近代有机合成策略

广泛用于糖及核苷酸中醇羟基的保护。
ｄ、三苯甲基醚
HOH2C O Base
HH
+ MeO
H
H
OH OH
吡啶
C Cl
MeO
20℃
C
OCH2 O
Base
HH
H
H
OH OH
80％乙酸 或吡啶－乙酸
MeO
C OH
HOH2C O Base
+
HH
H
H
OH OH
在糖、核苷和甘油酯中选择性的保护伯醇羟基。
（2）缩醛缩酮衍生物 a、四氢吡喃醚
NHCHO
H2O
O2N
COOH
NHCHO 混酸
COOH
NH2
O2N
COOH
稳定性：苯甲酰基>乙酰基>甲酰基
在多肽合成中，常用三氟乙酰基（Tfac）、 叔丁氧羰基（t-Box,Boc）、三氯乙氧羰基 （Tceoc）、苄氧羰基Cbz以及邻苯二甲酰基 （Phth）做氨基的保护基团。
6.1.4 碳氢键的保护 1、乙炔衍生物活泼氢的保护
O
HO
OH
CH3CCH2CH2Br
H+
OO
CH3CCH2CH2Br
Ph3P C6H5Li
OO
CH3CCH2CH-P+Ph3
O OO
CH3CCH2CH
H+,H2O
O
CH3CCH2CH
2、烯醇醚和烯胺衍生物 1）烯醇醚和硫代烯醚
O
O
H+
+ CH(OCH3)3
O
H3CO
O
1)CH3I
2)H3O+
O
保护不饱和羰基化合物
2）烯胺
HO
O
NH
H
C6H6,回 流
O
H
H3O+
N
HO
O
H
H
100%
限于甾体化合物中羰基保护
ArCHO +
H
CN H2O/EtOH
CN
Ar
CN CH2N2/EtOH
CN
H3C
CN
H3C
浓NaOH/H2O
O
Ar
CN
50°C
Ar
99%
对碱敏感的羰基保护基
6.1.3 氨基的保护
NH2 COOH
HCOOH
b、缩醛和缩酮
CH2OH CHOH CH2OH
CH3COCH3 H+
PhCHO/H+
CH2OH CHO CH2O
Ph O
HO
CH3 1)CH3(CH2)14COOH/H+ CH3 2)H2O
OH 1)CH3(CH2)14COCl/Py H 2)H2/Pd
CH2OCO(CH2)14CH3 CHOH CH2OH CH2OH CHOCO(CH2)14CH3 CH2OH
Me3SiCl
Br
C CMgBr
Br
C CSiMe3
Mg THF
BrMg
C CSiMe3 1)CO2 2)H3O+
HOOC
C
CSiMe3
AgNO3/OHH3O+
HOOC
C CH
2、芳烃中碳氢键的保护 1）间位定位基
以羧基为保护基
OH
OH
CO2/NaHCO3
Kolbe反 应
OH
Br2/AcOH
OH
COOH
O CCl3
ROCO
ROCO
OH
2、酚羟基的保护 类似醇羟基的保护，详见P148
6.1.2 羰基的保护 1、缩醛、缩酮衍生物
1）二甲基或二乙基缩醛缩酮 适用于醛或位阻小的酮
O
O
HCl/MeOH
rt
H3CO
O
H3CO
HO C CH
HC CH
KNH2/液 NH3
H3CO H3CO
CH2(COOH)2 r.t 8h
1)20%醇，HCl（脱苄）
HO
2）28%HCHO/HCl,100°C
Br
OCH3
N OH
LiAlH4/THF
脱溴
H3CO HO
Br N
OH
OCH3
OCH3
3、脂肪族化合物碳氢键的保护
O
HCOOEt/EtONa
O
CHO C6H5NHCH3
O
H2O,H+
H C6H5 CN
CH3
H3C O
1)NaNH2 2)CH3I
H+
+ ROH
O
O OR
CH3CH2C CH NaNH2 CH3CH2C CNa
BrCH2CH2CH2CH2OH CH3CH2C C(CH2)4OH
应该保护羟基：
BrCH2CH2CH2CH2OH +
H+
O
O O(CH2)4Br
CH3CH2C CNa
O O(CH2)4C CCH2CH3
H+ H2O CH3CH2C C(CH2)4OH
（3）羧酸酯类衍生物 a、乙酸酯
OH
Ac2O/AcONa/AcOH
HO
OH
60°C,2h
OAc
NH3/CH3OH
或 K2CO3/CH3OH
HO
OH
b、三氯乙基氯甲酸酯
O
O
1) Cl3C O Cl (Py/CH3Cl)
O
OH 2)HCl/H2O/CH3OH
HO O
1)RCOCl/Py
HO
OC
2)Zn-Cu/AcOH,20°C
b、三甲基硅醚
ROH + Me3SiCl(Me3SiNHSiMe3)
ROSiMe3 醇/H2O ROH
对催化氢化、氧化、还原稳定，广泛用于保护 糖、甾族类及其他醇，但只能在中性条件下使 用。
c、苄醚
R OH
CH2Br
NaOH
R OCH2
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苄基醚
H3+O R OH +
H2
R OH +
Pd
CH2OH CH3
NH2
CH3 Cl
NO2 CH3
Cl
2）邻对位定位基 以叔丁基为保护基
OH
H2SO4
OH
Cl2 Cl
OH Cl
C(CH3)3
C(CH3)3
蒸汽通过275~350°C的活性白土 Cl
OH Cl
以卤素为保护基
H3CO BnO
H3CO
NH Br2/AcOH/H2O
BnO
5°C
OBn
NH OBn
OCH3 H3CO
H3C O
H C6H5 CN
CH3
$ 由苯合成
Cl
I
Cl
Cl
HNO3 H2SO4
NO2
Fe + HCl
NH2
(CH3CO)2O
第六章 近代有机合成策略
6.1.1 基团的保护与去保护
基团保护需注意三个方面： 1、保护基团在温和条件下引入； 2、在所需反应条件下是稳定的； 3、在温和条件下易于除去。
6.1.1 羟基的保护
1、醇羟基的保护
（1）醚类衍生物
a、甲醚
ROH Me2SO4 NaOH
ROMe BF3/RSH ROH
优点：条件温和，对碱、氧化剂或还原剂很 稳定，多用于单糖环状结构的经典测定。
HO C CH
DDQ/C6H6/Et2O
HO C CH
O
O
2） 环状缩醛缩酮
HO
O+
HO
FeCl3 6H2O
环己烷
O
+ H2O
O
S R
R' S
1*/AgNO3/CH3CN/H2O,r.t
R O
R'
1* :三氯异氰尿酸
Cl O NO
Cl N N Cl
O
O
CH3CCH2CH2Br
O
CH3CCH2CH
OH Br
H2O
OH Br
OH 100°C,回流
OH COOH
以磺酸基为保护基
CH3
浓 H2SO4 100°C
CH3 Cl
H2O,H+ 150°C
SO3H
CH3
Cl2 Fe
SO3H CH3 Cl
以硝基为保护基
C(CH3)3
H2SO4 HNO3
CH3
Cl2 Fe
NO2
Fe+ HCl
CH3
Cl 1)NaNO2/H2SO4 2) H3PO2/H2O