《先进陶瓷材料及进展》 第三章 陶瓷晶体缺陷
先进陶瓷材料制备研究进展

图1溶胶-凝胶法制备BGs 的工艺流程图1前言先进陶瓷具有精细的结构,其化学键为离子键和共价键,键合能大,因而具有金属和高分子材料所不具备的高模量、高硬度、耐腐蚀等性能以及光、声、电等优异功能特性。
先进陶瓷优良的综合特性促使其广泛应用于电子、机械、计算机、医学工程、化工等各个领域。
近年来,先进陶瓷广泛受到材料科学工作者的关注。
随着先进陶瓷各种功能的开发,其市场规模将不断扩大,早在几年前先进陶瓷材料及其产品的销售总额就已超过500亿美元,年增长率达8%[1]。
随着高新科技的不断发展,先进陶瓷在某些高技术领域已成为关键材料和瓶颈材料,因而传统的经验技术已不能满足先进陶瓷的制备要求。
国内外学者对先进陶瓷材料的制备技术进行了大量研究[2-3]。
目前,先进陶瓷材料的制备不再是沿用传统的方法,而是采用与现代科技相结合的高新技术。
与传统的经验技术相比,高新技术制备的先进陶瓷尺寸精度高、结构均匀、致密度高、机加工量少,由此取代传统技术成为目前先进陶瓷材料制备的主流技术。
鉴于此,有必要对该材料的先进制备方法进行归纳分析,以期为先进陶瓷的制备、研究和生产提供参考。
2先进陶瓷素坯的制备技术事实上,与传统固相反应法相比,溶胶-凝胶工艺的反应温度低,粉体高度均匀,纯度可达化学纯[4-5],并且可在溶液中对陶瓷薄膜或纤维的形状进行修饰[6-7],具有优越的控制能力。
采用溶胶-凝胶法制备氧化铝陶瓷晶粒,可以缩短反应时间,并使各晶面产生各向异性,有效控制晶粒的形状。
按照工序,将氧化铝粉体配制成具有流动性的液态流体,在装有透射式X 射线测厚仪的流延机上进行流延成型,可制得厚度仅为10um,误差不超过1um 的高质量超薄型氧化铝陶瓷基片。
BGs 是一种多孔陶瓷材料,能够与骨等软硬组织结合,对宿主的伤害小[8-11]。
Eshsan Vafa 等[12]从苹果当中提取自制醋为催化剂,用溶胶-凝胶法合成了BGs,其流程如图1所示。
以往的研究表明,商业BGs 颗粒的粗糙度、孔隙率和均匀度都小于用溶胶-凝胶法制备的BGs 颗粒[13-14]。
第三章 先进无机材料

• ③涂层破坏过程及其机制的研究:如涂层缺陷及 其形成,涂层应力及其形成、分布及消除途径, 涂层与底材解离过程及影响因素等研究为涂层的 品质改进、工艺优化乃至涂层设计、新涂层的研 制指明方向。 • ④对涂层的形成、显微结构及其性能的研究:是 进行涂层工艺设计的基础;涂层的性能取决于涂 层的化学组成、显微结构以及它对底材的界面结 合。
• ④显微结构分析上的进步,使人们更精细的了解 陶瓷材料的结构及其组成,从而可控制地做到工 艺-显微结构-性能关系的统一,对陶瓷技术起到 了指导作用。 • ⑤陶瓷材料性能的研究使新的性能的不断出现, 大大开拓了陶瓷材料的应用范围。⑥陶瓷材料无 损评估技术发展,加强了使用上的可靠性。 • ⑦相邻学科的发展对陶瓷科学的进步起到了推动 的作用。
• ④在航空工业中,硅质高温搪瓷能有效保护高温 合金抗高温燃气腐蚀,且具有一定的隔热作用, 已在高性能涡轮喷气发动机的燃烧室和火焰稳定 器等高温部件上广泛使用以延长其寿命。航空涡 轮喷气发动机的导向叶片和涡轮叶片则用渗涂含 硅或铬和钇的铝化物涂层。 • ⑤等离子喷涂或爆震波喷涂的碳化物、氧化物和 硬质合金涂层也已用于航空发动机内各种部件的 摩擦端面。含镉、硒或硫等化合物的涂层,加涂 在发动机内一些用一般方法难以测温的部位,涂 层的变色能指示发动机运转时该部位的最高温度, 这类涂层称之为示温涂层。
• 先进陶瓷从性能上可分为:结构陶瓷和功能陶瓷 两大类。 • 结构陶瓷:是以力学机械性能为主的一大类陶瓷。 特别适用于高温下应用的则称之为高温结构陶瓷。 • 功能陶瓷:利用材料的电、磁、光、声、热和力 等性能及其耦合反应,如铁电、压电陶瓷、正 (或负)温度系数陶瓷(PTC或NTC)、敏感陶 瓷、快离子导体陶瓷等等。
• 1.先进陶瓷 产生的因素: • ①在原料上,从传统陶瓷以天然矿物原料为主体发 展到用高纯的合成化合物。 • ②陶瓷工艺技术上的进步。如成型上的等静压成型、 热压注成型、注射成型、离心注浆、压力注浆成型 和流涎成膜等成型方法;在烧成上则有热压烧结、 热等静压烧结、反应烧结、快速烧结、微波烧结、 等离子体烧结、自蔓燃烧结等。 • ③陶瓷科学理论的发展,为陶瓷工艺提供了科学上 的依据和指导,使陶瓷工艺从经验操作到科学控制, 以至发展到在一定程度上可依据实际使用的要求进 行特定的材料设计。
第 三 章 晶 体 缺 陷

