CVS_实验原理和分析过程
CVS 分析化学
CVS原理
▪ 上图为典型的槽液中测试获得伏安图。X轴为电压：从负到正。Y轴为电流 ▪ 沉积区域：金属从电极表面沉积，此时电流为负。电镀时间可以通过扫描
速率精确获得，电镀速率也可以从中导出。 ▪ 剥离区域：金属从电极表面剥离，此时电流为正。将金属剥离所需要的电
量以正电流面积来表示，面积的计算则通过积分获得，用mC来表示。剥离 金属和沉积金属的总量是一样，伏安图上正面积也和金属沉积的总量存在 一定的比例关系，可以通过计算剥离过程中的电流面积来表现镀铜量。
应用领域： ▪ 线路板(PCB)制造行业电镀添加剂分析，五金电镀添加剂分析 兼容药水： ▪ 国外主流药水厂商：罗门哈斯，安美特，麦特美，日本上村，美国乐思，
德国施罗德等。 ▪ 本地药水可以为客户提供合适的测试方法
CVSmart产品介绍
特点： ▪ 兼容市场上大部分的药水供应商 ▪ 便携式设计 ▪ 测试数据自动输出到EXCEL表格，便于保存。 ▪ 自建测试过程 ▪ 可以实现VMS自动添加和测试过程中自动添加有
了伏安曲线； ▪ 20世纪40年代以来主要采用特殊材料制备的固体电极进行伏安分析，结
合各种伏安技术进行微量分析、生化物质分析、活体分析 ；上个世纪80 年代开始此技术开始应用于电镀槽液测试和分析。
上图为典型的循环伏安获得信号曲线
CVS原理
▪ 循环伏安溶出分析（CVS）可以用于分析电镀溶液中的有机物，这个结果 也是基于槽内有机物在电镀中的反应。不管用户需要测试的是光亮剂，抑 制剂 或者其他，这些有机物都可以被电镀的速度所反映。
进样就可以实现从手动到半自动、全自动的分析系统。
MVA-11产品介绍
包含组件： ▪ CVS分析主机 ▪ 工作电极旋转驱动轴 ▪ 1mm玻璃Pt电极 ▪ Pt 辅助电极 ▪ 内参比电极 ▪ 参比电极外套 ▪ 10~90mL样品杯 ▪ 50~150mL样品杯 ▪ CVS操作软件
CVS分析仪
CVS分析仪CVS分析仪是一种广泛应用于医学领域的设备。
本文将介绍CVS 分析仪的工作原理、应用领域、优势以及未来发展前景。
CVS分析仪是一种能够自动分析和处理生物样品的仪器设备。
它采用了先进的光电技术和传感器，能对样本中的生物分子进行准确快速的检测和分析。
CVS分析仪可以应用于遗传疾病的筛查、药物治疗监测、感染性疾病的诊断等多个医学领域。
CVS分析仪的工作原理基于生物分子的特定性质。
在使用分析仪之前，首先需要收集样本，例如血液、尿液等。
接下来，样本将被放置在分析仪的样品槽内。
分析仪会通过光电技术对样本进行扫描和分析，然后根据设定的算法和标准，将结果进行分析和解读。
CVS分析仪的应用领域十分广泛。
首先，它可以应用于遗传疾病的筛查。
通过对样本中的DNA进行分析，可以检测出染色体异常和突变等遗传病变情况。
其次，CVS分析仪可以用于药物治疗监测。
例如，对于使用抗癌药物治疗的患者，通过监测其血液中药物的浓度，可以确定治疗是否有效。
此外，CVS分析仪还可以辅助感染性疾病的诊断。
通过对样本中的病原体进行分析，可以快速确定疾病的种类和病原体的耐药性。
CVS分析仪相比传统的手工检测方法具有许多优势。
首先，它的检测速度更快。
传统的实验室检测通常需要几个小时甚至更长时间来完成，而CVS分析仪能够在几分钟内完成分析。
其次，CVS分析仪的结果更加准确可靠。
它可以避免人为误差和实验操作的不一致性，提高了检测结果的可靠性。
此外，CVS分析仪还可以实现大规模并行分析，提高了样本处理的效率和成本效益。
CVS分析仪的未来发展前景非常广阔。
随着技术的不断进步，CVS 分析仪将会更加便携化和智能化。
未来的CVS分析仪可能会集成更多的传感器和功能模块，能够同时对多个生物标志物进行分析，并能够实时监测和跟踪疾病的进展。
此外，CVS分析仪还有望应用于更多的领域，如食品安全、环境监测等。
总之，CVS分析仪作为一种智能化的分析设备，具有广泛应用的潜力。
CVS使用说明
五,CVS中的TAG(标记)
项目快照(snapshot) 用TAG来跟踪项目的状态(事件)
file1 file2 file3 file4 file5 <-*- TAG
1.1 1.1 1.1 1.1 /--1.1* 1.2*- 1.2 1.2 -1.2*1.3 \- 1.3*- 1.3 / 1.3 1.4 \ 1.4 / 1.4 \-1.5*- 1.5 1.6
八,CVS运用实例
两种作业同时进行
分 支 ( Update 作 业 )
(分支顶端)
开发主线(新机种对应作业) TagA(主干稳定点)
八,CVS运用实例
分支的创建及合并的时机
分支达到稳定状态-合并
branchTagA branchTagB (分支稳定点) (分支稳定点)
分 支 ( Update 作 业 )
四,CVS C/S 连接的几种方式
使用pserver方式连接CVS Server
Server Side设置
/etc/services /etc/inetd.conf或/etc/xinetd.d/cvspserver cvsrepository/CVSROOT/passwd
Client Side设置
CVS应用简介
一,CVS的发展简介
CVS(Concurrent Versions System)是现在比较 常用的一种版本控制系统. CVS的产生是为了适应自由软件的发展,和对分布 式协同开发进行有效的版本管理的需要. 90年代初,CVS发展成基于网络平台的应用系统, 并随之被广泛运用. 现在cvs已经能在Windows,Unix,Linux等多种os上 使用,功能也不断完善,因此也成为当前最流行 的版本控制软件之一.
