PVD真空镀膜机作业指导书

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PVD实验说明书

PVD实验说明书1. 实验目的本实验旨在通过物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，简称PVD）的方法制备薄膜，并探究其制备过程和影响因素。

2. 实验原理物理气相沉积是利用高能粒子或高温等条件，使目标材料蒸发并在基底表面沉积形成薄膜的一种方法。

常见的物理气相沉积技术包括蒸发法、溅射法和分子束外延法等。

3. 实验步骤3.1 准备实验装置- 确保实验装置的真空度符合要求，排除氧气和其他杂质。

- 预热目标材料，使其达到蒸发温度。

3.2 预处理基底- 清洗基底材料，确保表面干净无杂质。

- 在基底表面形成特定形貌，如凹凸结构或光栅结构。

3.3 加热- 将基底装入加热器中，升温至适宜的温度，以提高薄膜的质量和结晶程度。

3.4 蒸发沉积- 在蒸发源处放置目标材料。

- 加热目标材料，使其蒸发生成原子或分子束。

- 控制气体流动速度和沉积时间，使薄膜均匀沉积在基底表面。

3.5 冷却- 停止蒸发源加热，关闭气体流动。

- 让基底在恢复大气压下缓慢冷却，防止薄膜结构的变化和应力的产生。

4. 实验注意事项- 严格控制实验装置的真空度，避免氧气和水分对沉积薄膜的污染。

- 注意目标材料的蒸发温度，避免材料过热或过冷导致不良沉积效果。

- 控制蒸发速率和沉积时间，以获得均匀一致的薄膜。

- 冷却过程中避免突然接触空气，防止薄膜结构的变化和损坏。

5. 实验结果及分析通过PVD方法制备的薄膜可以观察到其成分、厚度和表面形貌等特征。

利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射（XRD）等仪器分析，可以进一步研究薄膜的晶体结构、形貌和性能。

6. 实验总结PVD作为一种常用的薄膜制备方法，在材料科学和工程领域具有广泛的应用前景。

通过本实验，我们深入了解了PVD的原理、操作步骤以及注意事项，为今后的研究工作打下了基础。

参考文献：[参考文献的列表，不包括超链接形式]注意：本实验说明书仅为参考，具体实验操作应根据实验室条件和指导教师要求进行相关调整。

HSG PVD镀铬-铝膜作业指导书

部门文件编号版本编制页数审核1版修订日期批准1.0 目的：指导HSG PVD镀铬-铝膜相关人员按标准流程作业。

2.0 范畴：适用HSG 镀铬-铝膜。

3.0 设备、辅助材料及工具：新柯隆RAS-1100镀膜机、待清洗后HSG 产品、纯度99%的Al靶、Cr靶、吸尘器、无尘手套、酒精、无尘布、镊子。

文件名称HSG PVD 镀铬-铝膜操作指导书（新科隆RAS机）初版发行4.0 操作方法：产品操作指导书镀膜文件修订履历第四步：选择镀膜程序操作方法：在电脑内选择‘HSG-PVD-Cr-Al ’专用程序进行自动成膜。

注意事项：工艺参数必须由技术员设定。

操作员不得修改机器参数。

全程自动成膜入换。

第二步：安装挂板操作方法：将装有HSG 的夹具固定在挂板后，按顺序将挂板安装在溅射机载物鼓上，依次拧紧各个挂口螺丝；注意事项：确保HSG 夹具螺丝拧紧；旋转鼓且依次逐个检查挂板，确保各个挂板螺丝无松动。

操作方法：按顺序将HSG 五种通孔用塞子遮蔽，使用单面高温胶覆盖协助固定，然后将HSG 轻轻放入专用夹具后固定夹具盖板；注意事项：确保各个通孔正确遮蔽，且用单面高温胶覆盖；盖板螺丝要拧紧。

