第9章金属的电沉积过程
第九章_金属的电沉积过程要点
有不同配位数的各种络离子都有,其浓度
也不相同。
2、金属络离子阴极还原机理
(2)配位数较低、浓度适中的络离子在电极 上得到电子而还原。 原因:配位数低,还原所需的能量小; 浓度适中,才能有一定的量。
2、金属络离子阴极还原机理
(3)当有两种络合剂存在,而一种络离子 又比另一种络离子容易放电,则在表面转 化步骤之前,还要经过不同类型配位体的 交换过程。
衡电位,并获得一定过电位。
一、金属离子从水溶液中阴极还原的 可能性
2、某金属在阴极析出的充分条件: 溶液中其他粒子不会优于该金属在阴极上 首先析出。 例如:金属离子还原电位比氢离子还原电 位更负,则氢在电极 上优先大量析出,金 属就很难沉积出来。
一、金属离子从水溶液中阴极还原的 可能性
3、从周期表中的位置,判断金属离子从水 溶液中还原的可能性:
(从难放电的络离子形式转变为易放电的络 离子形式。)
2、金属络离子阴极还原机理
• 例如:氰化镀锌溶液中存在两种络合剂, NaCN 、NaOH 其阴极还原过程如下:
2 Zn(CN ) 2 4 OH Zn ( OH ) 4 CN 配位体交换 4 4 Zn(OH ) 2 Zn ( OH ) 2 OH 4 2 Zn(OH ) 2 2e Zn(OH ) 2 2吸附 Zn(OH ) 2 Zn 2 OH 2吸附 晶格中
第九章 金属的电沉积过程
定义:通过电解的方法,在电解池阴极
上,金属离子通过还原反应和电结晶过
程在固体表面生成金属层。
目的:改变固体材料的表面性能或制取 特定成分和性能的金属材料。
第九章 金属的电沉积过程
§9.1 金属电沉积的基本历程和特点 §9.2 金属的阴极还原过程 §9.3 金属的电结晶过程
电沉积的基本原理
电沉积的基本原理电沉积呀,就像是一场微观世界里超级有趣的“金属搬家”游戏呢!咱先来说说电沉积发生的舞台——电解液。
这电解液就像是一个充满各种小粒子的热闹“小广场”。
这里面有金属离子,它们就像一个个等待被安排新住所的小居民。
比如说,要是想电沉积铜,那这个电解液里就有铜离子在里面游来游去。
这些离子在溶液里可不安分,它们被周围的水分子或者其他溶剂分子包围着,就像一个个小明星被粉丝簇拥着一样。
然后呢,咱得有电极。
电极就像是这个“搬家”游戏里的起点和终点。
一般有阳极和阴极。
阳极就像是一个“资源供应站”,它会发生一些反应来提供电子或者离子。
阴极呢,那可是“目的地”,是金属离子们向往的新家。
比如说,在一个简单的电沉积铜的装置里,阳极可能是一块铜块,阴极可能是一块别的金属或者导电的材料。
当我们把这个装置接通电源的时候,就像给这个微观世界按下了启动键。
电源就像是一个指挥官,它开始指挥电子的行动。
电子从阳极出发,沿着导线像小蚂蚁搬家一样,朝着阴极跑去。
这个时候,阳极的铜块就不淡定了。
它开始失去电子,铜原子就变成了铜离子,进入到电解液这个“小广场”里。
这就像是家里的大人把东西拿出来放到外面,准备让别人搬走一样。
而在阴极那边呢,可是热闹非凡。
那些在电解液里游来游去的铜离子,一看到阴极这个诱人的“新家”,而且还有电子在那等着它们,就迫不及待地跑过去。
每个铜离子得到两个电子,就又重新变成了铜原子,然后乖乖地在阴极表面安家落户。
就像小孩子们找到自己的小房间,一个个排好队,在阴极表面形成一层铜的涂层。
电沉积可不光是这么简单的直线过程哦。
在这个过程中,还有很多小状况呢。
