CF制程简介
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Color Filter的制程介绍
For : NBLCM F.A. Team Author: Jessica _ Lin Date:2009/1/8
目录:
• • • •
• • •
1.何谓Color Filter 及应用 2.制程流程图 3.制程顺序简介 4.补充说明:
(1).色彩搭配 (2).TFT-LCD基本架构 (3).TFT_LCD产业架构
光学检查 巨观检查
非MVA产品 14.1“ MVA产品 15“&17.4”
光学检查前清洗
Macro inspection
AOI Pre-cleaner
AOI (Auto -Opto Inspection)
微观检查
判定与质量分类
出货 Shipping
Micro review
Judgement & Sorting
紫外线曝光
EBR (Edge Bead Rinse)
显影
Defect insp.
Pre-bake & Cool plate 烘烤
Aligner
Developer
Oven
RGB制程(RGB process)
3.B Line
R,G glass清洗 蓝色光阻涂布(1) 蓝色光阻涂布(2)
Pre-cleaner 真空干燥
蚀刻后缺陷检查 AEI (After Etcher Inspection)
d 7 D 4 E C
c R G B
1 a
A 2
B 4 b
CF 制程检查项目
2.RGB制程(RGB process) 1 2 3 1.Pixel CD 2.Overlay 3.厚度
4.色度量测
100 透 80 過 率 60 40 20 400 500 600 700 波 長 (nm) 800
Color Filter的应用
彩色滤光片目前广泛的应用在:
1. 薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD) 2. 超扭转像列型液晶显示器(STN-LCD) 3. 电浆显示器(PDP)等平面显
CF制作流程图
黑色矩阵制程(BM patterning process)
1.Cr sputtering
铬膜溅镀 铬玻璃
素玻璃投入
Unpacker & Initial cleaner
Cr sputter
Cr glass
2.BM photo line
铬玻璃清洗 正光阻涂布(1) 正光阻涂布(2)
Pre-cleaner
Slit coater
Spin coater
真空干燥
去掉边缘光阻
预烘烤与冷却
Vacuum Dryer 紫外线曝光
THANKS FOR
YOUR
ATTENDANCE
补充说明: 1.色彩搭配
在 RGB 系统中，混合任
两个原色，就会产生三个 次原色：青、洋红、黄。如 前面所说的，将光的三原色 加在一起就可以做出白光。 所以，如果一个 RGB 的 值为( 255,255,255) 则表 示为白色。如果完全拿掉 这三原色的光 (RGB: 0,0,0) 则产生黑色。
Defect insp.
烘烤
Aligner
Developer
Oven
RGB制程(RGB process)
2.G Line
R glass清洗 绿色光阻涂布(1) 绿色光阻涂布(2)
Pre-cleaner 真空干燥
Slit coater Spin coater 去掉边缘光阻 预烘烤与冷却
Vacuum Dryer
我们能看到颜色是靠三个元素相互作用而成： 1.光源、物体的反射特性。 2.人体视网膜。 3.脑部视觉皮质区对光波的处理方式。
1.0 0.8 y 0.6 0.4 0.2 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 x NTSC CRT SEC 神東 肅 だ 猭 床
CF 制程检查项目
3.ITO制程(ITO Sputtering process) 1.色度量测
100 透 80 過 率 60 40 20 400 500 600 700 波 長 (nm) 800
BM pattern glass清洗 红色光阻涂布(1) 红色光阻涂布(2)
Pre-cleaner 真空干燥
Slit coater Spin coater 去掉边缘光阻 预烘烤与冷却
Vacuum Dryer 紫外线曝光
EBR (Edge Bead Rinse) 显影
Pre-bake & Cool plate
1.0 0.8 y 0.6 0.4 0.2 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 x NTSC CRT SEC 神東 肅 だ 猭 床
CF 制程检查项目
4.MVA制程(Multi-domain Vertical Alignment) 1.厚度量测 2.宽度量测 3.Overlay 量测
2
1
3
THE EDN
Slit coater Spin coater 去掉边缘光阻 预烘烤与冷却
Vacuum Dryer 紫外线曝光
EBR (Edge Bead Rinse) 显影
Pre-bake & Cool plate 缺陷检查机
Aligner
Developer
Defect Inspection
ITO制程(ITO sputtering process)
烘烤 紫外线灰化 修补
Oven
UV asher
Repair
R,G,B璃投入
氧化铟锡膜溅镀