第一步：HSG 遮蔽与装夹第三步：关门排气操作方法：关闭真空腔门，触摸屏点"Evac"排气。

注意事项：关门后旋转紧固阀，全部紧固阀打紧，直至显示屏Close 指示灯变绿色。

点‘Evca'后排气无漏气气流声。

第五步：下锅操作方法：镀膜完成后自动入换，开门后挂板从锅上取下至无尘风淋柜暂放区。

注意事项：挂板不能叠加，操作员必须穿戴干净手套，禁止任何物品触碰触碰镀膜表面。

第六步：已镀产品冷却操作方法：已镀膜产品挂板放置无尘风淋柜下锅暂放区冷却至常温（冷却20分钟）注意事项：无尘风淋柜确保风机为打开状态，产品需关门冷却。

第七步：拆夹下片第八步：产品标识操作方法：产品从无尘风淋柜转无尘工作台后，拆卸夹具，轻轻取出HSG 产品，然后拆除塞子，将塞子放在指定位置回收。

PECVD镀膜作业指导书

承认确认作成3、 4、1.确认小车完好2.确认石墨舟完好3.核对物卡数量4.放置硅片5.小车放置区域6.石墨舟向前倾斜7.准备吸片8.插片9.注意事项10.检查硅片11.放置空篮12.空花篮劳动防护用品：13.空花篮放置区14.一面装片完成15.石墨舟复位16.旋转180°改定履历年月日改定内容123454.确认流程单数量与实际数量一致且硅片表面无异常，无崩边缺角。

7.装卸片时吸笔要保证干净.8.硅片顺着槽壁滑进槽内，由工艺点定位，注意速度和角度。

9.检查插片是否漏片，是否贴合槽壁。

工序目的：使用部品材料：吸笔，花篮，小车，石墨舟制作晶体硅电池的减反射膜及钝化 1、PE机10.插片顺序应从左到右，从上到下。

12.石墨舟倾斜度根据操作员高度，台架高度来调整，合适的角度利于操作。

定位置管理说明格式编号：HCZY 011．穿戴好劳保用品。

2.保证小车运转平稳。

3.确认石墨舟叶片完好，螺丝紧固，在小车放置平稳。

5.硅片放置平稳，确保非扩散面贴向槽壁。

页码信息：HCBZZZ040 总 4 页01PECVD镀膜操作作业指导书文书编号版本修改日期第 1 页年月日年月日作成日期1.应遵守的要点及注意事项设备名/设备编号： 2、使用夹具、工具：每舟规定资料及判定标准管理要点测定法目测无杂物5.双手扶着石墨舟缓慢调整倾斜，避免手臂接触石墨舟。

2.改定色彩均匀管理項目3pcs/舟沉积面确认承认频度样品数电极头11.插片时硅片扩散面朝外，非扩散面贴着槽壁。

13.石墨舟必须复位扶正水平时方可旋转。

备考3.目测单晶硅片。

作业手顺·遵守事项●作业手顺扩散硅片手套（PVC),口罩，网孔布鞋。

样式编号：AAAE02。

镀膜作业指导书

5.细部内容学习
5.1 设备清扫
用吸尘器和小刀,刷子对药盘,药槽周围清理,去除残渣异物,手感无灰尘,.将电子枪内部杂物清出.适当时保持每班一次
喷砂处理.
重点清扫部位,一般被忽视,伞环转动中有大量灰尘在移动,影响膜层的洁净度.每镀膜一次后需对齿轮和轴承的磨损
痕迹清理去除灰尘.
尘.
,便
.设备运行到一定周期后(7天)需要大清扫将所有内皮更换,真空室内有脏污的地方用小刀,刷子清
理干净,并用丙酮擦拭,去除任何油污,喷砂后的内皮先用气枪吹尘再擦拭使用.安装后对设备抽真空加热烘烤,再投入
生产.。

喷涂设备(真空镀膜机系统)作业指导书[模板]