比如说电解液里的离子浓度会影响电沉积的速度和质量。
如果离子浓度太低,就像“小广场”里的居民太少了,那搬到阴极的金属原子数量就少,沉积的速度就慢。
而且,溶液里可能还有其他的离子在捣乱。
它们可能会和金属离子抢电子,或者影响金属离子到达阴极的路线。
这就像在搬家的路上有一些小调皮鬼在捣乱一样。
金属电沉积过程
金属电沉积过程嘿,咱今儿就来唠唠这金属电沉积过程。
你说这金属电沉积,就像是一场奇妙的魔法表演!想象一下啊,金属离子就像是一群调皮的小精灵,在溶液里欢快地游来游去。
而电呢,就像是那神奇的魔法棒,给这些小精灵施了魔法,让它们乖乖地在电极上聚集、沉积。
那这个过程是咋回事呢?简单来说,就是金属离子在电场的作用下,从溶液里跑出来,然后在电极上形成一层金属镀层。
这就好比是盖房子,那些金属离子就是一砖一瓦,一点点地堆积起来,最后就建成了漂亮坚固的金属层。
这过程可不简单呐!就说这金属离子吧,它们得有合适的条件才能乖乖听话。
要是溶液的成分不对,或者电流、电压不合适,那它们可就不乐意好好沉积啦,要么沉积得不均匀,要么干脆就不沉积。
这就像小孩子挑食一样,得给它们合适的“食物”,它们才会茁壮成长。
而且啊,这电极也很关键呢!就好像舞台对于演员一样重要。
要是电极的表面不光滑,或者有杂质,那金属沉积上去也不会好看,就像一件衣服上有了污渍,多难看呀!所以电极得好好准备,给金属离子一个舒适的“家”。
在这个过程中,时间也是个重要的因素。
沉积的时间短了,那金属层可能就薄薄的,不结实;时间长了呢,又可能会浪费电,还可能会出现一些意想不到的问题。
这就跟做饭似的,火候和时间都得掌握好,不然做出来的菜可就不好吃啦!那金属电沉积有啥用呢?用处可大啦!比如说可以用来电镀,让一些普通的金属制品变得闪闪发光,像新的一样。
还可以用来制造电池呀,那些小小的电池里可都有金属电沉积的功劳呢!咱再想想,要是没有金属电沉积,那我们的生活得少多少乐趣和便利呀!那些漂亮的首饰、精致的电子产品,可能都不会是现在这个样子。
所以说呀,这金属电沉积虽然看不见摸不着,但它却在默默地为我们的生活做贡献呢!你说这金属电沉积是不是很神奇?是不是很值得我们去深入了解和研究?我觉得呀,这就是科学的魅力,小小的一个过程,却蕴含着大大的学问。
咱们可得好好探索,说不定还能发现更多有趣的东西呢!这金属电沉积,真的就像是一个神秘的宝藏,等着我们去挖掘呢!。
电化学第九章金属的电沉积过程
添加剂的影响
添加剂可以改变溶液的电导率、界面张力和金属离子的还原过程,从而影响电沉 积过程。
常用的添加剂包括络合剂、缓冲剂、表面活性剂等。
温度的影响
温度可以影响电沉积过程的反应速率和产物形貌,通常随着温度的升高,电沉积速率加快。
但温度过高可能导致析出金属结构松散和溶液中气体的大量析出。
04
CATALOGUE
总结词
镀镍是一种具有优良防腐蚀性能的金属 电沉积技术,具有较低的孔隙率和较高 的硬度和耐磨性。
VS
详细描述
镀镍层呈银白色,具有良好的抗腐蚀和抗 磨损性能,广泛应用于电子、电力、石油 化工和航空航天等领域。在镀镍过程中, 应控制电流密度、电镀液成分和温度等参 数,以确保获得高质量的镀层。
镀金
总结词
镀金是一种具有优良导电性能和抗氧化性能 的金属电沉积技术,具有美观的外观和良好 的延展性。
电化学第九章金属 的电沉积过程
目录
• 电沉积过程的基本原理 • 金属电沉积的种类与特性 • 电沉积过程的影响因素 • 电沉积的应用领域 • 电沉积技术的发展趋势与展望