5 1668年(推测) 列文虎克(Anton van Leeuwenhoek)制做出放大倍数超过200倍的光 学显微镜。使人类能够研究肉眼无法看到的自然 世界及其结构。 6 1755年 斯米顿(John Smeaton)发明了现代 混凝土(水凝水泥)。成为当代的主导建筑材料。 7 公元前300年(推测) 南印度的金属业劳动者 发展了坩埚炼钢。生产出几百年后成为著名的 “大马士革”剑钢的“伍兹钢”,激发了数代工 匠、铁匠和冶金学家。
JOM主办此次活动的目的旨在弘扬材料科学在人 类历史发展进程中的影响力和庆祝TMS成立50周 年。“最伟大的材料事件”被定义为:一项人类 的观测或者介入,导致人类对材料行为的理解产 生标志性进展的关键或决定性事件,它开辟了材 料利用的新纪元,或者产生了由材料引发的社会 经济重大变化。首先,JOM 邀请众多材料领域的 杰出专业人士评述他们关于“最伟大的材料事件” 的观点。基于他们的评述,JOM 整理出一份超过 650个候选者的详细目录,然后进一步遴选出100 个正式的候选名单,并刊登于2006年11月份出版 的JOM上。近千名来自材料晶体的空位形成能ΔEf 金 属 Au 0.15 Ag 0.17 Cu 0.17 Pt 0.24 Al 0.12 W 0.56 Pb 0.08 Mg 0.14 Sn 0.08
形成能 (×10-19J )
空位和间隙原子的平衡浓度随温度的升高而急剧增加,呈指数关系。 例如,铜晶体中空位浓度随温度的变化为: 100 300 10-19 500 10-11 700 10-8.1 900 10-6.3 1000 10-5.7 1273 10-4
称为热缺陷。
热缺陷类型
•
按照离开平衡位置原子进入晶格内的不同位置,热缺陷以此分为 二类: 1. 弗伦克尔缺陷(Frenkel) 离开平衡位置的原子进入晶格的间隙位置,晶体中形成了弗伦克 尔缺陷。弗伦克尔缺陷的特点是空位和间隙原子同时出现,晶体 体积不发生变化,晶体不会因为出现空位而产生密度变化。 2. 肖特基缺陷(Schottky) 离开平衡位置的原子迁移至晶体表面的正常格点位置,而晶体内 仅留有空位,晶体中形成了肖特基缺陷。晶体表面增加了新的原 子层,晶体内部只有空位缺陷。肖特基缺陷的特点晶体体积膨胀, 密度下降。
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热缺陷的平衡热力学
1. 基本假设 点缺陷是一种热缺陷,在一定温度下,它处在不断地产 生和消失的过程中,并满足热力学平衡条件。对热缺陷系统 可看作是等容过程。其自由能F、内能U和熵变S复合下列关
系:
F U T S F U T S
平衡时自由能最小,温 度一定时,有一定数目 的热缺陷存在,这时平 衡条件为:
nFren = N Exp(-UFren /RT)
3.浓度公式的讨论与应用
n Ne 或n Ne Schot
(USc h)ot kT
Sch o t
(USc h)ot RT
n Ne 或n Ne Fren
(UFr e)n kT
Fr en
(UFr e)n RT
3-13 3-14
⑴ 缺陷浓度与温度的关系
两种缺陷的浓度都随温度升高而增加,随温度的下降而 减少。当温度T→0时,缺陷浓度n→0,才会有完全有序的晶体 (completedly ordered solid phase),也就是完美的晶体(ideal perfect crystals),这正是热力学第三定律。
在三维尺寸较大,如镶嵌块,沉淀相,空洞,气泡等。
面缺陷——晶粒间界 体缺陷——空洞 体缺陷——包裹杂质
几何维度缺陷分类总结
点缺陷:在三维尺寸均很小,只在某些位置发生,只影
响邻近几个原子。 这种化合物在材料中有重要的作用,目前已发展出混合价态的固体化学和材料化学,在配位化学和生物化学中也有重要意义。
②可以以形成间隙正体离子缺形成陷来平:衡过在剩电三荷;维尺寸较大,如镶嵌块,沉淀相,空洞,
气泡等。
●从晶体的组成出发,可将缺陷分为: 本征缺陷 defects)或结构缺陷(Structural defects):产 生于晶体本身结构的缺陷。 由于这类缺陷产生的原因主要是热运动之故,又称之为 物理缺陷或热缺陷; 非本征缺陷(innative defects):主要由于外来原子进入 晶体而造成的缺陷。由于这类缺陷并非晶体本体组成,故又称 为杂质缺陷(Imourity defects)。又因这些缺陷主要来自化学 制备方面,故还称之为化学缺陷(Chemical defects)。 在缺陷讨论中,也可以将两类缺陷分类结合在一起:
陶瓷工艺学第三讲 陶瓷中的点缺陷