1. 目的
规范真空镀膜机的操作：防止操作不当产生安全事故及增加设备的故障率。

2. 术语
3. 具体内容
3.1首先打开空压机，冷却水塔，再打开冰水机，待气压表压力达到4KG后再打开机器电源。

3.2进入机器操作作业面，手动打开RP机械泵，在开启DP扩散泵，加热，待温度达到设定
温度后便可正常生产。

3.3关机时一定要先关DP扩散泵，待冷却1小时后才可关RP机械泵，再关闭冰水机，冷却水塔及空压机和总电源。

4 注意事项
4.1控制柜必须由经过培训且有相应操作权限的专职人员操作，严禁正常生产期间擅自操
作和调改；严禁非专业人员对电柜内元器件进行任何操作调改。

4.2观察空压气体，冰水机开启后是否正常运转，查看操作柜上水气指示灯是否正常亮起。

4.3待加热温度达到设定温度后，抽空炉查看排气是否正常。

4.4每镀一炉后查看钨丝是否全部蒸发干净，是否有折断或需要更换的。

4.5如发生故障和异常情况，请立即汇报相关人员，必要时按下电箱上的红色“急停”按钮和关掉电源总制。

5 相关文件
6 文件拟制/修订记录。

真空电镀标准作业指导书sop

8
工具
清洁工具治具
治具、四方管治具杆、四方管治具杆、四方管
目视目视
NO
变更内容
1
日期
担当
确认
品质注意点
确保环境、工具符合作业要求。治具不能错位
产品摆放的间隙不能太密产品摆放的间隙不能太密产品之间保持距离不可相互碰撞参照[产品检验基准]及外观限度
样品参照[包装仕样书]
承认确认作成
文件编号：TSK-QC-O02
版次
A/0 文件发行章
2 将擦试好的产品整齐摆放在胶盆里进行组装。
3 将装配好的产品上在流水线之治具杆上进行喷底油。
4 喷底油之后的产品装上真空室内的转架上进行直空电镀。
5 将电镀之后产品从四方管上取出插在流水线上进行喷面油。
6 UV作业完后，由线户指定包装方式进行包装。
SOP 真空电镀标准作业指导书
客户
作业步骤前处理
机种装配
品名
左小剑
颜色
金色
上架
喷底油
镀膜
喷面油
下架
包装
重点管控说明: 1.镭雕处不可有飞油现象. 2.镭雕反面不可有刮伤\脏污等不良现象. 3.产品A正面颗粒不能超过0.20mm/个（4c㎡范围内），整面不能超过5个。
NO
作业内容
1 清洁作业现场，作业用具。

真空镀膜机安全操作指导书

冷却；
6.6 经过培训合格后的操作员才可以操作设备；
6.7 如有发现设备异常请及时通知设备维护人员。
水泵指示灯关机延时见机指示灯
主水泵停止主水泵启动
副水泵停止副水泵启动
风机停止风机启动
图1
冷却水控制箱
图2
镀膜机控制柜
真空镀膜机安全操作指导书
文件编号：WI-ZG-SB-077 版本/版次：A0 页次：3/3
6.保养及注意事项
6.1 开启冷却水塔前先检查循环水是否足够，不足时要及时添加；
6.2 开启镀膜机前先检查真空泵油是否足够，不足时要及时添加；
6.3 蒸镀炉是干净度要求很高的设备，所以要时刻保持炉膛卫生，清洁用；
6.4 工件装好后要先手动快速转动转架,检查是否有产品掉落；
6.5 待扩散泵温度降到 80℃后,才可关闭工作电源、控制柜电源开关，如意外停止电也要及时人工
注：若选择手动状态，其操作与全自动相似，根据相应提示操作即可
真空镀膜机安全操作指导书
文件编号：WI-ZG-SB-077 版本/版次：A0 页次：2/3
5.2 关机
5.2.1 清理炉内卫生后,关上炉门真空抽至 5*E1-4Pa,
5.2.2 点击触摸屏“后退”按钮一次,关罗茨泵(如图 2 示)；
5.2.3 点击触摸屏“后退”按钮一次,关滑阀泵(如图 2 示)； 5.2.4 点击触摸屏“扩散泵”三个字,关停扩散泵加热，三相电流表读数为零（如图 2 示）； 5.2.5 待扩散泵温度降到 80℃以下后,即可关闭工作电源、控制柜电源开关（如图 2 示）； 5.2.6 按下冷却水控制箱面板上水泵及风机停止开关(红色按钮),指示灯灭(如图 1 示)。
真空镀膜机安全操作指导书

PVD镀膜工艺操作规范

PVD镀膜工艺操作规范一、开机前准备:1.开机前检查气压(正常0.6~0.8MPa)、水压是否正常;2.检查油位、油质是否正常;3.检查电缆电线是否完好，若有损坏，及时上报处理;4.穿戴好口罩、无尘衣、PVC手套等劳保防护用品;5.准备好预镀产品，做好前处理，检验出合格的预镀品，制定相关镀膜工艺。

