破坏试验

酸破坏、碱破坏、高温破坏、高湿破坏、光照破坏、氧化破坏

酸破坏样品中酸的浓度一般为1mol/L，量一般2ml，具体多少量以样品能分解就行，产生降解产物本来酸破坏试验就是检验该色谱条件能否使杂质峰与主峰分开，是否能达到控制产品质量的目的。破坏后加入适量的碱使pH值基本为中性，加入适量的磷酸二氢钾使溶液的pH为4~5，这样可以延长色谱柱的使用寿命。破坏试验的具体做法与要求破坏试验，也称为强制降解试验（stressing test），在人为设定的特殊条件下，如酸、碱、氧化、高温、光照等，引起药物的降解，通过对降解产物的测定，验证检测方法的可行性，同时分析药物可能的降解途径和降解机制。

破坏性试验的设计常结合具体药物的特点，选择合适的条件，使药物在每种环境下尽可能都有一定量的降解，并根据剂型的特点充分分析药物的降解途径和降解机制，保证试验的意义。对于相对稳定的药物，可增强破坏的强度，至少在1种条件下的降解达到10%，很少有药物对所有条件都稳定。

1.酸破坏试验一般选择0.1～1mol/L的盐酸，在室温或加热条件下进行考察。一般配制2倍浓度溶液，测定时以方便用等浓度的碱溶液调节pH值至中性。

2.碱破坏试验一般选择0.1～1 mol/L的氢氧化钠溶液，在室温或加热条件下进行考察。一般配制2倍浓度溶液，测定时以方便用等浓度的酸溶液调节pH值至中性。

3.高温破坏试验（热破坏）分别在固体和溶液状态下进行考察。固体一般60℃或者80℃下15～30天，溶液可水浴或者130℃烘箱下放置数小时。

4.光破坏试验分别在固体和溶液状态下进行考察（考察15～30天）。

5.氧化破坏试验主要在溶液状态下进行考察，氧化剂可采用饱和的氧气或不同浓度的过氧化氢（双氧水），分别在室温或加热条件下进行考察。

需要同法进行空白试验，如为原料破坏可仅进行氧化破坏空白。试验结束后需要报告得出明确的结论：药品在各种条件下的稳定特性、降解途径与降解产物，有关物质分析方法是否可用于检查降解产物等。破坏试验常规要求：

1.对于采用HPLC法测定降解产物时，以主成分计算一般降解10％即可。并需要采用有效的方法对降解产物进行检测，需要报告测定的回收量，通常应达到90％左右，以证明检测方法的有效性。

2.对于破坏性试验时降解量较大的降解产物，建议结合稳定性研究中加速试验和长期试验的具体杂质数据，参考ICH对新原料药中杂质的规定（每日服用最大剂量不超过2克时，鉴定阈值为0.10％；每日服用最大剂量超过2克时，鉴定阈值为0.05％），必要时进行定性分析，并作为已知杂质，根据安全性数据，采用已知杂质对照，确定合理的限度，订入质量标准。不能采用已知杂质进行对照时，可通过测定降解产物、主成分在测定波长处的吸收系数，分析两者的差异。若两者吸收系数相差较大时，建议采用响应因子校正后进行有效控制；如果两者吸收系数相差较小，建议采用自身对照法或峰面积归一化法进行有效控制。

3. 破坏性试验产生的降解产物的个数比较多，采用HPLC法测定时，需考虑主成分与降解产物之间、降解产物相互之间的分离度，保证降解产物峰与主峰、降解产物峰之间有良好的分离度。另外，对于原料药，分离度符合要求也应考虑到主药与起始原料、各合成中间体是否有良好的分离度；对于制剂，应注意辅料、辅料降解产物的干扰。需要值得一提的是色谱条件的确定通常以最难分离的两个降解产物或降解产物与主成分之间的分离度符合要求作为依据之一。

4.对于创新药物的破坏性试验来说，峰纯度分析非常重要，一是可以了解降解产物的特性；二是可以有效地检出和控制杂质。检测峰纯度通常采用二级管阵列检测器或者液质连用技术分析测定各色谱峰的纯度，说明在主峰中、各降解产物峰中有没有包含其它峰。简单地通过观察峰形判断峰的纯度没有说服力。

5.如辅料破坏出峰，不能从样品破坏峰中扣除，溶剂峰除外（譬如双氧水的峰）。

参考案例：破坏试验

对本品进行酸破坏、碱破坏、氧化破坏、高温破坏及光破坏试验，了解本品的降解途径，同时考察破坏产物峰与主峰的分离情况，以验证方法的专属性。

取本品10片，研细，备用；取按处方比例混合的辅料适量，备用。酸破坏：精密称取本品细粉适量（约相当于XXX15mg），置30ml刻度试管中，加入1mol/L 盐酸溶液15ml，置水浴中加热5小时，调节pH值至中性，加流动相稀释至30ml，滤过，取续滤液作为酸破坏溶液。碱破坏：精密称取本品细粉适量（约相当于XXX15mg），置30ml刻度试管中，加入1mol/L 氢氧化钠溶液15ml，置水浴中加热5小时，调节pH值至中性，加流动相稀释至30ml，滤过，取续滤液作为碱破坏溶液。

氧化破坏：精密称取本品细粉适量（约相当于XXX15mg），置30ml刻度试管中，加入5%双氧水溶液5ml，置水浴中加热1小时，加流动相稀释至30ml，滤过，取续滤液作为氧化破坏溶液。高温破坏：精密称取本品细粉适量（约相当于XXX15mg），置30ml刻度试管中，加水15ml，置水浴中加热5小时，加水稀释至30ml，滤过，取续滤液作为溶液高温破坏溶液；取本品细粉适量，于60℃下放置15天，精密称取适量，加流动相制成每1ml 约含0.5mg的溶液，滤过，取续滤液作为固体高温破坏溶液。光破坏：精密称取本品细粉适量（约相当于XXX15mg），置30ml刻度试管中，加水15ml，置4500LX照度下照射15天，加流动相稀释至30ml，滤过，取续滤液作为溶液光破坏溶液；取本品细粉适量，置4500LX 照度下照射15天，精密称取约10mg，置30ml刻度试管中，加流动相30ml，超声处理10分钟，滤过，取续滤液作为固体光破坏溶液。

同法进行辅料空白破坏试验，分别精密量取各破坏后溶液各20μl，注入色谱仪，记录色谱图。色谱图见图13～26，结果见表1。表1 XXXX破坏试验结果破坏条件主峰保留时间（分）面积归一化法含量（%）降解产物峰保留时间（分）回收量（%）与主峰相邻峰分离度