要是杂质原子
Point Defects in Elemental Crystalline Solids
• Intrinsic defects
• Vacancy • Self-interstitial
K离子取代Na离子,不带电 有效电荷=+1-(+1)=0
间隙K离子,带两个单位的有效正电荷 有效电荷==1-0=+1
例4:Na2S掺入到NaCl中
S离子取代Cl离子,带一个单位的有效负电荷 有效电荷=-2-(-1)=-1
间隙S离子,带两个单位的有效负电荷 有效电荷-2-0=-2
例5:Al2O3
例6:电子缺陷
钠空位,带一个单位的有效负电荷 有效电荷=0-(+1)=-1
Cl空位,带一个单位的有效正电荷 有效电荷=0-(-1)=+1
例2:CaCl2掺入到NaCl中
Ca离子取代Na离子,带一个单位的有效 正电荷 有效电荷=+2-(+1)=+1
间隙Ca离子,带两个单位的有效正电荷 有效电荷=+2-0=+2
例3:KCl掺入到NaCl中
第三讲 陶瓷中的点缺陷 Point Defects in Ceramics
0 什么是缺陷化学?
➢ 凡从理论上定性、定量地把材料中的点缺陷看做化学物质, 并用化学热力学的原理来研究缺陷的产生、平衡及其浓度 等问题的一门学科就是缺陷化学。
➢ 缺陷化学是处理实际晶体(离子晶体)对理想晶体的偏离, 以及偏离对晶体性能的影响等。
一般规律: 当晶体中剩余空隙比较小,如NaCl
先进陶瓷Charpter 3

本章重点与难点
固相反应 喷雾干燥法 柠檬酸盐法 溶胶-凝胶法
判断一所大学成败的最重要的标准,就是看她培养出 来的学生是不是第一流的。
我们今天正在建设世界一流大学,同时我们今天要 建设世界一流大学,必须把“培养什么样的人”这 个问题搞清楚。我认为,无论古今中外,一流大学 的精神气质必然是相通的,一流人才的实质也是一 致的。应该学习西方大学的历史经验,继承蔡元培 所开创的传统,我们培养的人才,应该有以下几个 方面的要素:第一、一流大学就是要培养精英人才 。第二、一流大学要培养通才。第三、一流大学要 重视哲学和学科方法论的教育。第四、一流大学要 引导学生加强人格修养。第五、一流大学要培养有 创造力和想像力的人才。———吴志攀北京大学常 务副校长 (详见2010-05-19 《光明日报》)
The time (t) necessary for the reaction of a volume fraction x of reactant A with radius r to transfer into reaction products is given by the Carter relation
Precipitation
In powder preparation, this procedure is in general based on the controlled hydrolysis( 水解) of an aqueous solution of metal salts or an alcohol solution of metal organic compounds. The precursor solution(前驱溶 液) is strongly diluted(稀释), while precipitation takes place in an excess of basic (碱性)or neutral(中性) medium.
先进陶瓷材料培训课件:结构陶瓷的力学性能、热学性能、抗热震性、陶瓷材料的断裂过程

表1 -1 典型结构陶瓷材料的熔点和硬度
材料 熔点/oC
Al2O3 2050
硬度 (HV)
2000
材料
TiC
熔点/oC 3160
硬度(HV) 3200
MgO 2800 1220
ZrO2 2667 1700
BeO 2550 1520
B4C 2450
SiC
ZrC
2800(分解) 3540
4950
2550
(1-1)
E为弹性模量,是材料原子间结合力的反映。由上可知,陶
瓷材料的弹性模量比金属的大很多。
陶瓷材料形变的另一特点是:压缩时的弹性模量大大高于拉
伸时的弹性模量,即E压>>E拉。 陶瓷材料压缩时还可以产生少量的压缩塑性变形。金属材料
,即使是很脆的铸铁,其抗拉强度也有抗压强度的1/3~1/4。但
陶瓷材料的抗拉强度通常不到抗压强度的1/10。
(2) 结构微细化、纳米化 从20世纪80年代开始,纳米结构 陶瓷的研究受到高度重视。当致密陶瓷的晶粒尺寸由微米细化 到纳米级时,其晶界数量呈几何级数增加,应力可通过晶界的 滑移作用而消失,使纳米陶瓷在一定的温度和应变速率条件下 表现出超塑性,为陶瓷材料在高新技术领域中发挥更大的作用, 获得更广泛的应用奠定了基础。目前纳米陶瓷粉末的制备技术 已取得很大进展,用共沉淀法、溶胶-凝胶法和化学气相沉积 法制备纳米陶瓷粉末的技术已趋于成熟,纳米粉末正获得日益 广泛的应用市场。
之间满足如下关系:
E=1000K Tm /Va
(1-2)
式中Va为原子体积或分子体积,K为体积弹性模量。
致密度 弹性模量随材料致密度的增加而迅速增)
(1-3)
式中Eo为气孔率为0时的弹性模量;f1和f2为由气孔形状
陶瓷晶体缺陷

三、因为存在间隙负离子,使负离子过剩
目前只发觉UO2+x,可看作U2O8在UO2中旳 固溶体。
四、因为正离子空位旳存在,引起负离子过 剩
3.5 线缺陷 (位错) (line defects ,dislocation )
一、位错旳类型
晶体在不同旳应力状态下,其滑移方式 不同。根据原子旳滑移方向和位错线取向 旳几何特征不同,位错分为:
• 位错旳攀移:指在热缺陷旳作用下,位错在垂 直滑移面方向旳运动,成果造成空位或间隙原 子旳增值或降低。
(一) 位错旳滑移
1. 位错滑移旳机理
位错在滑移时是经过位错线或位错附近旳原子逐 一移动很小旳距离完毕旳。
(a)正刃位错滑移方向与外力方向相同 (b)负刃位错滑移方向与外力方向相反
刃位错旳滑移
刃位错旳滑移
C.1 陶瓷构造
间隙固溶体
无机非金属材料概论
3.4 非化学计量化合物
非化学计量化合物:实际化合物中负离子与正离 子旳百分比不符合定比或倍比定律旳化合物。
特点: 1)产生及缺陷浓度与气氛性质、压力有关; 2)可看作是本身高下氧化态之间旳固溶体;
一、因为负离子缺位,使金属离子过 剩
如TiO2-x, ZrO2-x,产生原因是环境中 缺氧,晶格中旳氧逸出到大气中,使晶体
3. 非化学计量缺陷 (非化学计量化合物)
指构成上偏离化学中旳定比定律所形成旳缺 陷。 实质:由基质晶体与介质中某些组分发生互换 而产生,如TiO2-x 、Fe1-xO、Zn1+xO等晶体中 旳缺陷。 特点:其化学构成和缺陷浓度随周围气氛性质及 分压大小而变化,是一种半导体材料。
3.3 固溶体
外来组元进入晶体构造,占据主晶相质点位 置或间隙位置一部分,仍保持一种晶相,称为固 溶体(即溶质溶解在溶剂中形成固溶体),也称固 体溶液。 一、固溶体旳分类
陶瓷缺陷分析