01
CATALOGUE
电沉积过程的基本原理
电沉积的定义
总结词
电沉积是指通过在电解液中施加电流,使金属离子还原并沉积在阴极表面上的过程。
03
CATALOGUE
电沉积过程的影响因素
金属离子的影响
金属离子浓度
金属离子浓度越高,电沉积速率越快,但过高的浓度可能导致析 出金属颗粒粗大。
络合剂
络合剂可以控制金属离子的水解和聚合,从而影响电沉积过程。
金属离子的电荷和半径
金属离电沉积过程。
流电沉积和脉冲电沉积。
电沉积的物理化学基础
金属合金电沉积的基本原理
金属合金电沉积的基本原理
金属合金电沉积是一种利用电解质溶液中金属离子的电化学还原过程,将金属离子以电流的形式沉积到基体材料上形成合金薄膜的技术。
金属合金电沉积的基本原理包括以下几个方面:
1. 电解质溶液中含有两种或更多的金属离子。
这些金属离子可以来自于各种化合物的溶解,比如金属盐类。
例如,溶液中可以同时存在铜离子和镍离子。
2. 电解质溶液中的金属离子被电流作用下还原成相应金属的原子或离子,并在电棒(基体材料)上沉积形成金属薄膜。
还原反应的过程中,金属离子的电子数目减少,从而金属离子被还原为金属原子或离子。
3. 金属离子的还原程度与施加的电流密度和电解液中金属离子的浓度有关。
较高的电流密度和金属离子浓度可以加速金属离子的还原速度和沉积速率。
4. 金属离子沉积到基体材料上后,会与基体材料形成金属合金薄膜,其中金属离子和基体材料的金属原子相互扩散,形成一个均匀的金属合金层。
金属合金电沉积技术可以通过调节电流密度、电解液配方等参数来控制合金薄膜的成分、结构和性能,从而满足不同应用的需求。
该技术在材料科学、电子工程、
能源领域等方面有着广泛的应用。
电化学第九章 金属的电沉积过程 2012
e 0
平
0.0591 lg x 0.533V n
∴ 移动了-1.289V! K 不稳越小, 平 负移越多。 平 越负,金属阴极还 原的初始析出电位也越负,即从热力学角度还 原反应越难进行。
金属络离子的阴极还原机理
溶液中存在不同配位数的络离子和金属离子, 它们的浓度各不相同,当络合剂浓度较高时, 具有特征配位数的络离子是金属在溶液中的主 要存在形式。 例如:锌酸盐镀锌:络合剂NaOH过量,主 要存在 ZnOH 4 2 ,还存在低浓度的 ZnOH 3 , ZnOH 2 , ZnOH 和少量锌离子等。
第二节金属的阴极还原过程第二节金属的阴极还原过程若电解液中是金属络离子则金属电极的平衡电位会明显负移使金属离子的还原更加困难若阴极还原产物不是纯金属而是合金则由于反应产物中金属的活度比单金属小因而有利于还原反应的实现
第九章 金属的电沉积过程
第一节 金属电沉积的基本历程的特点
一.基本历程 液相传质 前置转化 电荷传递 电结晶
金属络离子的阴极还原机理
多数人认为时配位数较低而浓度适中的络离子放电 (还原)。如上例中的 ZnOH 2 。这是因为 Zn 2 浓度太 小,尽管它脱去水化膜而放电所需活化能最小,也不 可能靠它直接在金属上放电。具有特征配位数的络离 子虽然浓度最高,但其配位数往往是最高或较高,所 处能态较低,还原时要脱去的配位体较多,与其他络 离子相比,放电时需要的活化能也较大,而且这类络 离子往往带负电荷,受界面电场的排斥,所以直接放 电可能性小。而像 ZnOH 配位数较低,还原活化能相 对较小,又有足够的浓度,所以以较高的速度放电。
电结晶形核过程规律
化学中的电沉积技术