二、开机与镀膜工艺规范:1.合上镀膜系统总电源，打开控制柜电源及电脑，进入操作界面，启动数据记录，打开维持泵对扩散泵抽真空，真空度为0.1Pa时，打开扩散泵加热电源对扩散泵进行加热一个小时; 2.打开充气阀对真空室进行充气，打开镀膜室门，拉出转架，测量靶材厚度，清除屏蔽罩、靶材表面氧化物或其它污染，防止短路;3.装上产品/样品，然后把转架推入真空室，开启转架转动电源，看转架转动是否正常，测量转架与镀膜室腔体之间的电阻，确认二者之间绝缘，关好真空室门;4.抽真空:启动旋片泵，并依次开启旁通阀、粗抽阀;当真空度达要求时，关闭旁通阀，然后打开罗茨泵对真空系统抽真空;当达到油扩散泵的前级真空度时，关闭粗抽阀，然后依次打开前级阀、精抽阀，对真空系统进行抽高真空;5.真空度达到工艺要求时，开始进行镀膜工艺操作:设定加热温度，对系统进行加热，设定氩气流量对镀膜室冲入氩气，达到工艺要求的镀膜真空，打开偏压，离子源，然后进行离子镀膜、溅射镀膜工艺;6.镀膜结束时，先关闭溅射电源、弧电源、离子源、偏压电源、加热电源灯，然后依次关闭精抽阀、前置阀、罗茨泵、旋片泵，并对系统进行冷却。

最后开启充气阀，向镀膜室充入空气，打开镀膜室门，拉出转架，取出产品/样品;7.若需镀多炉产品/样品，按(3)~(6)步骤重复操作。

三、关机阶段1.转架推入真空室，关上镀膜室门，对系统进行抽真空，可参考镀膜工艺规范(4);2.完成时依次关闭精抽阀、前置阀、罗茨泵、粗抽泵、扩散泵，并对系统进行冷却;3.关闭维持泵与电离真空计，保存电脑数据，关闭触摸屏电源、真空镀膜系统总电源、循环冷却水电源等;4.车间整理、卫生打扫。

真空镀膜机保养作业指导[模板]

1. 目的
明确真空镀膜机保养周期，保证设备的使用稳定性及产品电镀的品质。

2. 术语
3. 具体内容
3.1 保养的等级划分：日保养、周保养、月保养、大保养。

3.1.1 日保养
3.1.1.1 每生产四小时用吸尘器将电镀机内的废渣及粉尘吸干净。

3.1.1.2 每天下班前，电镀技术员安排人员将真空镀膜机表面用无尘布擦拭干净。

3.1.2 周保养
3.1.2.1 每周一上午对RP粗抽泵进行排水处理。

3.1.2.2 每两周对镀膜机内炉炉板及莲花转架更换并清洗一次。

3.1.2.3 每两周对冷却水塔清洗一次。

3.1.3 月保养
3.1.3.1 每三个月更换一次RP粗抽泵油。

3.1.3.2 每三个月对钨丝架及铜电极清洗一次。

3.1.4 大保养
3.1.
4.1 每年对DP扩散泵清洗一次并更换DP扩散泵油。

3.1.
4.2 每两年安排供应商对电镀机做一次全面的保养。

3.2 异常的反馈及处理
3.2.1 电镀出来的每炉产品都必须先由技术员及品质人员抽检，当发现产品表面黑点超5%时必须停止电镀并对镀膜机进行彻底的保养（按周保养的方式进行）后，重新制作首件，确认不良率，控制在标准范围内才能生产。

3.2.2 电镀炉真空抽不到时，真镀技术员必须上报给真镀课长，前来协助调试，若改善无效果时，上报总经办，安
排厂商来厂协助处理。

4.注意事项
5.相关文件
6.文件拟制/修订记录。

真空镀膜工序控制作业指导[模板]