陶瓷缺陷分析--色脏色脏制品表面呈现不应有的染色现象。
产生原因,(1)装烧或搬运制品时叠放歪斜互相靠在一起,因颜料未干造成花面粘着的痕迹。
(2)操作人员手上粘有颜料.(3)彩烤时有碎屑或杂质落在画面上.解决办法:(1)贴印花面和绘画的制品在装烧或搬运时,应细致小心,叠放要正稳。
(2)操作人员工作时手上要保持干净,勿粘颜料。
(3)防止彩烤碎屑、杂质落在画面上。
陶瓷缺陷分析--画面彩色不正画面彩色不正(1)画面缺陷--面面残缺和色泽不正的现象.(2)彩色不正--同一花纹色彩浓淡不匀或由于欠火而产生不光亮的现象。
产生原因:I.釉下装饰(1)分水时,水色、浓淡、厚薄不统一。
(2)施釉时,釉层厚薄不一或画面不干净.(3)花纸上的料没有全部贴坯上,或使用了不符合要求的花纸,以及纸上料色有浓淡不匀的现象。
(4)烧成温度低或烧成气氛不当,使釉面没有充分玻化,花纹色彩不易进出.(5)烧成时由于吸烟或者是欠釉影响产品的呈色效果.2.釉上装饰(1)花纸质量不好或存放时间过长而变质.(2)操作技术不熟练,贴花时未贴妥,而鼓有空气,随着彩烤时温度上升,气泡胀破,导致爆花,或花纸正反面贴错,会造成严重爆花.(3)贴薄膜花纸时,所用酒精配制不当.(4)彩烤时,从色料中或花纸中所产生的气体会对其它产品上的色料发生反应,从而出现呈色不良.(5)所使用的燃料其含硫量过高,使气氛中的二氧化硫与釉料或色料中氧化钙及其它化合物生成硫酸盐,从而使彩色失去光泽。
(6)装烤方式或装载量不当。
(7)彩烤温度过高或过低,使彩色不正。
解决办法:1。
釉下装饰(1)熟悉釉下贴花的操作技术,以及手工工艺,掌握釉下花面的色彩浓淡要求,调好料浆水份.(2)保管好花纸,防止受潮或过干,产生贴花的问题。
(3)掌握釉下贴花产品的施釉厚度,防止过厚或过薄。
(4)制定合理的烧成制度,防止吸烟和烧成气氛不良的现象。
2.釉上装饰(1)妥善保管好花纸,勿使其受潮变质,注意先进厂的先用,保管时间不超过两年,若时间过久将会自然老化变质。
先进陶瓷材料

尖晶石
反尖晶石 橄榄石
FeAl2O4
FeMgFeO4 Mg2SiO4
刚玉陶瓷
光学石英玻璃
尖晶石透明陶瓷
(1)SiO2(二氧化硅) • 丰度(各元素在地壳中平均含量的百分数)为60%;
• 含SiO2的矿物很多,大部分以硅酸盐矿物形成岩石,例 如,在岩浆岩中以矿物形式出现的脉石英( SiO2 >99%), 在沉积岩中的石英砂岩( SiO2 =90~95%) ,地面风化后 有石英砂; • 水晶(最纯)、鹅卵石(最不纯); • SiO2在常压下有七种结晶态和一个玻璃态:α-石英(三 方晶系)、β-石英(六方)、 α-鳞石英(斜方)、β-鳞 石英(六方)、 γ -鳞石英(六方)、 α-方石英(四方)、 β-方石英(等轴)及石英玻璃(非晶态)。
3.陶瓷的分类
※ 玻璃—工业玻璃(光学,电工,仪表,实验室用);建筑玻璃;日用玻璃 ※ 陶瓷—普通陶瓷--日用,建筑卫生,电器(绝缘),化工,多孔…… 特种陶瓷--电容器,压电,磁性,电光,高温…… 金属陶瓷--结构陶瓷,工具(硬质合金),耐热,电工…… ※ 玻璃陶瓷—耐热耐蚀微晶玻璃,光子玻璃陶瓷,无线电透明微晶玻璃, 熔渣玻璃陶瓷…
各种氧化物的结构及特点
结构类型
AO
氧离子排列方式
面心立方 面心立方 面心立方
阳离子填充方式
全部八面体间隙 ½ 四面体间隙 ½ 四面体间隙
结构名称
岩盐 闪锌矿 纤维锌矿
举例
MgO,CaO等 BeO ZnO
简单立方
AO2
½ 立方体间隙 全部四面体间隙
½ 八面体间隙 2/3八面体间隙 2/3八面体间隙(A,B) 1/4八面体间隙
中国瓷器精美绝伦,作为中华文明的象征,征服了西方(17世 纪)。
缺陷对陶瓷特性的影响和规律