化学中的电沉积技术电沉积技术是通过电化学反应的原理,将金属离子还原成为固体金属,沉积在电极表面的一种技术。
电沉积技术广泛应用于电子工业、材料工业以及制造业领域。
在化学工业中,电沉积技术是实现表面处理和增强金属材料耐腐蚀性的关键技术之一。
电沉积技术的原理是基于电解质溶液和金属电极之间发生的反应。
当电解质中含有金属离子时,将电极浸入其中,并在电极表面通以电流,电化学反应开始发生。
电流流过电解质时,金属离子被加电,成为金属原子,并沉积在电极表面。
这个过程可以被独立的改变,以产生不同的沉积表面形态和金属结构。
电沉积技术有多种应用。
最常见的应用是通过该技术实现金属表面的处理,以改善金属的表面性能。
例如,电镀铬可以增强不锈钢的耐腐蚀性和保护钢材表面损伤;电镀镍可以改善金属表面的摩擦和磨损性,电镀铜则可以对不锈钢进行表面涂覆,以增加其导电性能。
此外,电沉积技术在制造和维修汽车、航空、医疗器械和精密仪器等方面也有广泛的应用。
电沉积技术已经发展成为一门独立的学科领域,被广泛研究和应用。
在众多的电沉积技术中,电沉积合金是最为常见的技术之一。
通过将两种或更多金属组成合金,可以生成出有特殊性质的金属合金,为制造高质量材料奠定了基础。
电沉积合金的主要优点是可以生产出不同比例的合金,包括具有纯金属性质、合金性质、金属和非金属复合材料以及多达几百种复合材料,以满足不同的工业领域的需求。
除了电沉积合金外,还有纳米电沉积技术。
纳米电沉积技术是通过控制沉积液中溶解度,使金属离子浓度保持在一个亚纳米尺度范围内,使其得到自组装,从而在纳米尺度下生成金属薄膜。
该技术已经成为了纳米材料制备中最常用的方法之一,并在光电领域、生物医学、能源储存和电化学催化等方面有着广泛应用。
总之,电沉积技术已经成为化学中一个非常重要的技术,具有广泛应用的前景。
通过对电沉积技术进行更深入的研究,不仅能够提高其应用效率和产品质量,还能够不断创新和发展,为各行各业的制造和研究领域提供更加丰富和多样的技术支持。
第九章_金属的电沉积过程
2 17 Zn ( CN ) 不稳定常数 1 . 9 10 4 例如: 16 Zn(OH ) 2 不稳定常数 7 . 1 10 4
指前 因子 波尔兹 曼常数
(9.6)
k R/L
气体常数 阿佛加德 罗常数
• 将 代入(9.5) 得形核速度与阴极过电位的关 (9.6)
系:
K exp(h LA / nFRT c )(9.7)
2 1
电结晶形核过程的规律
1、只有当阴极极化达到一定值时(即阴极电 位达到析出电位时), 晶核的形成才有可能。 2、过电位 c 越高,晶核临界半径 r临界 越小, 形核速度 越大。 3、过电位 c 越高,晶核数量越多,沉积层越 细致。
(从难放电的络离子形式转变为易放电的络 离子形式。)
2、金属络离子阴极还原机理
• 例如:氰化镀锌溶液中存在两种络合剂, NaCN 、NaOH 其阴极还原过程如下:
2 Zn(CN ) 2 4 OH Zn ( OH ) 4 CN 配位体交换 4 4 Zn(OH ) 2 Zn ( OH ) 2 OH 4 2 Zn(OH ) 2 2e Zn(OH ) 2 2吸附 Zn(OH ) 2 Zn 2 OH 2吸附 晶格中
电结晶形核理论
• 如果阴极过电位很高,使
G1 G2
• 或金属原子在已有的金属面上继续电沉积, 因
1 3, 2 0
• 则 可简化为: (9.4)
2 Gc h1 A / nFc
(9.5)
电结晶形核理论
应用电化学-4-1-金属电沉积和电镀原理讲课教案
3. 电镀层的分类
(1)按电镀层的用途分类:
防护性镀层 防护性镀层用途最广,其主要目的是对基体的防护,
耐磨、防腐是其主要目的。例如: 罐头合内表面镀锡; 电器零件镀锌彩色钝化;水管电镀锌等。
防护-装饰性镀层
大多数情况下不仅需要对基体进行防护,同时还要 求有一定的装饰功能,这种镀层兼有防护和装饰双重功能, 且装饰为主要目的,如:
ห้องสมุดไป่ตู้
目前国内外主要的电镀专业刊物: 专业刊物有:电镀与环保;电镀与精饰;表面处理等;
近年来由于电镀技术也广发应用于各种材料的修饰,复合 材料的制备等,因此一些电镀的论文也发表在和相应材料 有关的杂志上或相应学科杂志上。如和催化有关的则在催 化方面杂志上;和纳米材料有关的则在纳米材料相关杂志 上。
与电镀相关的一些专著
Cs Ba La Hf Ta W Re Os Ir Pt Au Hg Tl Pb Bi Po At Rn
水溶液中可能电沉积
络合物电解液可以电沉积
非金属
2. 单金属离子的还原
1) 简单盐金属离子的还原 2) 络合物电解液中金属离子的还原
1) 简单金属离子的还原
在电镀工艺中被沉积金属的盐类称为主盐。 主盐可由简单盐、复盐和络盐担任。 当用简单盐或复盐配制电解液时,能够电离出简单金属 离子,故称为简单盐电解液。
阴极性镀层 当镀层与基体金属形成腐蚀电池时,镀层因电位比基体更
正,基体金属首先受到腐蚀溶解,这时镀层为阴极性镀层。 阴极性镀层仅能对基体起到机械保护作用,不能起到电化
学保护作用,如:
铁上镀Sn: Sn2 /Sn -0.14V Fe2 /Fe -0.44V ?
形成腐蚀电池时,Sn为阴极,Fe为阳极
自行车轮镀铜镍铬; 吊灯等灯具电镀仿金镀层或仿银镀层; 仪器仪表盘装饰性电镀缎面镍;
电化学原理习题课-资料
(+) Ag eAg
02.3F RT lo1g0 (.4)0 02.3F RT lo1g0 (.7)2
E 2 .3 R[T l1 o 0 .4 g) 0 (lo 0 .1 g 0 .7 () 2 0 .0V 44 F
设计电池时要写对电池组。
0(P|S t 2 n , S4 n)0.15 V4
E 0 0 ( P |F 3 , t F 2 e ) 0 e ( P |S 2 , t S n 4 ) n 0 . 7 0 . 1 7 0 . 5 6 1 V 4 1
所以,E E 0 2 .3 RlT o c S2 g n c F 23 e 0 .6 1 0 .0 75 lo 0 9 .0 g 1 0 (0 .0 1 )21 0 .6V 5
2 F cc 2 S4 n F 2 e
2 0 .0 ( 1 0 .0)2 01
问题:
2.3RT
① 200C时, F 0.0581 250C 时,2.3RT 0.0591
同时第6章习题F4也有类似情况。
②能斯特方程“+”“-”号, 平衡电位——氧化态、还原态 电动势——反应物、生成物
③活度计算公式
所以电极表面带正电。 ①当电极在零电荷电位时电极表面无双电层结构,界面层
中正负离子浓度相等,电位为0,如下图所示。
0
C+=C—
a 0
X
X
②电极在平衡电位时,其双电层结构示意图和双电层内离 子浓度分布与电位分布图如下图。
a
a 1
注意:①画图紧密层厚度为d; ②外电位写法为ψ1 ,而不是φ1。
子平均活度系数 0.544
电化学第九章_金属的电沉积过程