1CVS_基本原理
光亮剂分析
VMS – Cu electrolyte Suppressor concentrate Brightener standard
Metrohm Metrohm Metrohm
800 Dosino
800 Dosino
800 Dosino
50mL
VENT
2mL
VENT
2mL
VENT
797 VA Computrace
Metrohm
4. Sample determination
Suppressor concentrate Standard additions with brightener
-c(sample)
c [mL/L]
浓度计算
Q-Q(intercept) [C]
Q(2) Q(1) Q(bath)
-c(sample)
c [mL/L]
光亮剂分析
MLAT – Modified Linear Approximation Technique
• 1. 2. 3. 4. 5. 6.
分析过程
CVS – Cyclic Voltammetric Stripping
•Potential
U
•Resulting curve
I
20 mA
15 mA
10 mA
5 mA
0
-5 mA
t
0.0
0.5
1.0
1.5 U
CPVS – Cyclic Pulse Voltammetric Stripping •CVS •CPVS
CVS分析测试
CVS 分析测试注：5ml/L 的SF-M 中的基本成分相当于SF-BASE 6.7ml/L ；相当于SF-B 1.3ml/L ；相当于SF-A 5ml/L ；根据分析结果，光亮剂浓度不足时补给SF-B ；整平剂浓度不足时补给SF-A。
基本成分一般不会有问题，但严重不足时补给SF-BASE 。
SF-BASE 中含有和SF-M 同量的聚合物。
三．测定条件：四．分析相关试剂：五．分析顺序：①准备：1.1每次测试均需更换参比电极外液；参比电极内液每周更换一次。
更换时白色橡皮圈盖住大孔，露出小孔。
1.2把参比电极和铂金电极安装到测量头上。
②.活化取100ml VMS到100ml烧杯中，放在工作台上点选SF-Base{SHAPE \* MERGEFORMAT |condition勾选Number of scans(扫描次数)并输入所需扫描次数，一般在20-40 次左右；不勾选%StabilityStart Conditioning（开始活化）Exit(退出)③.分析校准因子SF-Base：DT法1. 1#位放置标准液，工作台放置盛纯水的废液杯，清洗1号加液管；1#位放置标准液，工作台放置100mlVMS，点选SF-BaseAnalyze（分析）Calibration（校准）选项选择1#位Calibrate（校准）Proceed（继续）Calibration factor（9~13ul/L）Abort(退出)2.分析标准液的Base浓度1#位放置标准液，工作台放置100mlVMS，点选SF-Base AnalyzeAnalysis选项添加量选择0.05mlAnalyze选择1#位Proceed得到标准液的Base浓度A Abort(退出)3.分析槽液的Base浓度1#位放置槽液，工作台放置盛纯水的废液杯，清洗1号加液管；1#位放置槽液，工作台放置100mlVMS，点选SF-BaseAnalyzeAnalysis选项添加量选择（分析值高则添加量选择小）0.035ml/0.05ml Analyee选择1#位Proceed得到槽液的Base浓度B Abort(退出)4.计算槽液的Base浓度槽液的Base浓度=6.7*B/A④.分析SF-B浓度SF-B：LAT法intercept 0.15~0.25；Contamination(有机污染值)：20uA工作台放置100mlVMS+0.5mlSF-Base点选SF-BAnalyzeMeasure new-ralueProceedSave1#位放置SF-B 10倍稀释液，工作台放置盛纯水的废液杯，清洗1#加液管；1#位放置SF-B 10倍稀释液，工作台放置盛90mlVMS+10ml标准液的100ml烧杯点选SF-BAnalyzeAnalyze选择1#位Proceed得到标准液中SF-B的浓度CSaveExit1#位放置SF-B 10倍稀释液，工作台放置盛90mlVMS+10ml槽液的100ml烧杯点选SF-BAnalyze选择1#位Proceed得到槽液中SF-B的浓度DSaveExit计算：槽液中SF-B的浓度=1.3D/C⑤.分析SF-A浓度SF-A：RC法检量线：Calibrate：15.47ml、11.39ml、9.008ml、7.312ml、6.144ml。