缺陷对陶瓷特性的影响和规律陶瓷材料是指用天然或合成化合物经过成形和高温烧结制成的一类无机非金属材料。
它具有高熔点、高硬度、高耐磨性、耐氧化等优点。
可用作结构材料、刀具材料,由于陶瓷还具有某些特殊的性能,又可作为功能材料。
而由于陶瓷晶体缺陷的存在,使陶瓷材料加工、使用过程中的各种性能得以有效控制和改变,使陶瓷性能得以改善、复合材料制备得以实现。
了解缺陷的形成及运动规律,对工艺过程的控制、陶瓷材料性能的改善,对于新型材料的设计、研究及开发具有重要意义。
晶体结构缺陷是指晶体点阵结构偏离周期性排列,其形成原因可分为热缺陷、杂质缺陷、非化学计量缺陷等。
按照几何形态的不同,缺陷可分为点缺陷、线缺陷、面缺陷、体缺陷等。
按几何形态的不同:一、点缺陷(零维缺陷)缺陷尺寸处于原子大小的数量级上,即三维方向上缺陷的尺寸都很小。
对陶瓷的影响:1、对固体的烧结和传质(扩散)有很大的影响如无液相的参与,原材料的晶格位置缺陷密度越高,固体烧结越好。
空位密度影响扩散,影响固相反应和烧结。
2、材料长期使用后会产生新的点缺陷,成为材料疲劳的起始点。
3、热缺陷造成局部不平衡电场的存在,在外电场的作用下会导电,这对陶瓷及半导体电绝缘有重要意义。
此外热缺陷还会使晶体变色,间隙离子能阻止晶格面相互滑移,使晶体强度增加。
二、线缺陷(一维缺陷)指在一维方向上偏离理想晶体周期性、规则性排列所产生的缺陷,即缺陷尺寸在一维方向上较长,另外二维方向上很短。
线缺陷的产生及运动与材料的韧性、脆性密切相关。
三、面缺陷(二维缺陷)指在二维方向上偏离理想晶体周期性、规则性排列而产生的缺陷,即缺陷尺寸在二维方向上延伸,在三维方向上很小。
如:表面、晶界、堆积层错、镶嵌结构等。
四、体缺陷(三维缺陷)指在局部的三维空间偏离理想晶体的周期性、规则性排列而产生的缺陷。
如:第二相粒子团、空位团等。
体缺陷与物系的分相、偏聚等过程有关。
按形成原因的不同:一、热缺陷指由于热起伏所产生的空位或间隙质点(原子或离子),亦称为本征缺陷。
3陶瓷晶体缺陷

一、固溶体的分类
(一) 根据外来组元在主晶相中所处位置 —— 置换型固溶体 间隙型固溶体 (二)根据外来组元在主晶相中的固溶度
—— 连续型(无限型、完全互溶型)固溶体
有限型(部分互溶型)固溶体。
(一) 根据外来组元在主晶相中所处位置 1. 置换型固溶体:溶质原子位于点阵结点上,置换 主晶相原子。
混合位错的滑移
位错的滑移
(二) 位错的攀移
位错的攀移指在热缺陷或外力作用下, 位错线在垂直其滑移面方向上的运动,结 果导致晶体中空位或间隙质点的增殖或减 少。刃位错除了滑移外,还可进行攀移运 动。 攀移的实质是多余半原子面的伸长或
缩短。螺位错没有多余半原子面,故无攀
移运动。
(a)正攀移 (半原子面缩短)
晶体结构缺陷:
晶体点阵结构偏离周期性排列。 Ideal crystal:质点严格按照空间点阵排列。 Actual crystal :存在各种各样的结构不完整性。
缺陷对材料性能的影响:
导电性、颜色、发光、材料高温动力学过程
3.1 缺陷的类型
分类方式:
几何形态:点缺陷、线缺陷、面缺陷等 形成原因:热缺陷、杂质缺陷、非化学计量缺 陷等
室温下都能无限互溶,形成连续固溶体。
C.1 陶瓷结构
无机非金属材料概论
间隙固溶体
3.4 非化学计量化合物
非化学计量化合物:实际化合物中负离子与正离 子的比例不符合定比或倍比定律的化合物。 特点: 1)产生及缺陷浓度与气氛性质、压力有关;
2)可看作是本身高低氧化态之间的固溶体;
一、由于负离子缺位,使金属离子过 剩
一、按缺陷的几何形态分类
1. 点缺陷(point defect)
2. 线缺陷(line defect)
先进结构陶瓷材料研究进展