ITO玻璃
ITO pre-cleaner
ITO sputter
ITO gwenku.baidu.comass
MVA制程(Multi-domain Vertical Alignment)
4.S Line
ITO glass清洗 正光阻涂布(1) 正光阻涂布(2)
说明:
• Color Filter(彩色滤光片)是组成液晶面板中最重要的关键零组 件:占TFT-LCD面板制造总成本约28%，制造生产方式是在素 玻璃基板上用红、绿、蓝色的光阻液原料,用黄光蚀刻方式或 是其它技术(如颜料分散或转印方法)形成与红、绿、蓝三原 色的长条形数组的基板。当背面的光源穿透每一个画素(pixel) 内的红、绿、蓝滤光片与被电路驱动呈现灰阶的液晶后，会 变成有不同比例的三种原色(RGB)之混合光。肉眼所看到的 彩色影像就是光透过一个个有滤光片的液晶小格子变成之混 合光组成的结果。所谓的TFT-LCD面板制造，简单的说，就 是将一片彩色滤光片和一片有主动矩阵(Active Matrix)的玻璃 基板组合，灌入液晶后两边贴上偏光板，再加上驱动电路及 框架的过程。
Pre-cleaner
Slit coater
Spin coater 预烘烤与冷却
真空干燥
去掉边缘光阻
Vacuum Dryer 紫外线曝光
EBR (Edge Bead Rinse)
显影
Pre-bake & Cool plate
Defect insp.
烘烤
Aligner
Developer
Oven
最终检查(Final inspection)
EBR(Edge Bead Rinse) 显影
Pre-bake & Cool plate 烘烤
Aligner
Developer
Hot plate
3.Etching line
蚀刻 去光阻
Etching
Stripping
BM pattern glass
RGB制程(RGB process)
1.R Line
CF 制程检查项目
1.黑色矩阵制程(BM patterning process) 1.1.BM PHOTO & Etching LINE
显影后缺陷检查 ADI (After Developer Inspection) 巨观检查 ( Macro review ) 2 1.Total Pitch ( 长寸法) 2.CD (Critical Dimension ) 3.Mark to Edge ( 端寸法 ) 1 3
For : NBLCM F.A. Team Author: Jessica _ Lin Date:2009/1/8
目录:
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1.何谓Color Filter 及应用 2.制程流程图 3.制程顺序简介 4.补充说明:
(1).色彩搭配 (2).TFT-LCD基本架构 (3).TFT_LCD产业架构
光学检查 巨观检查
非MVA产品 14.1“ MVA产品 15“&17.4”
光学检查前清洗
Macro inspection
AOI Pre-cleaner
AOI (Auto -Opto Inspection)
微观检查
判定与质量分类
出货 Shipping
Micro review
Judgement & Sorting
紫外线曝光
EBR (Edge Bead Rinse)
显影
Defect insp.
Pre-bake & Cool plate 烘烤
Aligner
Developer
Oven
RGB制程(RGB process)
3.B Line
R,G glass清洗 蓝色光阻涂布(1) 蓝色光阻涂布(2)
Pre-cleaner 真空干燥
蚀刻后缺陷检查 AEI (After Etcher Inspection)
d 7 D 4 E C
c R G B
1 a
A 2
B 4 b
CF 制程检查项目
2.RGB制程(RGB process) 1 2 3 1.Pixel CD 2.Overlay 3.厚度
4.色度量测
100 透 80 過 率 60 40 20 400 500 600 700 波 長 (nm) 800
Color Filter的应用
彩色滤光片目前广泛的应用在:
1. 薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD) 2. 超扭转像列型液晶显示器(STN-LCD) 3. 电浆显示器(PDP)等平面显
CF制作流程图
黑色矩阵制程(BM patterning process)
1.Cr sputtering
铬膜溅镀 铬玻璃
素玻璃投入
Unpacker & Initial cleaner
Cr sputter
Cr glass
2.BM photo line
铬玻璃清洗 正光阻涂布(1) 正光阻涂布(2)
Pre-cleaner
Slit coater
Spin coater
真空干燥
去掉边缘光阻
预烘烤与冷却
Vacuum Dryer 紫外线曝光
THANKS FOR
YOUR
ATTENDANCE
补充说明: 1.色彩搭配
在 RGB 系统中，混合任
两个原色，就会产生三个 次原色：青、洋红、黄。如 前面所说的，将光的三原色 加在一起就可以做出白光。 所以，如果一个 RGB 的 值为( 255,255,255) 则表 示为白色。如果完全拿掉 这三原色的光 (RGB: 0,0,0) 则产生黑色。
Defect insp.