C-V测试基本原理
在任意偏压下，电荷仅位于半导体内， 且与临近氧化层的金属表面电荷量大小 相等，但极性相反
在前面已提到空间电荷电容Cd是栅压的 函数，那么栅压是如何影响半导体表面 从而影响Cd呢
下面就栅压的变化对半导体表面和电容的 变化做简要的说明
当V＜0时硅表面空穴累积，能带上弯，在 V＜＜0时，C=Cox
VFB’’=Qm/Cox=－Qox/Cox
结合以上两点，维持平带所需的电压为 VFB=VFB’+VFB’’= φms－Qox/Cox
SI-SIO2的四种电荷对CV特性的影响
可动电荷:主要包括Na+、K+，Na是一 种碱金属，很活跃，在SIO2生长过程中 及以后的处理中很容易受到沾污，而且 Na+在高温偏压下会发生漂移。当进入 SIO2后，将在SI表面感应负电荷，其效 果相当于在栅上加了一个正电压，使CV 曲线发生漂移
中新的界面态产生、Na、k沾污严重。脉冲瞬态MOS C-T测试
在栅上加一个阶跃信号，是半导体内部 处于深耗净非稳态（因为少子产生跟不 上阶跃信号）随着少子的产生，MOS电 容发生变化，最终趋于稳定值，根据达 到稳定的时间来计算少子的寿命。
其他： 界面陷阱密度测试 衬底杂质浓度分布 漏电测试
阱；
（3）在直流偏压下，无电流通过SIO2层，即 氧化层的电阻为无穷大
理想二极管原理将提供实际MOS器件的基础
qx为电子亲和力 qφm为金属功函数、 qφs为半导体功函数 功函数：逸出功，使一个电子脱离物质表面所需要的最小能量
● 金属半导体功函数差为零：根据理想MOS 管假设，功函数差为零：
qφms= qφm- qφs= qφm（qx+Eg/2+φf）=0
用CVS分析仪监控酸性电镀铜溶液
用CVS分析仪监控酸性电镀铜溶液胡文强;易家香;周仲承;王克军;杨盟辉;黄革【摘要】循环伏安剥离分析是目前印制线路板业界广泛采用的一种分析技术,其结果可以作为离线或在线添加有机添加剂的依据,保障镀液的品质.本文对电镀铜中的有机添加剂和CVS技术的电化学原理进行了介绍,对运用CVS分析仪测试电镀添加剂浓度的方法和步骤进行了介绍,介绍了两则运用CVS分析仪分析调整电镀铜镀液的实例.【期刊名称】《印制电路信息》【年(卷),期】2013(000)001【总页数】3页(P27-29)【关键词】循环伏安剥离分析仪;有机添加剂;酸性镀铜液;抑制剂;光亮剂【作者】胡文强;易家香;周仲承;王克军;杨盟辉;黄革【作者单位】中南电子化学材料所,湖北武汉430070;中南电子化学材料所,湖北武汉430070;中南电子化学材料所,湖北武汉430070;中南电子化学材料所,湖北武汉430070;中南电子化学材料所,湖北武汉430070;中南电子化学材料所,湖北武汉430070【正文语种】中文【中图分类】T-1;TN41酸性电镀铜镀液的基本成分包括H2SO4、Cu2+、Cl-和有机添加剂等：前三种物质可以通过化学分析的方法对其含量进行监测和管控；而有机添加剂多为聚合物，其含量难以通过简单的化学分析的方法进行确定。
在早先的操作中，一向以一种基于操作经验为主的霍尔槽（Hull）实验的方法，做为管理与添加的工具。
但由于此种方法仅能提供酸性电镀铜镀液中有机添加剂整体效果的定性参考，而不能提供有效的定量信息，且此种方法依赖于操作人员的实践经验，由不同的人员操作，结果可能相差较大，无法准确地对镀铜液中的有机添加剂进行监控和添加。
CVS （Cyclic Voltammetric Stripping，循环伏安剥离）分析仪能够精确地测定镀液中有机添加剂的浓度[1]，让操作者可随时监测镀液中各种有机添加剂的浓度，以确保电镀液的使用效果，因此，CVS技术在半导体以及印制电路板行业得到了广泛采用。
CVS
ＣＶＳ技术在监控电镀铜槽液的运用摘要：介绍CVS 技术在监控电镀铜槽液有机添加剂的运用。
本文首先将对电镀铜中的有机添加剂和CVS 技术的电化学原理进行解说，然后对CVS分析仪对有机添加剂浓度进行测量的原理和CVS中有机添加剂程序的创建进行介绍，最后简要介绍CVS在有机添加剂来料查验、镀液污染值、碳处理情况等监控方面的运用，希望此文章能够对CVS化验分析人员对此仪器有更深一步的了解。
关键词: 有机添加剂酸性镀铜液 CVS分析仪电位The application of the CVS technology to monitor copper plating bath——Qiongli Fu BAIKAL CHEMICALS INC. Abstract: To introduce the CVS technology in the monitoring of organic additives of copper plating bath .Firstly, this article will explain the organic additives of copper plating and the electrochemical principle on CVS techniques.Secondly,the principle of CVS analyzer to measure the concentration of organic additives and the creation of procedure in CVS analyzer are introduced.Finally,it will briefly introduce the application of CVS analyzer to monitor the organic additive incoming inspection, bath pollution value, carbon treatment process. I hope this article will help analysiser to understand the equipment more.Key words: organic additives ,Acid copper plating bath , CVS analyzer , Potential一、引言众所周知酸性电镀铜槽液中的基本成分有Cu2+、SO42-、Cl-和有机添加剂，前三种成分可通过化学分析对其进行管控；至于有机添加剂的分析，早先一向以经验导向的HULL-CELL试镀片，做为管理与添加的工具。
CVS分析仪2篇
CVS分析仪2篇第一篇：CVS分析仪介绍CVS分析仪是一种常用于电化学分析的仪器，可用于测量多种化学物质的浓度、化学反应的速率等。
其主要特点是使用方便、结果准确、检测灵敏度高等。
CVS分析仪有很多不同的型号和品牌，但它们都共享一些基本原理。
其基本工作原理是在电解液中通过电化学反应来得到需要分析的结果。
CVS分析仪的核心部分是工作电极，该电极通过标准电极电位以及测定电流来加以测量。
通常情况下，电解液中的物质会与电极发生化学反应，这些反应所产生的电流可用于计算出物质浓度的值。
CVS分析仪通常需要连接至计算机或控制器才能工作。
计算机会负责控制测量程序和收集数据。
这些数据可用于制作图形或表格，并通过统计作分析及比较不同样品的浓度或反应速率。
CVS分析仪的使用范围很广。
在医疗领域，它可用于测量血液中的葡萄糖、胆固醇、生化制品等。
在环境领域，它被用于测量水、气中的污染物浓度。
在冶金和石油化工行业中，CVS可用于分析金属和燃料等化学物质。
此外，CVS分析仪在食品、化妆品、药品等行业也有广泛的应用，以保证它们的质量和安全性。
总之，CVS分析仪是一种功能强大、易于使用的仪器，具有高检测灵敏度和精度的特点，可用于多种化学物质的分析和测量。
它在科学研究及产业领域有着广泛的应用。
第二篇：CVS分析仪的应用及发展趋势CVS分析仪具有广泛的应用领域，特别是在化工、环境工程、医疗保健和食品科学等产业领域中，CVS分析仪不仅能够提供准确的检测结果，还能够提高检测效率，减少人为的误差以及时间成本等。
CVS分析仪的一个重要应用是在环境领域。
在环境保护和污染控制中，CVS分析仪可用于测量大气中的有害气体浓度、地表水和海洋中的有毒物质浓度等。
此外，在食品科学中，CVS分析仪可用于检测食品中的添加物和化学成分，以保证食品的质量和安全性。
CVS分析仪的发展趋势主要体现在技术上的升级和功能的完善。
随着科技的不断进步和理论的完善，CVS分析仪的准确性和灵敏度也得到了极大的提高。
循环伏安剥离法CVS的应用
循环伏安剥离法 CVS 的应用随着镶嵌制程在大量IC制造中逐渐获得重视，更可靠的铜电镀槽分析技术也变得越来越重要。
循环式伏安剥离法(Cyclic VoltammetricStripping，CVS)已经被证明是一种正确且精准的有机添加剂控制技术;最新一代的系统将会是更可靠、更简单、更快速、且其价格更能被接受的产品。
在铜电镀制程中，其关键技术在于如何在晶圆表面上沉积出均匀铜薄膜，使其具有特定的薄膜机械特性，并在沟槽与引洞内产生超填充(super-filling) 特性。
这些重要的制程特性通常都是利用多成份有机与无机电镀溶液来达成;所以我们需要更精确、更敏感、更容易使用与更具成本优势的线上监控量测技术。
一般铜电镀槽都含有高稳定的硫酸铜与硫酸电解质溶液。
在这些电解质溶液中的铜浓度为14~60克/升，而其硫酸浓度则为1~240克/升;相对地，其他加入到电镀槽内的化学成份比例则为极少量。
这些添加剂的成份为有机材料与氯离子，其主要功用在于改变电镀铜的均匀度、硬度、延展性、与张力应力等特性，所以精确控制添加剂对于维持电镀物的特定性质是非常重要的。
添加到铜电镀槽内的有机成份可区分为下列3种。
(1)包含pendantsulfur原子的加速剂成份，该加速剂会在其吸附处产生局部加速沉积;(2)由聚乙二醇(polyethyleneglycols，PEGs)等聚合物所组成的抑制剂成份，该抑制剂可以在整个晶圆表面形成电流抑制薄膜，特别是当氯离子存在时(氯离子会加强抑制效应);(3)为二次抑制剂的轧平剂(leveler)，此作用只会在质量转换机制最显著的突出表面发生。
由于各个有机成份在电镀制程中的消耗速率都不同，因此我们需要对个别成份进行监控。
例如，加速剂的消耗速率会比其他有机成份要快许多;此外，有机添加剂与无机成份彼此间也会在电镀制程中进行反应，因而分解或改变其初始有机成份。
这些副产物将会影响整个沉积制程，有时候还会比初始有机成份造成更大的影响。
软件配置管理实验报告-cvs
c update如果有,则用update同步文件
d做你自己的修改，并保证正确
e update看是否有人修改了你的文件
f如果有冲突，合并冲突
g commit提交你的修改，如果因为又有人提交修改而失败，回到e步
h回到b步
常用命令
1、cvs checkout module_name
8.配置ECLIPSE与CVS一同工作
实验报告
四、实验小结（包括问题和解决方法、心得体会、意见与建议等）
CVS是一个C/S系统，多个开发人员通过一个中心版本控制系统来记录文件版本，从而达到保证文件同步的目的。CVS版本控制系统是一种GNU软件包，主要用于在多人开发环境下的源码的维护。
CVS使用流程
a checkout仅当本地没有working copy时使用
5、cvs log file_name查看修改历史和注释信息
最常用的指令：
检查版本状态(版本库中最新版本) cvs status文件名
比较当前文件与版本库中的差别cvs diff文件名
比较两个版本的差别cvs diff -r版本1 -r版本2文件名
程序入库cvs commit（ci）文件名
从版本库中提取最新版本cvs update文件名
3、cvs commit -m "write some comments here" file_name确认修改写入到CVS库里。
cvs admin -m 1.3:"write some comments here" file_name修改某个文件某个版本的注释
4、cvsstatus filename查看状态
module_name可以暂时理解为目录名，它会在本地当前目录下建立module_录，在把服务器上所有module_name目录下的文件copy到本地module_name目录下。
瑞士万通cvs分析仪教学
瑞士万通cvs分析仪教学瑞士万通专业型CVS搭载viva软件是目前利用循环溶出伏安法（CVS）测定电镀槽液中的有机添加物功能强大的系统。
- 更强的灵活性：瑞士万通专业型CVS以其独特的灵活性而出众。
由于系统完全模块化设计，它可以通过添加其它的模块单元。
例如，多思TM自动加液系统、泵和样品处理器等，可以随时地扩展和升级系统的功能。
viva电脑软件是实现最大的灵活性的强有力保障。
所有的参数都可以自由定义，您可以在viva软件中几乎无限制地编辑您自己的方法参数。
viva软件同时控制瑞士万通专业型CVS主机和其他的连接设备。
软件中已预先安装好一些重要的实验方法，这样可以使系统在简单几步中，即可实现快速、简单的进行操作。
- 更强的简便性：viva软件另一项强大的功能是其强大而完善的数据库功能。
除了数据自动采集和评估功能，同时它还可以实现测量数据的便捷管理。
- 更好的安全性：用户管理与自由定义访问权限，自动备份功能确保高水平的数据安全性。
更进一步地，使用的溶液、电极和系统的其它附件都可以被系统监控，以符合GLP（良好实验室规范）来确保最高级别的安全性。
此外，Metrohm在CVS测定电镀槽液中的有机添加剂领域的检测，已有超过10年的丰富经验，这使我们在分析电镀槽液可以成为您的忠实可信赖的合作伙伴。
- 最重要的应用：MLAT法测定电镀槽液中光亮剂的含量（改进型线性逼近技术）DT法测定电镀槽液中抑制剂的含量（稀释滴定法）主要特点和性能- 专为客户定制的模块化设计的测量系统- 内置的校正设备保证测量的精确度和可信度- 可拆卸的测量头- 丰富的自动化设备选择- 独特的液体处理系统——多思自动加液系统、抽排液泵和液位传感器Viva软件- 个性化、面向问题的编程方式- 数据库针对方便浏览和测量结果评估的多种功能设计- 数据安全性和自动备份功能- 测量结果具有可追溯性和安全性，方便用户溯源- 控制图表功能主要技术参数尺寸包括测量头和收集盘宽度 188mm宽度 322mm宽度 452mm主机重量 7.4kg恒压源扫描电位范围±5V电流范围±224mA电流测量范围 +63pA...+224mA恒流源电位测量范围 -5.000...+5.000V分辨率施加电位15μV测量电位150μV施加电流电流测量范围的0.0031%测量电流电流测量范围的0.0031%最小的测量电流范围（63pA）下测量电流值为2fA精确度施加电流±（电流值的0.2%+电流测量范围的0.2%）测量电流±（电流值的0.2%+电流测量范围的0.2%）施加电位±（电位的0.2%±1mV）测量电位±（电位的0.2%±1mV）温度测量测量范围(Pt 1000) 0 (100)精确度(Pt 1000) ±0.5℃电源连接电压 100 (240V)频率 50...60Hz功耗 45W。
CVSD编码实验报告
实验四 CVSD编译码实验1、实验目的1、了解语音信号△M编译码的工作原理2、验证CVSD编码原理3、了解CVSD专用大规模集成电路的工作原理，外围电路和一般使用方法。
4、熟悉语音数字化技术的主要指标及测量方法2、实验仪器JH5001(Ⅲ)通信原理基础实验箱函数信号发生器双踪示波器3、实验原理3.1 △M编译码原理预测编码，就是根据过去的信号样值预测下一个样值，并仅把预测值与当前的样值之差（预测误差）加以量化、编码之后再进行传输的方式。
其中，△M增量调制，预测编码中最简单的一种，它是将信号瞬时值与前一个取样时刻的量化值之差进行量化，而且只对这个差值的符号进行编码，而不对差值的大小进行编码。
它具有一定的局限性。
如果信号的瞬时斜率变化比较大，那么将很容易出现过载。
所以又提出了自适应增量编码调制，它可以根据差值的大小自适应的调整量化阶，从而避免过载，尽可能的实现对信号的跟踪。
3.2 CVSD编译码模块CVSD编译码模块将接口模块1中的模拟信号进行CVSD编码，调制之后经过信道传输，由CVSD译码器收到码元信号并将其译码，转换成模拟信号送至接口模块2输出。
电路组成框图如下：CVSD编码器即CVSD发送模块，将模拟信号进行CVSD编码，转换为数字信号在信道上进行传输。
它主要由编码芯片U801(MC34115)、缓冲放大器U802A、本地译码器、音节滤波器和非线性网络组成。
在该模块中，各测试点定义如下：1、TP801：CVSD编码模拟信号输入。
开关K801可以选择正常的发送话音信号还是测试信号。
TP801为测试信号输入。
2、TP802：本地译码器输出（单积分网络）3、TP803：本地译码器输出（双积分网络），是本地恢复的原始模拟信号（近似值），该信号还要与输入信号进行比较。
4、TP804：编码一致性检测输出。
在TP804上可以观测到连码一致性脉冲信号，R813,R814,C807构成音节滤波器，用于对连码一致性脉冲进行平滑，实现斜率连续可变的自适应增量调制。
CVS原理简述
25
修正线性近似技术分析加速剂
• 理论上： 直线1和直线2应该是重叠的，即直线1 和直线2是同一条直线。则： 即： （
K1=K2 Ar1- Ar0）/ Cx = （
- Ar0
Ar2- Ar0）/ (Cx+C1)
Cx=（Ar1
）*C1/(Ar2-Ar1)
26
典型的锡/铅电镀液扫描曲线
1 0 0 8 0
30
反应曲线
VF Leveler
1.000 0.900 A r0 r/A 0.800 0.700 0.600 0.500 0.400 0.00
0.20
0.40
0.60
0.80
1.00
Concentration, ml/l
31
反应曲线分析平衡剂
• 第二步：分析
生产液 分析槽
1. 测量支持溶液中的 Peak Area (Ar0) 2. 添加定量的槽液，稀释系数为1/3 。测量Peak Area (Ar)，计算 Ar/Ar0 3. 使用已获得的反应曲线计算平衡剂浓度
34
6 0
5 0 0 50 mA/cm
m V
4 0
2 0
3 1
4 6
5
0
-2 0
2
-4 0 -0 .9 -0 .7 -0 .5 -0 .3 -0 .1 0 .1 0 .3 0 .5
1 → 2→3 电镀; 4 → 5 →6 清洁;
3 → 4 剥离 6 → 1 吸附
27
再现性分析
50 45 40 35 Peak Area, mC 30 25 20 15 10 5 0 0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 M e a s u re m e n t