讨论:络合物不稳定常数越小, 平衡电位下降越多;而平衡电位越负, 还原反应越难进行。
2、金属络离子阴极还原机理
(1)金属络离子的存在形式: 在络盐溶液中,金属以简单金属离子到具 有不同配位数的各种络离子都有,其浓度 也不相同。
2、金属络离子阴极还原机理
(2)配位数较低、浓度适中的络离子在电极 上得到电子而还原。 原因:配位数低,还原所需的能量小; 浓度适中,才能有一定的量。
金属元素在周期表中的位置愈靠右边,化学 活泼性越弱,还原的可能性越大。
一、金属离子从水溶液中阴极还原的 可能性
0 1.5V 铬分族
一、金属离子从水溶液中阴极还原的 可能性
4、分析金属离子能否沉积时,还应考虑以下 因素:
①金属以络离子存在时,其平衡电位会明显 负移,还原更加困难。
例如:铁、钴、镍以水溶液形式存在时,可 在阴极还原;而以络盐形式存在时,不能 在阴极还原。
2、金属络离子阴极还原机理
(3)当有两种络合剂存在,而一种络离子 又比另一种络离子容易放电,则在表面转 化步骤之前,还要经过不同类型配位体的 交换过程。
(从难放电的络离子形式转变为易放电的络 离子形式。)
2、金属络离子阴极还原机理
• 例如:氰化镀锌溶液中存在两种络合剂, NaCN、NaOH 其阴极还原过程如下:
化学动力学参数可能不同。
§9.2 金属阴极还原过程
一、金属离子从水溶液中阴极还原的可能性 二、简单金属离子的阴极还原 三、金属络离子的阴极还原
一、金属离子从水溶液中阴极还原的 可能性
1、某金属在阴极析出的必要条件: 阴极的电位负于该金属在该溶液中的平
衡电位,并获得一定过电位。
一、金属离子从水溶液中阴极还原的 可能性
电化学原理
第 一 章 绪论
§1.1电化学科学的研究对象 §1.2电化学科学的发展简史 §1.3电化学科学涉及的领域 §1.4电化学科学的应用
§1.1 电化学科学的研究对象
• 研究对象: 电子导电回路 电解池回路 原电池回路
1、电子导电回路
• 自由电子跨越相界面 定向运动,不发生化 学变化。
• 第一类导体: 依靠自由电子导电 金属、合金、石墨
阴极上因为还原反应使电子贫乏,电位高,是 正极。
电流从正极流向负极。
电化学中:
发生氧化反应的电极称阳极
负极
正极
发生还原反应的电极称阴极
电极电位较高的电极是正极
电极电位较低的电极是负极
4、电化学科学的研究对象
电子导电相(物理学研究范畴) 离子导电相(经典电化学研究的领域) 界面效应(现代电化学研究内容)
二、电化学发展缓慢(20世纪上半叶) 电化学家企图用热力学方法解决一切电化学
问题,遭到失败。
三、电化学动力学发展( 20世纪40年代)
弗鲁姆金等 析氢过程动力学
和双电层结构研究取得进展
格来亨
用滴汞电极研究两类导体界面
电化学动力学:研究电极反应速度及其影响因素
四、理论和实验技术突破性进展( 20世纪60年代) 理论方面:非稳态传质过程动力学 表面转化步骤 复杂电极过程 实验技术方面:界面交流阻抗法 暂态测试方法 线性电位扫描法 旋转圆盘电极系统
对于溶液中的离子,其电化当量即该离子的摩尔质量 与其电荷数的比值,如1电化当量的Ag+=108g;1电化 当量的Al3+=27/3g。
§1.2 电化学科学的发展简史
一、电化学热力学发展(1799~1905)
1799 物理学家伏打发明第一个化学电源 1800 尼克松发明电解水 1833 法拉第定律发现 1870 亥姆荷茨提出双电层概念 1889 能斯特提出电极电位公式 1905 塔菲尔提出塔菲尔公式