先进结构陶瓷材料研究进展摘要:先进陶瓷材料因其具有高熔点、高强度、高硬度、耐磨损、抗腐蚀和抗氧化等优良特性, 在许多应用领域有着金属等其它材料不可替代的地位。
本文综述了先进结构陶瓷材料的研究应用现状和发展趋势。
关键词:先进陶瓷,结构陶瓷,研究进展一、研究背景20世纪60年代以来,新技术革命的浪潮席卷全球,计算机、微电子、通信、激光、新能源、航天、海洋和生物工程等新兴技术的出现和发展,对材料提出了很高的要求,能够满足这些要求的先进陶瓷材料应运而生,并在这些技术革命中发挥着重要的作用,同时也极大地促进了陶瓷科学的发展和应用,使陶瓷材料又一次焕发出了青春, 在尖端科学领域得到广泛的应用, 如航天、航空、汽车、体育、建筑、医疗等领域。
先进陶瓷是“采用高度精选或合成的原料,具有精确控制的化学组成,按照便于控制的制造技木加工、便于进行结构设计,并且有优异特性的陶瓷。
先进陶瓷可分为结构陶瓷和功能陶瓷两大类。
结构陶瓷:是指能作为工程结构材料使用的陶瓷。
它具有高强度、高硬度、高弹性模量、耐高温、耐磨损、耐腐蚀、抗氧化、抗热震等特性。
功能陶瓷:功能陶瓷是具有电、磁、光、热、化学、生物等特性,且具有相互转化功能的一类陶瓷。
功能陶瓷在先进陶瓷中约占70%的市场份额,其余为结构陶瓷。
二、研究现状1、国外研究发展情况国际上从20世纪60年代开始重视研究先进陶瓷材料,结构陶瓷略早于功能陶瓷。
60~ 70年代伴随着陶瓷学研究的新进展,一大批具有优良性能的结构和功能陶瓷材料被发现和合成。
80年代以陶瓷发动机为背景,各国竞相加大了对陶瓷材料研究与开发的投入,陶瓷材料已经能够基本满足各种苛刻条件下(包括陶瓷发动机部件在内)使用的要求。
但材料的稳定性、可靠性和高成本等问题仍阻碍了先进陶瓷材料的应用。
90年代中后期,对陶瓷材料的研究转向材料性能稳定性、结构与功能性能一体化、低成本制备工艺等方面,各国仍在继续增加对陶瓷材料的研究与投入。
日本:全球最大先进陶瓷材料生产基地,占全球市场份额50%以上;功能陶瓷领域垄断国际市场;“月光计划”、300kW陶瓷燃气轮机研制计划等;业内知名企业:京瓷、东芝、旭硝子、住友、村田、东陶。
陶瓷晶体缺陷

二、按缺陷产生的原因分类
➢热缺陷 ➢杂质缺陷 ➢非化学计量缺陷 ➢其它原因,如电荷缺陷,辐照缺陷等
Harbin Engineering University
1. 热缺陷
定义:热缺陷亦称为本征缺陷,是指由热起 伏的原因所产生的空位或间隙质点 (原子或离子)。
缺陷,并使缺陷总浓度增加。
Harbin Engineering University
二、缺陷反应方程式
杂质 基质 产生各种缺陷
CaCl 2
KCl
Ca
• K
VK'
2ClCl
与化学反应式类似,必须遵守一些 基本原则,其中有些规则与化学反应所需 遵循的规则完全等价
Harbin Engineering University
(2) Schottky defect: 如果正常格点上的质点,在热
起伏过程中获得能量离开平衡位置 迁移到晶体的表面或晶界,而在晶 体内部正常格点上留下空位
Harbin Engineering University
两个对比一下,肖脱基形成一个空穴,只须 克服形成空穴所需的能量,而弗兰克尔除 了要形成一个空穴外,还要形成一个间隙 原子,所需能量较高。
2Ti'Ti VO••
4OO 2Ti'Ti
3OO
VO•• 3O
O12O122
O2
2TiTi
OO
2Ti'Ti
VO••
1 2
O2
OO
2e'
VO••
1 2
O2
TiTi:表示钛离子处在正常的位置上
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2陶瓷物化晶体结构不完整性

第二章 陶瓷晶体(jīngtǐ)的缺陷
第一节 点缺陷
理想(lǐxi:ǎn原g)子晶按体照(ànzhào)晶体点阵完全有 序排列的完整晶体结构,原子静止不 动,电子处于最低能态,导带是空的。
质点及其周围势场具有周期性。
实际晶体 :很少达到完全有序状态。
存在 缺陷。
在高真空条件下洁净的 {111} Si 表面
第十五页,共59页。
(2)质量平衡:与化学反应方程(fāngchéng)一样,缺陷方程(fāngchéng)两边必须保 平衡。但缺陷符号(fúhào)的下标表示所研究的位置,对于质量平衡没有 意义(yìyìV)M。是如M位置上空位,不存在质量。
(3)电中性:在缺陷反应前后晶体必须保持电中性。 在晶体内部,中性粒子能产生两个或更多的电荷符号相反的缺陷; 缺陷 -反应方程两侧具有相同数目的有效电荷,但不一定是零。
第一页,共59页。
缺陷(quēxiàn)偏的离含理义想:点阵结构的部位(bùwèi)。严格地说在晶体点阵结构周期 性势场中发生畸变(jībiàn)的部位称为晶体的结构缺陷。
第二页,共59页。
缺陷(quēxiàn)的影响:
? 决定固体物质化学性质,缺陷参与(cānyù)电荷与物质传输,涉及扩散、固相
离子位置的原则,这样基质晶体的晶格畸变小,缺陷容易形成。在不
等价替换时,会产生间隙质点或空位。
实际晶体缺陷类型及其特征