1. 目的促使真空镀严格按照生产作业并保证真空镀各生产工序顺利完成。

使产出的产品满足客户的要求。

2. 术语3. 具体内容3.1生产前准备3.1.1真镀生产计划（物料组）根据PMC总部下达的《生产任务单》拟制生产内部的《生产排程》并下达至生产部。

3.1.2前处理组长根据《生产排程》领出当天生产所需的素材、夹具及其它辅助物料。

3.1.3调漆员根据《生产排程》，按《调油喷涂作业指导卡》的要求调配好当天使用的油漆并把调油参数记录在《调油记录表》上，把调配好的油漆加到相应的喷柜。

喷涂技术员确认调油参数并记录于《生产工艺表》中。

3.1.4喷涂技术员根据《真镀喷涂作业指导卡》规定的工艺范围，调好喷枪的角度、气压、油量进行试喷。

3.1.5装配组长根据《生产排程》安排前处理人员进行夹具清洗、产品清洗及装配。

a.根据产品的种类安装好夹具并放入胶盘摆好垫好泡棉。

b.把装配清洗好的产品安装在底漆喷涂线上。

3.2 真空镀底漆/面漆喷涂过程控制3.2.1 真空镀产品的生产工序为a.NCVM：UV底漆→真空镀膜→UV中漆→UV面漆.b.PPVD：喷底（色漆）→UV底漆→真空镀膜→保护漆→曝光→退镀→清洗→UV中漆→UV面漆。

c.OPVD:喷底（色漆）→UV底→光学镀膜→UV中漆→UV面漆。

VM:UV底漆→真空镀膜→NCVM UV中漆→NCVM UV面漆→全检→装遮喷夹具→腐蚀→清洁→CCVM UV中漆→CCVMUV面漆。

3.2.2 喷涂技术员在进行喷涂作业时，须严格按《喷涂作业指导卡》及《自动喷涂设备操作规范》的规定进行作业。

制作首件，底漆首件要求水煮，百格及弯拆等常规经测试OK再送电镀试镀，正常真镀工艺的产品在生产中各工序间的停留时间不可超过2小时，防止产品在UV底漆和镀膜后裸露时间过长，导致产品物性测试部稳定。

3.2.3 喷涂技术员在进行底漆作业前先点检各设备是否正常。

3.2.4 批量投入生产前，必须先试喷、试镀产品，由喷漆技术员、镀膜技术员及质检员共同进行首件确认。

^PECVD 作业指导书^

作业指导书 Operation Specification
文件编号 File No. 版本 Ver. 页码 Page 工序名称 Operation PECVD PECVDቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ产品 Product Cell 备注 Note colar is even deep blue, blue or light blue. If there is variance, adjust the speed, if color is not even, adjust power of microwave. 6, 进行整框试片，如果颜色不对，可以调整速度，如果一侧的颜色不对，可以调整微波功率 While testing, if the color the whole case of wafers is not all right, speed has to be changed, if only wafers on one side is not all right, power of microwave has to be adjusted 7, 确认整框合格后才能进行正式生产 Start production when the whole case of wafers is tested to be qualified. 8, 幵始正式生产：将硅片依次放入到石墨框中，要保证扩散面向下 Put wafers in granite case and ensure the diffused side downwards. 9, 按照试片的条件进行正片生产 Start normal production under tested conditions. 10, 卸片员工使用真空吸笔，逐个将镀膜后的硅片吸起，同时将該片翻转，检验镀膜质量 Suck the coated wafers by vacuum sucking pen and turn it around to check coating quality. 11, 生产结束后按《PECVD设备操作規程》进行关机 11， Switch off MC as per "PECVD MC operation specification" 检验Inspection 1, 看颜色是否合格（合格的颜色为深蓝、蓝色、淡蓝） Check if the color is all right (right colors are deep blue, blue, light blue) 2, 沒有较大的色斑，沒有较多的水印 No big color mark, no much water mark. 编制 TS-F-003C2 参划常州天合光能有限公司审核生效日期批准

全自动真空离子镀膜机操作手册说明书

全自动真空离子镀膜机操作手册地址：中国广东省潮州市潮安区凤塘镇创高真空备工艺厂电话：+86－0768*******+86－0768*******第一打开择需作系一章：用开控制电源需要用的用系统。

