ▪ ▪ ▪
s 轨道无自旋-轨道分裂 —— XPS中单峰; p, d, f … 轨道是自旋-轨道分裂的 —— XPS中双峰; 双峰中低j值的结合能EB较高(EB 2p1/2 > EB 2p3/2); 不同原子自旋-轨道分裂的大小随Z增加; 自旋-轨道分裂的大小随与核的距离增加(核屏蔽增加)而减
谱图解析小结
CuInS2 全谱
In MNN Cu2p3/2 In3d5/2
Cu2p1/2 O KLL In3p3/2 In3p1/2 In3s
In3d3/2
Cቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ LMM
O1s
X-ray satellites valence band
S2p C1s S2s In4s In4p Cu3s Cu3p In4d
276
374 370 366 Binding Energy (eV)
Cu 2p
2p3/2
Au 4f 4f5/2
4f7/2
2p1/2
Orbital=p l=1 s=+/-1/2 ls=1/2,3/2
19.8 : 2 925
Peak Area 91 3.65 3 : 4 79 87 83 Binding Energy (eV)
Comparison of XPS spectra recorded from copper using AlKa (upper) and MgKa (lower) radiation; note that on a binding energy scale the XPS peaks remain at constant values but the X-AES transitions move by 233 eV on switching between the two sources.
将Ek转换为Eb, 得到下 页图-注意坐标左右颠倒。
1.价带 (4d,5s) 出现在 0 - 8 eV 。 2. 4p 、 4s 能级出现在 54 、88 eV 。 3. 335 eV 的最强峰由 3d 能级引起。 4. 3p 和3s 能级出现在 534/561 eV 和 673 eV 。 Ek (eV) b
3.3 XPS 谱图的次级结构
1. X射线卫星峰(X-ray satellites):
为观察XPS中光电发射线,X射线源 必须是单色的。基于X射线光源的X射线 发射:2p3/2→1s和2p1/2→1s跃迁产生 软X射线Kα1,2辐射(不可分辨的双线); 在双电离的Mg或Al中的同一跃迁还 产生Kα3,4, Kα5, 6, Kα3,4线其光子能量hν 比Kα1,2约高9−10 eV; 3p→1s跃迁产生Kβ X射线; X射线源通常是非单色的所以X射线荧光 谱线叠加在宽的背底上(轫制辐射).
EAES和XAES的比较
X射线激发俄歇线
固态化合物中Na(KLL)、F(KLL)及O(KLL)谱线的比较
X射线激发光电子谱线与俄歇线化学位移比较
光电子谱线
俄歇谱
表面不同深度X射线激发俄歇线化学位移
深 度 增 加
元素态和氧化态的XPS和XAES的化学位移比较
4. 价电子谱线:
两个以上的原子以电子云重叠的方式形成化合物, 根据量子化学计算结果表明,各原子内层电子几乎仍 保持在它们原来的原子轨道上运行,只有价电子才形 成有效的分子轨道而属于整个分子。因此,不少元素 的原子在它们处在不同化合物分子中时的X-射线内层 光电子的结合能值并没有什么区别,在这种情况下研 究内层光电子线的化学位移便显得毫无用处。如果观 测它们的价电子谱,有可能根据价电子线的结合能的 变化和价电子线的峰形变化的规律来判断该元素在不 同化合物分子中的化学状态及有关的分子结构。价电 子谱线对有机物的价键结构很敏感,其价电子谱往往成 为有机聚合物唯一特征的指纹谱,可用于表征聚合物 材料分子结构。
• 由于涉及到样品在超高真空体系中的传递和分析, 待分析的样品一般都需要经过一定的预处理。主 要包括样品的大小,粉末样品处理, 挥发性样品 的处理,表面污染样品及带有微弱磁性的样品的 处理。
A comparison of the Ag 3d spectra acquired with monochromatic and non-monochromatic X-rays (the spectra are normalized to the maximum peak intensity)
Mg阳极X射线激发的C1s主峰及伴峰
X射线卫星峰
2. 震激谱线 (携上线, shake-up lines):
振激是光激发与光电离作用同时发生在一个原子 里现象。发生振激时,入射光子的部分能量被吸收, 使得产生光电子的动能比正常光电子的动能低。通常 出现在光电子谱线高结合能端。
携上效应机理
振激现象常出现在过渡金属、稀土元素和錒系元素的顺磁化合物的XPS 谱图中。C1s振激谱线与不饱和有机化合物结构相关。
动能 (eV)
Ni表面钝化膜XPS谱图
The 2p3/2 spectrum of nickel shows multiplet splitting for NiO, but not for Ni(OH)2 - a feature that has proved very useful in the examination of passive films on nickel.
(a)终态的能量 低于(b)终态, 导致XPS谱图 上Mn的3s谱线 出现分裂
3p(1)
3s(1) 3s(2) MnF2
3p(3)3p(2)
α3,4
3p(1)
MnO MnO2
3s(1) 3s(2) 3s(1) 3s(2) 3p(1) α3,4 3p(2)
α3,4
1140 1160 1180 1200 1220
XPS谱图解析
2010.05
3.1 XPS谱的一般特性(General Features)
a. 在XPS谱图中可观察到几种类型的谱线。主要有光 电子线、俄歇线、价电子线、X射线卫星线、携上线、 劈裂线、能量损失线、等。 主线——;伴线——;
b.
光电发射过程常被设想为三步模型:
(I). 吸收和电离(初态效应); (II). 原子响应和光电子产生(终态效应); (III). 电子向表面输运并逸出; 所有这些过程都对XPS谱的结构有贡献。 c. 谱图坐标: