超净高纯化学试剂(讲一)

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公司产品级别的分类
我公司专业生产高纯试剂,其等级划分为:
电子级1级(EL-Ⅰ)其金属杂质含量为100--1000 PPb,与市场供应的电子 级(EL)相当,达到SEMI C1 C2标准。
电子级2级(EL-Ⅱ)其金属杂质含量为10--100 PPb,与市场供应的摩斯级 (MOS\CMOS)相当,达到SEMI C7标准。
ຫໍສະໝຸດ Baidu
检出阳离子
生产精馏设备 等离子电感耦合质谱仪I C P - M S 返回目录
公司产品纯度保证
我公司所有的高纯试剂都是在工业基础原料上进行精馏提纯的,去除阴阳离子。
离子色谱 生产精馏设备 检出有机物含量 及杂质
紫外分光仪
检出有机物杂质
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公司产品洁净度保证
我公司所有的高纯试剂都是在精馏提纯上进行过滤的,去除颗粒物。
电子级3级(EL-Ⅲ)其金属杂质含量为1--10 PPb,高于市场供应的摩斯级 (MOS)1个数量级,达到SEMI C7标准。 电子级4级(EL-Ⅳ)其金属杂质含量为0.1--1PPb,高于市场供应的摩斯级 (MOS)2个数量级,达到SEMI C8标准。 返回目录
公司产品纯度保证
我公司所有的高纯试剂都是在工业基础原料上进行精馏提纯的,去除阴阳离子。
检出颗粒物
生产过滤滤芯
液体颗粒检测仪
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超净高纯化学品应用的领域
集成电路
IC
超净高纯 试剂
VLSI
超大规模集成 电路
光电组件
TFT/LCD
SOL AR
太阳能光伏
单晶、多晶硅
SILICO N
OTHE R
其他行业
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不是结束 ,是开始哦!
纯度(金子来注释),洁净度(纯净水来注释) 返回目录
超净高纯试剂特点
超净高纯试剂具有品种多、用量大、技术要求高、强腐蚀 性和储存有效期短等特点,它基于微电子技术的发展而产 生,随着微电子技术的发展而同步或超前发展,同时它又 制约着微电子技术的发展。因此,超净高纯试剂的研究开 发及应用必须与微电子技术的发展及应用紧密地结合才具 有现实意义。
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超净高纯试剂用途
超净高纯试剂的主要用途: (1)用于硅圆片工艺加工过程中的硅片清洗。硅圆片在 进行工艺加工过程中,常常会被不同的杂质所沾污,因为 各种沾污可引起IC芯片产率下降50%左右,为了获得高质 量、高产率的集成电路芯片,必须去除硅圆片表面各类沾 污物。 (2)用于芯片制造中涂胶前的湿法清洗和光刻过程中的 湿法蚀刻及最终的去胶。
挖金人的成长之路(一)
了解您所推销的产品超净高纯化学试剂
讲解人---华小龙
超净高纯化学 试剂概述
超净高纯化学试剂 简介
超净高纯试剂特点
超净高纯试剂用途
公司所生产的产品及级别划分 情况 公司产品各项重要指标的检测 手段(无机纯度、有机纯度、 洁净度)
超净高纯试剂的应用
超净高纯试剂简介
超净高纯试剂(Ultra-clean and High-purity Reagents) 在国际上称为工艺化学品(Process Chemicals),是集成 电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)制作过程中的关键 性基础化工材料之一,主要用于芯片的清洗和腐蚀,另外 还用于硅圆片表面的清洗。超净高纯试剂的纯度和洁净度 对集成电路的成品率、电性能及可靠性均有十分重要的影 响。
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• 酸类产品:
公司产品介绍
硝酸、盐酸、硫酸、氢氟酸、磷酸、过氧化氢、冰乙酸等; • 碱类产品:
氢氧化铵、氟化铵、氢氧化钾溶液、氢氧化钠溶液、胆碱等; • 腐蚀剂产品: 氟化铵腐蚀液(BOE)、铝腐蚀液(PES)、硅腐蚀液(MAE)、混合酸 (3F)、混合酸(4F)、铬腐蚀液、钼腐蚀液、镍银腐蚀液、钛腐蚀液、 酸性剥离液等; • 有机溶剂产品: 甲醇、乙醇、异丙醇、丙酮、戊酮等。 • 其他产品: 去毛剂、漂洗液、剥离液、光刻胶配套试剂、正胶显影液、负胶显影液、 高纯清洗剂等。 返回目录
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