学校代码: 10128学号: ************科研训练报告题目:实际晶体中的缺陷分类及其特征****:***学院:理学院班级:电科10-1指导教师:哈斯花2013年9 月9 日一、国内外研究进展及研究意义1.1 国内外研究现状和发展动态20世纪初,X射线衍射方法的应用为金属研究开辟了新天地,使我们的认识深入到原子的水平;到30年代中期,泰勒与伯格斯等奠定了晶体位错理论的基础;50年代以后,电子显微镜的使用将显微组织和晶体结构之间的空白区域填补了起来,成为研究晶体缺陷和探明金属实际结构的主要手段,位错得到有力的实验观测证实;随即开展了大量的研究工作,澄清了金属塑性形变的微观机制和强化效应的物理本质。
1.2 研究意义在晶体的生长及形成过程中,由于温度、压力、介质组分浓度等外界环境中各种复杂因素变化及质点热运动或受应力作用等其他条件的不同程度的影响会使粒子的排列并不完整和规则,可能存在空位、间隙粒子、位错、镶嵌结构等而偏离完整周期性点阵结构,形成偏离理想晶体结构的区域,我们称这样的区域为晶体缺陷,它们可以在晶格内迁移,以至消失,同时也可产生新的晶体缺陷。
本文就晶体中所存在的各类缺陷做了详细说明,并且重点介绍了各类缺陷的成因及其特征。
1.3 主要参考文献[1] 黄昆原著,韩汝琦固体物理学[M] 出版社:高等教育出版社ISBN:9787040010251[2] 百度文库晶体缺陷/view/5728eb134431b90d6c85c730.html二、研究内容及方案2.1 研究内容按照晶体缺陷的几何形态以及相对于晶体的尺寸,或其影响范围的大小,可将其分为以下几类:1.点缺陷(point defects) 其特征是三个方向的尺寸都很小,不超过几个原子间距。
如:空位(vacancy)、间隙原子(interstitial atom)和置换原子(substitutional atom)。
除此以外,还有空位,间隙原子以及这几类缺陷的复合体等均属于这一类。
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陶瓷的晶体缺陷
一.决定陶瓷性能的结构因素
机械性质 硬度、强度、比重、 弹性率、断裂韧性
微结构
陶 瓷 的 构 成 因 素 组 成
超微结构
(原子离子级别)
原子的种类, 原子的金属性 元素 和非金属性, 化学结合的方 式,结晶结构
(晶粒、晶界级别) 多晶体 晶粒直径 气孔量 ( 晶界、晶 粒内) 晶界 ( 分凝、析出 相) 缺陷(裂纹、位错) 表面状态(伤痕等) 晶格的各向异 性和取向
点缺陷的标记法:Kroger-Vink Notation:
· 正电荷 ,负电荷 ×电中性
缺陷有效电荷
缺陷种类
缺陷位置
MXV
金非晶 属金格 元属空 素元位 符素 号符 号 MX I 金非格 属金点 元属间 素元填 符素隙 号符位 号置
Fe
Ni
缺陷种类与有效电荷
缺陷种类 高价离子置换 低价离子置换 金属离子空位 非金属离子空位 金属离子填隙 非金属离子填隙 有效电荷 + + + -
2 玻璃相
玻璃相是指陶瓷材料中的非晶态物质。玻璃相分布在晶粒的 周围成连续状或仅仅分布在三界处,也可能形成孤岛状。
显微结构
玻璃相的作用:
a粘结的作用,填充晶粒的间隙把晶粒粘在一起使陶瓷密化 b降低烧结温度促进烧结的作用蒸发一凝聚扩散机理 c阻止或延缓晶型转变抑制二次晶粒长大
因此玻璃相可提高材料的抗电强度和机械强度
2
1 ] P 因而 [VNi 2
P KPO6
1
2
又因空穴电导率 穴迁移率
p pqp
q- 电 子 电 量 , p- 空
p Kq p PO KpPO6
6 2
1
1
2
表明:NiO的电导率随烧结或热处理过程中的氧分压 的增加
按1/6次方的指数规律增加。可从此关系反证
电阻、热释电性、介 电学性质 电常数、压电性、电 光效应、离子导电性 、绝缘破坏强度 熔点、比热、热导 热学性质 率、热膨胀系数 化学性质 耐酸、碱、电化学 腐蚀,与金属的亲 合性
陶 瓷 的 性 质
( )
LTCC基板优点 缺陷的分类:
瞬时 缺陷 声子 电子 缺陷 电子 空穴 点缺陷 晶格空位 格点间填 隙原子 置换原子 线 缺 陷 位错 面 缺 陷 晶 体 表面 晶界 相界 层错 体缺陷 空洞 缺陷簇 夹杂物
微观结构
陶瓷的微观结构是指晶体结构类型、对称
性、晶格常数、原子排列情况及晶格缺陷等,
其研究分析手段有 X射线衍射、电子衍射、场
离子显微镜等。研究微观结构时需将样品放大
数百万倍,分析精度可达数埃。
显微结构
1晶相 晶相是指陶瓷材料中具有晶态结构的相,它是陶瓷材料 最基本最主要的部分。 晶相的性质决定着陶瓷材料的性质,不同的材料决定不 同的晶相,晶相包括主晶相和次晶相(或称析出晶相)陶瓷 中可能有好几种晶相。
CaO(s) Ca OO VO
ZrO 2 '' Zr
⑦正离子填隙非化学计量化合物M1+yX 充分反应
M
X N
X
X X
M
i
1 2e X 2 ( g ) 2
体
如:Zn1+yO在一定条件下以 Zni˙ 缺陷为主时,呈n型半导
2LiCl (s) 2Li
显微结构
陶瓷的显微结构是指在光学显微镜(如金相
显微镜、体式显微镜等)或是电子显微镜(
SEM、TEM)下观察到的陶瓷内部的组织结构