电沉积
电沉积是指简单金属离子或络合金属离子通过电化学途径在材料表面形成金属或合金镀层的过程。
电沉积的应用范围广泛,在材料科学技术(一级学科);材料科学技术基础(二级学科);材料合成、制备与加工(二级学科);表面改性和涂层技术(二级学科)等学科中都有研究。
电沉积主要分为两个方面,分别是;(一)金属或合金从其化合物水溶液、非水溶液或熔盐中电化学沉积的过程;(二)电泳涂漆中的一个过程,在直流电场作用下带电荷的树脂粒子到达相反电极,通过放电(或得到电子)析出不溶于水的漆膜沉积在被涂物表面。
对电沉积现象的研究主要分为两个方面,分别是对电沉积形态的研究和对电沉积引起的晶格畸变的研究。
对电沉积形态的研究主要有电沉积中结晶形态控制技术[1]与合金薄层电沉积形态研究[2]等。
前者将分形几何引入到电化学中,基于DLA模型,通过将沉积粒子设置不同的沉积几率,成功模拟了射流电沉积中枝晶的可控交织生长,后者以铅锡合金为例,研究铅锡合金薄层电沉积物的形态及其形态随电解液含不同铅锡离子浓度的转变。
对电沉积引起的晶格畸变现象的研究,包括电沉积引起的位错现象与电沉积引起的孪晶现象的研究。
在电沉积过程中,不同工艺操作条件会使金属镀层产生内应力,同时产生大量位错[3]。
在电沉积的过程中也会产生孪晶。
分析表明,孪晶现象的产生会提高金属的力学能力,产生高强度金属材料[4-6]。
对电沉积的应用有电镀、电沉积塑性等。
其中,电沉积银在工业中得到了广泛的应用。
对电沉积银的研究包括对电沉积银的生长过程研究[7]、以及使用电沉积法制备新型发泡银催化剂[8]。
[1]田宗军,王桂峰,沈理达,刘志东,黄因慧.电沉积中结晶形态控制技术[J].创新交流.2011.(3):29-35.[2]杜燕军,尹志刚,夏同驰.铅锡合金薄层电沉积形态研究[J].电化学.2007.13(3):312-315.[3]赵祖欣.镍镀层内应力及镍镀层中的位错[J].表面技术.1992.21(5).205-207.[4]朱未. 超高强度高导电性的纳米孪晶纯铜[J].华通技术.2006.(1):42.[5]卢磊,卢柯.纳米孪晶金属材料[J].金属学报.2010.46(11):1422-1427.[6]卢磊,陈先华,黄晓旭,卢柯.纳米孪晶纯铜的极值强度及纳米孪晶提高金属材料综合强韧性[J].中国基础科学.2010.(1):16-18.[7] C. H. Siah,N. Aziz, Z. Samad,N. Noordint, M. N. Idris and M. A. Miskam.FUNDAMENTALS STUDIES OF ELECTRO~SILVER PLATING PROCESS[J].Proceedings of the 18th Symposiwn ofMalaysian Chemical Engineers:424-428.[8]李宝山,牛玉舒,翟玉春,全明秀,胡壮麒.电沉积法制备新型发泡银催化剂.石油化工.2000.29(12):910-913。
金属的电沉积过程
北京科技大学电化学理论结业论文金属的电沉积过程学院:姓名:学号:邮箱:电话:金属的电沉积过程摘要:文章介绍了金属电沉积的基本历程和特点,简单说明了金属的阴极还原过程,探讨了简单阴离子、络离子和有机活性物质对此过程的影响,并讨论了金属的电结晶过程,简单分析了金属电沉积层的形态结构与性能,简要介绍了研究金属电沉积的方法。
