PCB拼板规范、标准
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PCB拼板规范、标准
1、PCB拼板宽度≤260mm(SIEMENS线)或≤300mm(FUJI线);如果需要自动点胶,PCB拼板宽度×长度≤1 25 mm×180 mm
2、PCB拼板外形尽量接近正方形,推荐采用2×2、3×
3、……拼板;但不要拼成阴阳板
3、PCB拼板的外框(夹持边)应采用闭环设计,确保PCB拼板固定在夹具上以后不会变形
4、小板之间的中心距控制在75 mm~145 mm之间
5、拼板外框与内部小板、小板与小板之间的连接点附近不能有大的器件或伸出的器件,且元器件与PCB板的边缘应留有大于0.5mm的空间,以保证切割刀具正常运行
6、在拼板外框的四角开出四个定位孔,孔径4mm±0.01mm;孔的强度要适中,保证在上下板过程中不会断裂;孔径及位置精度要高,孔壁光滑无毛刺
7、PCB拼板内的每块小板至少要有三个定位孔,3≤孔径≤6 mm,边缘定位孔1mm内不允许布线或者贴片
8、用于PCB的整板定位和用于细间距器件定位的基准符号,原则上间距小于0.65mm的QFP应在其对角位置设置;用于拼版PCB子板的定位基准符号应成对使用,布置于定位要素的对角处。
9、设置基准定位点时,通常在定位点的周围留出比其大1.5 mm的无阻焊区
10、大的元器件要留有定位柱或者定位孔,重点如I/O接口、麦克风、电池接口、微动开关、耳机接口、马达等
线路板流程术语中英文对照
流程简介:
开料--钻孔--干膜制程--压合--减铜--电镀--塞孔--防焊(绿漆/绿油) --镀金--喷锡--成型--开短路测试--终检--雷射钻孔
A. 开料( Cut Lamination)
a-1 裁板( Sheets Cutting)
a-2 原物料发料(Panel)(Shear material to Size)
B. 钻孔(Drilling)
b-1 内钻(Inner Layer Drilling )
b-2 一次孔(Outer Layer Drilling )
b-3 二次孔(2nd Drilling)
b-4 雷射钻孔(Laser Drilling )(Laser Ablation )
b-5 盲(埋)孔钻孔(Blind & Buried Hole Drilling)
C. 干膜制程( Photo Process(D/F))
c-1 前处理(Pretreatment)
c-2 压膜(Dry Film Lamination)
c-3 曝光(Exposure)
c-4 显影(Developing)
c-5 蚀铜(Etching)
c-6 去膜(Stripping)
c-7 初检( Touch-up)
c-8 化学前处理,化学研磨( Chemical Milling )
c-9 选择性浸金压膜(Selective Gold Dry Film Lamination) c-10 显影(Developing )
c-11 去膜(Stripping )
Developing , Etching & Stripping ( DES )
D. 压合Lamination
d-1 黑化(Black Oxide Treatment)
d-2 微蚀(Microetching)
d-3 铆钉组合(eyelet )
d-4 叠板(Lay up)
d-5 压合(Lamination)
d-6 后处理(Post Treatment)
d-7 黑氧化( Black Oxide Removal )
d-8 铣靶(spot face)
d-9 去溢胶(resin flush removal)
E. 减铜(Copper Reduction)
e-1 薄化铜(Copper Reduction)
F. 电镀(Horizontal Electrolytic Plating)
f-1 水平电镀(Horizontal Electro-Plating) (Panel Plating) f-2 锡铅电镀( Tin-Lead Plating ) (Pattern Plating)
f-3 低于1 mil ( Less than 1 mil Thickness )
f-4 高于1 mil ( More than 1 mil Thickness)
f-5 砂带研磨(Belt Sanding)
f-6 剥锡铅( Tin-Lead Stripping)
f-7 微切片( Microsection)
G. 塞孔(Plug Hole)
g-1 印刷( Ink Print )
g-2 预烤(Precure)
g-3 表面刷磨(Scrub)
g-4 后烘烤(Postcure)
H. 防焊(绿漆/绿油): (Solder Mask)
h-1 C面印刷(Printing Top Side)
h-2 S面印刷(Printing Bottom Side)
h-3 静电喷涂(Spray Coating)
h-4 前处理(Pretreatment)
h-5 预烤(Precure)
h-6 曝光(Exposure)
h-7 显影(Develop)
h-8 后烘烤(Postcure)
h-9 UV烘烤(UV Cure)
h-10 文字印刷( Printing of Legend )
h-11 喷砂( Pumice)(Wet Blasting)
h-12 印可剥离防焊(Peelable Solder Mask)
I . 镀金Gold plating
i-1 金手指镀镍金( Gold Finger )
i-2 电镀软金(Soft Ni/Au Plating)
i-3 浸镍金( Immersion Ni/Au) (Electroless Ni/Au) J. 喷锡(Hot Air Solder Leveling)
j-1 水平喷锡(Horizontal Hot Air Solder Leveling)