用户登陆源后，触用户名，在陆画面说明摸屏启动在密码窗明动进入止画口输入相画面。

在“应的密码“用户名”码后点击确下拉菜单确定键进入点单的单选入操击下拉菜单选择相应用户名输入相应的密码报警显示示设备冷却开关压缩空气开关工关工件加热开关工件加热关热时间设置镀膜计延时计数时关机时间设设置工艺选择择输入手动设置跳至当前工动镀膜气体置曲线画第五工五章：工工艺层数度工艺参数数设置画面气号面说明体编号说明工艺状态显示延时开源时间设弧电设置氩气输入框此层镀膜第六本画绿色六章：IO 画面显示色代表此O 监控画示PLC 的此IO=ON画面说明的输入输出N出状态，红色代代表此IO ＝OFF第七章：开机步骤说明1、打开控制柜上主断路器2、打开控制电源开关后等待触摸屏启动3、选择相应用户名称4、输入相应用户密码后点击“确定”进入系统画面5、点击“功能画面”6、打开“冷却水泵”开关后返回系统画面7、打开维持泵开关8、打开扩散泵开关9、检查设备冷却水、压缩空气是否正常，等待扩散泵温度达到90摄氏度以上。

10、打开弧电源的总电源开关和气瓶开关12、打开“滑阀泵”13、设定好需要的工艺参数并选择14、打开“系统自动开关”和“镀膜自动”15、装好工件后关闭大门开始粗抽直到充气完成后开门取出工件第七章：关机步骤说明1、“系统自动”和“系统手动”开关关闭2、关闭弧电源的总电源开关3、关闭滑阀泵和扩散泵4、点击“功能画面”设定好自动关机时间（一般是120分钟）5、打开“自动关机”功能开关6、达到设定的时间后系统自动关闭“维持泵”和“冷却水泵”7、关闭总电源。

镀膜机作业指导书

晶控自动镀膜系统作业指导书1．镀膜机开、关机操作开机1．打开主电源。

2．将“运行/待机”开关打道“待机”位置。

3．打开显示器和计算机电源，待计算机启动完成。

4．开机械泵。

5．开扩散泵。

6．将“运行/待机”开关打道“运行”位置。

7．扩散泵预热30分钟后可以工作了。

关机1．关闭扩散泵冷却30分钟2．将“运行/待机”开关打道“待机”位置。

3．关闭计算机4．关闭机械泵5．关闭主电源2.运行参数设置晶片初始频率：输入被镀晶片的中心频率，例如：12160－－12170KHZ应输入12165KHZ；如果要加镀高频片，先进行频率修正，然后在晶片初始频率中输入加镀高频片的中心频率。

注意加镀完毕后要及时把晶片初始频率修正回原始值。

晶片目标频率：输入镀到的目标频率，例如：12M晶体镀到1000PPM，晶片目标频率应输入12012KHZ；3.579M晶体镀到700PPM，晶片目标频率应输入3581.5KHZ单面镀膜时间：用于时间镀膜时钼舟打开的时间，时间长短以能将所有的银全部蒸发完为标准。

机台修正系数：用来调整计算的理论膜厚值与实际膜厚值的差异的。

在第一次镀某个系列晶片的时候，第一锅可以设为1，当前标晶频率：程序实测的标晶当前的频率。

标晶目标频率表示标晶应该达到的频率，达到这一频率后，被镀晶片也会达到目标频率了，以KHz为单位。

镀膜速率：标晶当前的变化速度，以Hz/S为单位。

数值大小与电流有关。

延时倒计时表示在所有延时程序中动态显示延时时间和剩余的延时时间。

当剩余时间变为0时，本次延时结束，以KHz为单位。

镀膜总时间为自动镀膜或取消自动镀膜的总的时间。

当前实测高真空度值和当前实测低真空度值为实测的高真空和低真空值。

串口通讯的真空计显示测量真空度值；指针表不显示。

3静态参数设置。

轰击真空预置：若真空计型号为指针，设置为0表示在低真空轰击，设置为大于0的整数，表示在高真空轰击。

若真空计型号为串口，设置为0表示在低真空轰击，设置1―100(RF离子轰击)，表示在高真空轰击。

真空电镀机操作规程书

真空电镀机操作规程书真空电镀机操作规程书一、设备概述真空电镀机是一种常用于金属材料表面电镀的设备，通过在真空环境下进行电镀处理，可以使金属表面具有更高的光泽度和硬度。

二、操作前准备1. 确认真空电镀机的设备运行正常，检查电源是否稳定。

2. 检查电镀槽中是否有足够的电镀液，并确保电镀液的浓度符合要求。

3. 检查工作台面的清洁状况，确保工作环境整洁。

三、操作步骤1. 打开真空电镀机的外控面板，将其设置为待机状态。

2. 打开真空泵开关，启动真空泵，待压力达到设定值后，关闭真空泵开关。

3. 打开电镀槽的排液阀门，将槽内的电镀液排空。

4. 打开电镀槽的充液阀门，将符合要求的电镀液充注到电镀槽中，同时观察电镀液的液位是否在合适范围内。

5. 调整电源参数，如电压、电流等，根据所需的电镀效果进行设置。

6. 打开电镀槽的加热装置，将电镀槽的温度调整到适宜的范围内。

7. 将待电镀的金属材料放置到电镀槽内，注意避免不同金属材料接触。

8. 打开真空电镀机的真空开关，启动真空泵并开启真空阀门，等待设定的真空度达到要求后，关闭真空开关和真空阀门。

9. 开始电镀过程，按照设定的电源参数和电镀时间进行操作。

10. 结束电镀后，关闭电镀槽的加热装置，同时打开电镀槽的排液阀门，将电镀液排空。

11. 清洗电镀槽和电镀机，彻底清除电镀液和残留物。

12. 关闭真空电镀机的外控面板和电源开关，彻底停机。

四、安全注意事项1. 操作时需穿戴好个人防护装备，如手套、口罩、护目镜等。

2. 在操作过程中避免直接接触电镀槽和电镀液。

3. 调整电源参数时需小心操作，避免触摸导电部件。

4. 严禁操作人员未经培训和未取得操作资格的人员进行操作。

5. 若发现设备异常或故障，应立即停机并及时报修。

五、操作记录1. 每次操作结束后，应当记录电镀槽的使用时间和电镀液的使用量。

2. 若发现电镀效果不理想，应及时记录和调整相应的参数。

六、设备维护1. 定期清洁和保养真空电镀机，保持其正常运行。

PVD真空镀膜机作业指导书

PVD真空镀膜机作业指导书一．开机1. 检查水路是否畅通，确定冷却塔、激进泵是否正常工作（水压需达到0.4Mpa以上）。

2. 检查气路是否畅通，确定空压机是否正常工作（气压需达到0.5Mpa）。

3．开启电源开关，打开《开机》、《维持泵》开关，待真空计的热偶计读数在10pa以下时，打开《扩散泵温控仪1、2》，《扩散泵1、2》四个开关。

即扩散泵升温（大约1小时左右）。

4. 距加热时间约10分钟左右，开启低温捕集器，待6分钟冷却时间过后，按《F1》启动低温捕集器。

待温控仪上的设定温度达到时，即可正常生产操作。

二．生产操作1. 确定真空室内膜料、离子源灯丝、工件架已按要求放置完毕。

2. 开启《粗抽泵》，将抽气手自动档切换至自动档，打开《自动抽气》开关，待真空室大门吸合即可。

3. 当罗茨泵自动开启时，按低温捕集器《F2》，开启捕集器制冷功能。

4. 此操作应工艺的不同而有较大的变化，此处不一一详述，即为口述。

5. 工艺完成后，关闭电子枪、离子源（必须先归零灯丝电流，再关电源）等开关，打开《自动充气》开关，待精抽阀闭合后，将抽气手自动档切换至手动档（此处必需注意除维持泵、扩散泵、粗抽泵、开机这四个开关是按下去的外，其他开关都不可按下，以免操作失误造成扩散泵暴露大气！），按捕集器F3，开启回温功能，待低温捕集器温度回温到30摄氏度以上，打开《充气阀》，待真空室门打开，关闭《充气阀》。

（注：《自动抽气》与《自动充气》开关严禁混淆）6. 以上循环，即为正常操作流程。

三．停机1. 将真空室门吸合，抽至一定真空，关闭除《停机》开关的所有开关。

（注：此停机开关，正常生产中严禁开启）2. 待真空镀膜机冷却一小时后，方可关闭电源，空压机，冷却塔，激进泵。

注：以上所有操作必须严格执行，未经允许不可更改，若应操作失误造成镀膜机受到损坏，影响等因素，操作员将承担相应责任。

警告:本机器有多处高压变压器，电压高达8KV，为避免安全事故，未经允许不可开启电柜、真空室下的屏蔽门。

真空镀膜标准作业书SOP(更新)

