图形转移技术
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集成电路技术工程
信息工程学院
图形转移技术
⏹光刻技术概述
⏹光刻工艺原理
⏹光刻对准曝光设备⏹工艺参数条件设定⏹光学增强技术
一、光刻技术概述
1. 光刻技术特点
一、光刻技术概述
2. 光刻技术要素
（1）关键尺寸
一、光刻技术概述
2. 光刻技术要素
（2）分辨率
一、光刻技术概述
2. 光刻技术要素
（3）掩模版
一、光刻技术概述
2. 光刻技术要素
（4）套准精度
二、光刻工艺原理
1. 光刻胶的性质与作用（1）光刻胶的类型与感光机理
二、光刻工艺原理
1. 光刻胶的性质与作用（1）光刻胶的类型与感光机理
二、光刻工艺原理
1. 光刻胶的性质与作用（1）光刻胶的类型与感光机理
二、光刻工艺原理
1. 光刻胶的性质与作用（2）光刻胶的物理性质
二、光刻工艺原理
1. 光刻胶的性质与作用（2）光刻胶的物理性质
二、光刻工艺原理
1. 光刻胶的性质与作用（2）光刻胶的物理性质
二、光刻工艺原理
2. 光刻工艺步骤
二、光刻工艺原理
3. 光刻分辨率与焦深
（1）分辨率
二、光刻工艺原理
3. 光刻分辨率与焦深
（1）分辨率
二、光刻工艺原理
3. 光刻分辨率与焦深
（2）焦深
三、光刻对准曝光设备
1. 接触式光刻机
三、光刻对准曝光设备
2. 接近式光刻机
三、光刻对准曝光设备
3. 投影式光刻机
（1）扫描投影式
三、光刻对准曝光设备
3. 投影式光刻机
（2）步进投影式
四、工艺参数条件设定
1. 光刻胶选定
2. 光刻胶厚度曲线
3. 最佳厚度与曝光量
4. 工艺空间
五、光学增强技术
1.变形照明（偏轴光源）技术
五、光学增强技术
2.移相掩模（PSM）技术
研讨4：
移相掩模技术的原理、应用与进展