实验二--受控源VCVS、VCCS、CCVS、CCCS的研究
实验二受控源VCVS、VCCS、CCVS、CCCS的研究一.实验目的1．了解用运算放大器组成四种类型受控源的线路原理。
2．测试受控源转移特性及负载特性。
二．实验电路图图图11-1三．实验内容（含步骤、实验数据表格等）本次实验中受控源全部采用直流电源激励，对于交流电源或其它电源激励，实验结果是一样的。
1．测量受控源VCCS的转移特性I L=f(U L)及负载特性I L=f(U2)实验线路如图11-2图11-2(1)固定R L=2KΩ，调节直流稳压电源输出电压U1，使其在0～5V范围内取值。
测量U1及相应的I L，绘制I L=f(U1)曲线，并由其线性部分求出转移电导g m。
实际计算值g m(S)=0.1S(2)保持U1=2V，令R L从0增至KΩ，测量相应的I L及U2，绘制I L=f(U2)曲线。
2．测量受控源CCVS的转移特性U2=f(I S)及负载特性U2=f(I L)实验线路如11-3。
Is为可调直流恒流源，RL为可调电阻箱。
固定R L=2KΩ，调节直流恒流源输出电流Is，使其在0～0.8mA范围内取值，测量Is及相应的U2值，绘制U2=f(I S)曲线，并由其线性部分求出转移电阻r m。
转移电阻Rm=2KΩ(2)保持Is=0.3mA，令R L从1 KΩ增至∞，测量U2及I L值，绘制负载特性曲线U2=f(I L)。
3．测量受控源VCVS的转移特性U2=f(U1)及负载特性U2=f(I L)实验线路如图11-4。
U1为可调直流稳压电源，R L为可调电阻箱。
(1)固定R L=2KΩ，调节直流稳压电源输出电压U1，使其在O～6V范围内取值，测量U1及相应的U2值，绘制U2=f(U1)曲线，并由其线性部分求出转移电压比μ。
实际计算值μ=2(2)保持U1=2V，令R L阻值从1KΩ增至∞，测量U2及I L，绘制U2=f(I L)曲线。
4．测量受控源CCCS的转移特性I L=f(I S)及负载特性I L=f(U2)实验线路如图11-5。
CVS原理简述范文
CVS原理简述范文CVS（Concurrent Versions System）是一种版本控制系统，专门用于协同开发和管理项目的代码。
它具有强大的功能和简单易用的界面，被广泛应用于软件开发行业。
CVS的原理基于文件系统的快照，它将项目代码存储在一个中央仓库中，并允许多个开发人员同时修改和提交代码的变更。
以下是CVS的几个关键原理：1.版本控制：CVS将每次提交的代码变更保存为一个版本，并为每个版本分配一个唯一的版本号。
这样，开发人员可以根据需求切换回不同的版本，查看历史变更记录，并比较不同版本之间的差异。
2.并发控制：CVS支持多用户并发操作，即允许多个开发人员同时修改和提交代码。
它通过文件锁定和冲突解决机制来确保多个人员之间的代码修改不会冲突或覆盖对方的工作。
3.差异存储：CVS以增量的方式保存代码变更。
当开发人员提交代码时，CVS会计算出修改的差异，并将这些差异与之前的版本进行合并。
这种差异存储机制可以大大减小存储空间的占用，并且允许快速检索和还原历史版本。
4.分支和合并：CVS支持分支和合并功能。
开发人员可以创建分支，以便在不影响主线开发的情况下进行特定功能或实验性的工作。
完成工作后，可以将分支合并回主线，确保代码的一致性和可维护性。
5.用户权限管理：CVS允许管理员对用户的访问权限进行细粒度的管理。
可以通过创建用户组、给用户分配不同的权限角色以及设置访问控制列表来控制用户对不同项目和文件的访问权。
CVS的工作流程如下：1. 开发人员首先从中央仓库检出（checkout）代码。
这意味着他们将代码库的一份副本拷贝到本地工作目录中，以进行修改和测试。
2.开发人员在本地工作目录中对代码进行修改和调试。
他们可以随意修改、添加或删除文件，并在本地对这些变更进行版本控制。
4. 如果其他人员在同一时间修改了相同的文件，CVS会检测到冲突（conflict）。
开发人员需要手动解决这些冲突，确保代码的一致性和正确性。
CVS分析化学
CVS分析化学
CVS（Concurrent Versions System）是一个开源版本控制系统，用
于跟踪和管理源代码的更改。
它具有分布式、多用户和多任务处理的能力，并且可以在多个开发者之间进行协作，并记录文件的更改历史。
CVS分析化学是一种利用CVS系统进行化学分析的方法。
化学分析是
通过对样品中的化学物质进行检测和定量来确定其成分和性质的过程。
CVS分析化学可以在实验室和工业生产中广泛应用，具有高度的灵敏度和