,也就是陶瓷的各种组成(晶相、玻璃相、气相
)的形状、大小、种类、数量、分布及晶界状态 、宽度等。研究陶瓷的显微结构时往往将样品放 大数百倍到数千倍,观察范围为微米数量级。
玻璃相的缺点:结构疏松 Na+,K+ 等金属离子作为网络的变性 剂易进入玻璃网络,在外电场作用下易迁移故电导产生松驰 极
化使介质损耗(tg&)对材料的机械强度、热稳定性也 有影响。
显微结构
3 气相:
形成::烧结过程就职气孔排除材料改变密化的过
程,坯体中的空气水汽粒合剂和易挥发物形成形 成的气体,化合物分解的气体等在烧结过程中大 部分沿陶瓷晶界扩散排除,然而总有点少部分特 别是裹在晶粒中的气体不能排除它们以 O2,H2,
形成固溶体的条件
1.结构因素:晶格类型相同是形成无限固溶体的必要条件
晶格类型差别愈大,固溶度愈低 2.离子半径因素
离子半径相对差值
r
r大 r小 r小
100%
r: <15% 15%~40% >40 形成的固溶体:无限 有限 非固溶体 3.化学性质 化学性质相似,酸碱性接近的组元易形成固溶体 4.离子的电子构型 离子的电子构型相同或相近的组元易形成固溶体
在NiO中掺杂微量的Li+, Na+,K+等一价金属离子
X Li2O 2Li Ni 2h OO Ni1 xO
可见,掺Li+后,空穴浓度p要增大,NiO的电导率上升。
若在NiO中掺杂微量Fe3+,Cr3+等三价金属离子。
X Fe2O3 2Fe 2e 3OO Ni1xO Ni
可见,掺入Fe3+后,电子浓度补偿了空穴浓度, e h 0 使NiO电导率下降。
2)气氛对电导的影响:由上例
1 X 2h O O O 2 VNi 得: 2
K1
]P 2 [VNi PO2
1 2
] P 2[VNi 根据电中性条件:
代入上式:
K1 1 3 P 21 PO2
二.晶体缺陷的研究:
1)结晶学观点出发,研究缺陷存在的形态 2)热力学立场出发,研究缺陷生成的理论依据
准化学平衡法
原理——将缺陷生成看作是一种化学反应 缺陷反应方程式的规则: (1) 质量关系 —— 原子数平衡,方程两边各种 原子(或离子)的个数必须相等 (2)位置关系——格点数成正确比例,每增加a 个M格点,须增加b个X格点 (3)电荷关系——电荷平衡,方程两边的总有 效电荷必须相同(晶体的电中性)
一、溶质原子在溶剂晶体结构中所处的位置分类 (本质) 1 .置换固溶体:无机材料多发生在金属阳离子 的置换 2 .填隙固溶体:无机材料多发生在阴离子所形 成的间隙中 二、按溶质原子在溶剂晶体中的溶解度分类 1.连续固溶体:Sr+2Ba+2 BaTiO3 2.有限固溶体:Ca+2Ba+2 BaTiO3
异相共格模型
分类: 互扩散模型
过渡层模型
杂质在陶瓷晶界的分布
缺陷属何种类,进而推知导电机构。
四.固溶体的概念及其分类
固溶体 —— 固态条件下,一种组分内溶解了其它 组分而形成的单一、均匀的晶态固体。
如:红宝石:-Al2O3+0.5~2% Cr2O3 (纯-Al2O3白宝石) 结构中Cr3+的存在能产生受激辐射,固体激光材料
固溶体中不同组分的结构基元是以原子尺度混合 的,这种混合是以不破坏主晶相结构为前提的。
是指不同类(异相)物质的晶粒间界(PB)
晶界的特点(性质):
A.晶界处存在大量缺陷 B.晶界处有空间电荷区 C.晶界上易出现杂质偏析
显微结构
5.
相界的特点:
由于两相物质之间成分结构,键特性不同,
晶格场有较大的区别,故相界结构一般都较同类 晶界复杂,且厚些。两相物质间可能出现互扩散 和超限固溶,晶相能高。
缺陷反应方程式应用示例:
①具有Frankel缺陷的化学计量化合物M+2X-2:
M
X M
M
i
VM
②具有反Frankel缺陷的化学计量化合物M+2X-2:
X XX Xi VX
③具有Schottky缺陷的化学计量化合物M+2X-2:
(无缺陷)
0
VX VM
N2,CO2,H2O 等形成式停留在材料中而形成气
相气相对陶瓷材料的电学热学光学和机械强度都 有影响。影响:a 使抗电强度下降;b 使机械强度 下降;c气孔使光的 在多晶材料的形成过程中,晶粒是
各自为核心长大的,到后期晶粒长大至相互 接触,共同组成了晶粒间界。
1. 晶界是指同类物质的晶粒间界( GB),相界
缺陷反应方程式应用示例
④具有反Schottky缺陷的化学计量化合物M+2X-2:
X MX X M M X i X i
⑤正离子缺位的非化学计量化合物M1-yX(Ni1-yO, Cu2-yO, Mn1-yO等)
1 X X X 2 ( g ) VM XX 2
V
X M
VM h
X OO VO 2e
1 O2 ( g ) 2
K
[V ]n PO22 [O ]
X O
O
2
1
或
K
2 1 2 [VO ]n PO2
应用示例:
1)掺杂对电导的影响: 通常NiO为具有Ni缺位的非化学计量氧化物,p型半导体
1 X 2h OO O 2 (g) VNi 2
X XX V XX
1 X 2 (g) 2
VX VX e
X VX VX e
若缺陷反应充分,则有:
X
X X
V
X
1 2e X 2 ( g ) e为多子,n型半导体 2
O
如BaTiO3在还原性气氛条件下烧结:
O V
X O
1 2e O2 ( g ) 2
MgCl 2
' Mg
Mgi 2ClCl