纳米银导电膜及其TP制作工艺介绍

③Ag&NW同步镭射工艺调试，特别是大尺寸触摸屏涉及到多次拼接，需同时保证 外观
和功能OK。 2、黄光工艺制程难点 ①纳米银、干膜与蚀刻液三者之间的搭配性，需保证干膜与纳米银的附着性、解析度以 及蚀刻液对纳米银、干膜的蚀刻性。
②纳米银导电膜与银胶之间的搭配性，需保证搭接处的导电性和附着性。
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四、具体专案分析
FPC绑定
Senor Test
senor外形冲切
大片组合
Ag Laser
银胶烘烤
Bonding Test
CG贴合
终检
Final Test
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三、制程难点
1、镭射工艺制程难点 ①纳米银导电膜与银胶之间的搭配性，需保证搭接处的导电性和附着性。 ②银胶印刷质量管控，需保证印刷厚度均匀性，无杂物、透空点等。
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二、纳米银TP制作工艺
纳米银TP可通过激光镭射和黄光两种工艺制作，制作流程如下：
1、激光镭射工艺流程
开料 老化 银胶印刷 银胶烘烤 Ag&NW Laser 大片组合 senor外形冲切
Final Test
终检
CG贴合
Bonding Test
FPC绑定
Senor Test
2、黄光工艺流程
开料 老化 压干膜 曝光 显影 蚀刻 & 剥 膜 银胶印刷
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纳米银导电膜及其TP制作工艺介绍
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报告目录
1 纳米银导电膜
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纳米银TP制作工艺
制程难点 具体专案分析
建议对策
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一、纳米银导电膜
纳米银线 纳米银线是采用化学法生长的直径为25~300nm， 长度10~200um的纳米材料。 纳米银线除具有银 优良的导电性之外，由于纳米级别的尺寸效应，
还具有优异的透光性、耐曲挠性。因此被视为是
最有可能替代传统ITO透明电极的材料，为实现
柔性、可弯折LED显示、触摸屏等提供了可能，并已有大量的研究将其应用于薄膜
太阳能电池。此外由于银纳米线的大长径比效应，使其在导电胶、导热胶等方面的 应用中也具有突出的优势。
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一、纳米银导电膜
纳米银导电膜是指采用精密涂布的方法，在透明有机薄膜材料上涂布透明纳米 银丝墨水并经固化处理而得到的高技术产品。纳米银丝墨水涂布密度不同，膜的导
问题点： ①银胶附着力差，做百格测试NG。 ② Ag&NW Laser良率低。 3、纳米银激光镭射工艺与ITO印刷工艺效率对比
工艺方式 纳米银镭射 ITO印刷 老化 40s/pcs 80s/pcs 耐酸印刷固化 0 30s/pcs 蚀刻 0 10s/pcs 银胶印刷固化 35s/pcs 35s/pcs 线路镭射 上线 下线 145s/pcs 100s/pcs 108s/pcs 63s/pcs 大片线路产出效率 上线 下线 220s/min 263s/min 175s/min 218s/min
4、可行性分析 纳米银激光镭射工艺与ITO印刷工艺相比，有材Hale Waihona Puke Baidu成本低、生产效率高、人力及机台需求 少的优势，在提升良率和客户认可的前提下有非常好的可行性。
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五、建议对策
1、寻找与纳米银匹配性好的银胶。 2、管控好银胶印刷质量，包括厚度均匀性、杂物、透空等。 3、进一步调试镭射参数，提升良率。 4、选择更低阻值的纳米银导电膜，上下线均以单边走线，从而做到窄边框效果。
电性能和透光性能也不同。纳米银导电膜由于具备良好的导电性能和透光性能，特
别适用于触摸屏的制作。 与ITO导电膜相比，纳米银导电膜有以下优越性：
1、生产效率高，价格相对较低；
2、面阻值低，可做到50欧姆以下，特别在大尺寸 触摸屏制作上有很大优势，为实现超大尺寸触
摸屏和大尺寸单边走线提供了可能性。
3、耐曲挠性好，为实现柔性、可弯折触摸屏提供 了可能。
纳米银激光镭射工艺评估
1、专案信息 联想15.6 ″，投入NW+NW和ITO+NW两种结构样品， NW方阻为100 ± 30 Ω ，Tx、Rx 均为双边走线。 2、良率及问题点
专案 MCF-156-0751-20 结构
NW+NW ITO+NW
投入
30pcs 30pcs
产出
7pcs 16pcs
良率
43.30% 23.30%