准确性。
此外，CVS分析化学还可以应用于药物研发和控制。
在药物研发中，
可以利用CVS分析化学来测定药物中的杂质和成分含量。
在药物质量控制中，可以利用CVS分析化学来检测药物中的纯度和稳定性。
总之，CVS分析化学是一种利用CVS系统进行化学分析的方法。
它具
有灵敏度高、准确性高和分析速度快的优点，并广泛应用于环境监测、食
品安全检测和药物研发等领域。
随着科学技术的不断进步，CVS分析化学
将会在更多的领域得到应用。
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CVS使用流程
一、电极维护
电极轴维护每周洗耳球吹扫两面通气孔
参比电极-RE
6.0728.030
填充3mol/L KCL 每周更换2~3次6. 1245.010
填充1mol/L硝酸钾每天更换
避免气泡，会造成意外镀铜
更换内参比需要1小时左右稳定时间
二、打开系统
打开仪器电源
电源
30s左右完成自检
打开软件
双击桌面软件图标
点击进入软件主窗口
三、Condition活化电极
加入VMS
Prep Dosino1#
点击
点击Prep on清洗
Dosing unit/ 两次
调入方法
点击
打开调入方法Conditioning in Cu VMS
点击Monitor--Start
活化电极
扫描重复性达到0.5%自动完成
清洗干净电极和测量杯
记录Condition 值,
单位mC ，相对稳定
四、抑制剂分析
抑制剂分析原理
DT –Dilution Titration
DT –Dilution Titration
•测量抑制剂suppressors
•分为两个过程
1.用抑制剂标样做校正曲线
2.样品测定
•只能采用CVS模式
0.5
DT –抑制剂suppressor校正
Z：校正因子，记
录每次相对稳定
DT –槽液中Suppressor测定
C:结果
操作过程---校正曲线
调入方法
点击
打开调入方法
校正曲线：Cupracid UC Calibration Curve
放置VMS 和抑制剂标样
Dosino 1Dosino 2Dosino
3
MSB port
#1#2#3
溶液VMS 抑制剂
标样
Prep Dosino1#、3#
点击
点击Prep on清洗
Dosing unit/ 两次
查看Dosino设置
激活Dosino加液
查看Dosino加液设置
查看Dosino设置
点击Monitor—Start
Dosino1#自动加入100mL VMS
电极活化得到稳定的AR0
纯VMS Cu 溶出峰的电量值被记录用作100%值(Q0) Dosino3将自动加入几次预设体积电镀液样品，至Q/Q(0)的比低于0.45。
建议10到15次加液达到评估值软件自动计算校正因子Z
操作过程---样品测试
调入方法
点击
打开调入方法
样品测试：Cupracid UC leveller sample
放置VMS 和抑制剂样品
Dosino 1Dosino 2Dosino 3MSB port
#1#2#3溶液VMS 抑制剂
样品
Prep Dosino1#、3#
点击
点击Prep on清洗
Dosing unit/ 两次
Edit Parameters
编辑具体参数
修改添加量
调用校正曲线
做校正曲线时不得修改样品名
点击Monitor—Start
Dosino1#自动加入100mL VMS
电极活化得到稳定的AR0
纯VMS Cu 溶出峰的电量值被记录用作100%值(Q0) Dosino3将自动加入几次预设体积电镀液样品，至Q/Q(0)的比低于0.45。
建议5到10次加液达到评估值软件自动计算结果
五、光亮剂分析
光亮剂分析原理MLAT 方式
Determination
光亮剂影响
c(brightener)
Q -Q (I n t e r c e p t )
线性范围
Determination of Brightener
结果
浓度计算
-c(sample)
Q [C] c [mL/L]
Q(bath)
Q(2)
Q(intercept)Q(1)
Q-Q(intercept) [C]
c [mL/L]
-c(sample)
Q(bath)Q(2)
Q(1)
浓度计算
操作过程
放置VMS 和方法要求抑制剂光亮剂溶液
Dosino 1Dosino 2Dosino
3
MSB port
#1#2#3
溶液VMS 光亮剂抑制剂
调入方法
点击
Prep Dosino1#、2#、3#
点击
点击Prep on清洗
Dosing unit/ 两次
查看Dosino设置
激活Dosino加液
查看Dosino设置。