烘烤
Aligner
Developer
Oven
RGB制程(RGB process)
2.G Line
R glass清洗 绿色光阻涂布(1) 绿色光阻涂布(2)
Pre-cleaner 真空干燥
Slit coater Spin coater 去掉边缘光阻 预烘烤与冷却
Vacuum Dryer
我们能看到颜色是靠三个元素相互作用而成： 1.光源、物体的反射特性。 2.人体视网膜。 3.脑部视觉皮质区对光波的处理方式。
1.0 0.8 y 0.6 0.4 0.2 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 x NTSC CRT SEC 神東 肅 だ 猭 床
CF 制程检查项目
3.ITO制程(ITO Sputtering process) 1.色度量测
100 透 80 過 率 60 40 20 400 500 600 700 波 長 (nm) 800
BM pattern glass清洗 红色光阻涂布(1) 红色光阻涂布(2)
Pre-cleaner 真空干燥
Slit coater Spin coater 去掉边缘光阻 预烘烤与冷却
Vacuum Dryer 紫外线曝光
EBR (Edge Bead Rinse) 显影
Pre-bake & Cool plate
1.0 0.8 y 0.6 0.4 0.2 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 x NTSC CRT SEC 神東 肅 だ 猭 床
CF 制程检查项目
4.MVA制程(Multi-domain Vertical Alignment) 1.厚度量测 2.宽度量测 3.Overlay 量测
2
1
3
THE EDN
Slit coater Spin coater 去掉边缘光阻 预烘烤与冷却
Vacuum Dryer 紫外线曝光
EBR (Edge Bead Rinse) 显影
Pre-bake & Cool plate 缺陷检查机
Aligner
Developer
Defect Inspection
ITO制程(ITO sputtering process)
烘烤 紫外线灰化 修补
Oven
UV asher
Repair
R,G,B璃投入
氧化铟锡膜溅镀
ITO玻璃
ITO pre-cleaner
ITO sputter
ITO gwenku.baidu.comass
MVA制程(Multi-domain Vertical Alignment)
4.S Line
ITO glass清洗 正光阻涂布(1) 正光阻涂布(2)
说明:
• Color Filter(彩色滤光片)是组成液晶面板中最重要的关键零组 件:占TFT-LCD面板制造总成本约28%，制造生产方式是在素 玻璃基板上用红、绿、蓝色的光阻液原料,用黄光蚀刻方式或 是其它技术(如颜料分散或转印方法)形成与红、绿、蓝三原 色的长条形数组的基板。当背面的光源穿透每一个画素(pixel) 内的红、绿、蓝滤光片与被电路驱动呈现灰阶的液晶后，会 变成有不同比例的三种原色(RGB)之混合光。肉眼所看到的 彩色影像就是光透过一个个有滤光片的液晶小格子变成之混 合光组成的结果。所谓的TFT-LCD面板制造，简单的说，就 是将一片彩色滤光片和一片有主动矩阵(Active Matrix)的玻璃 基板组合，灌入液晶后两边贴上偏光板，再加上驱动电路及 框架的过程。
Pre-cleaner
Slit coater
Spin coater 预烘烤与冷却
真空干燥
去掉边缘光阻
Vacuum Dryer 紫外线曝光
EBR (Edge Bead Rinse)
显影
Pre-bake & Cool plate
Defect insp.
烘烤
Aligner
Developer
Oven
最终检查(Final inspection)
EBR(Edge Bead Rinse) 显影
Pre-bake & Cool plate 烘烤
Aligner
Developer
Hot plate
3.Etching line
蚀刻 去光阻
Etching
Stripping
BM pattern glass
RGB制程(RGB process)
1.R Line
CF 制程检查项目
1.黑色矩阵制程(BM patterning process) 1.1.BM PHOTO & Etching LINE
显影后缺陷检查 ADI (After Developer Inspection) 巨观检查 ( Macro review ) 2 1.Total Pitch ( 长寸法) 2.CD (Critical Dimension ) 3.Mark to Edge ( 端寸法 ) 1 3