详细说明利用阻蒸加热蒸发的真空镀膜
28#
开启离子源前的真空度
气体设为自动给气方式，轰击时间：5分钟
版本
A0 A1 A2
镀膜作业前的真空度
不需要充氧
150mA±50
阻蒸电流 200A±100
6.0Å/s,扫描光斑调到最大,Toling:100%
1.0-2.0Å/s,扫描光斑调到最小,Toling:100%
Sio2(100Å±10Å)/AF(100-200Å)
0.5~3mm、99.9%
20mm、99.9%
25±5Hz
30Min
制修订/废止内容A
轰击时离子源阳极电流
4.0A
成膜初始真空度
5.0*E-3 Pa
成膜真空度
4.0*E-3 Pa~6.0*E-3 Pa
作
业
POWER
条
件
束流/电流
SiO2 AF-防水药
SiO2 AF
镀膜数据
膜厚
材料
SiO2 AF
转架速度
25±5RPM
作业时间
1周期（从上一炉开门到下一炉开门）
版本 A2
作成
审核
批准
真空镀膜标准作业书
产品型号
颜色
作成日期
文件编码
LBD-AF
无色
2016/1/21
HX-SOP-GX-SC-005
■真空镀膜详细作业条件
类别
管理项目
镀膜方式
E-BEAM EVAPORATION
镀膜设备
1500/2050机型
轰击前真空度
6.0*E-3 Pa
轰击时离子源阳极电压
100V-120V
轰击时离子源阴极电流

真空镀膜机操作指导

资料范本本资料为word版本，可以直接编辑和打印，感谢您的下载真空镀膜机操作指导地点：__________________时间：__________________说明：本资料适用于约定双方经过谈判，协商而共同承认，共同遵守的责任与义务，仅供参考，文档可直接下载或修改，不需要的部分可直接删除，使用时请详细阅读内容真空镀膜实验指导真空镀膜常用的方法有蒸发镀膜、射频溅射镀膜和离子镀膜等。

本实验通过介绍蒸发镀膜原理，掌握蒸发镀膜的操作方法。

真空镀膜技术在电真空、无线电、光学、固体物理、原子能和空间技术中有广泛的应用。

真空镀膜原理：蒸发镀膜机理蒸发镀膜是真空镀膜的一种，它是在高真空条件下将物质加热到沸腾状态，沸腾出来的原子或分子溅落在固体材料表面，形成一层或多层膜的方法。

凡是在沸腾温度下不分解或不变性的物质都可以用此法蒸镀成膜。

蒸发原子的成膜过程比较复杂，这里只能粗略描述如下：溅落原子首先被固体表面吸附，当表面温度低于某一临界温度时，原子开始“核化”——部分原子凝聚成团，出现若干“岛”，然后这些“岛”逐渐吸收周围的原子而长大，众多的“岛”相互连接成一片而成一块连续的膜。

蒸发镀膜的条件主要有两个，分别介绍如下：高真空我们希望蒸发出来的原子或分子不要受空气分子的阻挡而直接溅落到固体的表面，这样，蒸发镀膜的速度高，成膜质量也好。

相反，如果真空度低，有大量的空气分子存在，一方面，蒸发出来的原子或分子与空气分子碰撞，阻碍了膜材分子的扩散，降低了蒸镀的速度，影响了膜的均匀性，另一方面，空气的导热使得膜材的温度不能很快地升高，必然要加大加热功率；更有甚者，空气的存在可能使膜材的某些成分氧化，引起成分变性；在连接着抽气机的情况下，若不能很快完成镀膜，膜料将被抽走。

因此，蒸发镀膜需要在高真空条件下进行。

当然，真空度也不需要绝对地高。

事实上，只要分子的平均自由程大于膜材到基底的距离即可。

如果膜材到基底的距离为10 --20cm，根据自由程公式（d是分子的直径，n是分子数密度）不难估计真空度在Pa以上就可以满足要求。