关键词:金属电沉积;阴极还原;电结晶;镀层;0 引言金属的电沉积是通过电解方法,即通过在电解池阴极上金属离子的还原反应和电结晶过程在固体表面生成金属层的过程。
其目的是改变固体材料的表面性能或制取特定成分和性能的金属材料。
金属电沉积应用的领域也很广泛,通常包括电冶炼、电精炼、电铸和电镀四个方面,它的这些应用使其受到了越来越多的关注,因此,研究并掌握电沉积过程的基本规律变得尤为重要。
1金属电沉积的基本历程和特点1.1 金属电沉积的基本历程金属沉积的阴极历程,一般由以下几个单元步骤串联组成:(1)液相传质:溶液中的反应粒子,如金属水化离子向电极表面迁移。
(2)前置转化:迁移到电极表面附近的反应粒子发生化学转化反应,如金属水化离子水化程度降低和重排;金属络离子配位数降低等。
(3)电荷传递:反应粒子得电子,还原为吸附态金属原子。
(4)电结晶:新生的吸附态金属原子沿电极表面扩散到适当位置(生长点)进入金属晶格生长,或与其他新生原子聚集而形成晶核并长大,从而形成晶体。
上述各个单元步骤中反应阻力最大、速度最慢的步骤则成为电沉积过程的速度控制步骤。
不同的工艺,因电沉积条件不同,其速度控制步骤也不同。
1.2 金属电沉积过程的特点电沉积过程实质上包括两个方面,即金属离子的阴极还原(析出金属原子)的过程和新生态金属原子在电极表面的结晶过程(电结晶)。
前者符合一般水溶液中阴极还原过程的基本规律,但由于电沉积过程中,电极表面不断生成新的晶体,表面状态不断变化,使得金属阴极还原过程的动力学规律复杂化;后者遵循结晶动力学的基本规律,但以金属原子的析出为前提,又受到阴极界面电场的作用。
电化学原理-第九章节-金属的电沉积过程
电镀金和银广泛应用于珠宝、饰品、电子等领域,作为装饰材料 和导电材料。
金和银电镀的优缺点
金和银电镀具有高贵典雅的外观和良好的导电性,但成本较高, 且银易氧化变色。
电镀镍和钴
镍和钴的电沉积原
理
通过电解液中的镍或钴离子在阴 极上还原成金属单质,实现镍或 钴的电沉积。
应用场景
电镀镍和钴广泛应用于汽车、机 械、航空航天等领域,作为防护 涂层和耐磨涂层。
络合剂
02
03
阴离子
络合剂的存在可以稳定金属离子, 影响其在电极表面的沉积行为。
阴离子的种类和浓度也会影响金 属的电沉积过程,例如氯离子可 以促进金属的沉积。
电极的材质和表面状态
电极材质
不同电极材料的电化学性质不同,会影响金 属的沉积过程。
电极表面粗糙度
电极表面粗糙度对金属的电沉积过程有显著 影响,粗糙度越高,电沉积速率越快。
镍和钴电镀的优缺
点
镍和钴电镀具有优良的耐磨、耐 腐蚀性能,但镍易形成氢脆,钴 价格较高。
07
电沉积的未来发展
高性能电沉积材料的开发
总结词
随着科技的不断进步,高性能电沉积材料的开发已成为未来发展的重要方向。
详细描述
目前,科研人员正在研究新型的高性能电沉积材料,如纳米材料、合金材料等, 这些材料具有更高的强度、硬度、耐腐蚀性和导电性等特性,能够满足更广泛的 应用需求。
在这个过程中,电流通过电解液中的 离子传输到电极上,并在电极上还原 成金属原子,这些原子随后在电极表 面沉积形成金属层。
金属电沉积的应用
在电子制造中,金属电沉积被用 于制造导线和电路板,以及在半 导体器件上形成金属电极。
在电镀中,金属电沉积可用于将 金属涂层沉积到各种基材上,如 钢铁、铜、铝等,以提高其美观 性和耐久性。
电化学沉积技术的操作流程与实例分析
电化学沉积技术的操作流程与实例分析电化学沉积技术是一种利用电化学反应过程,在导电基板上沉积金属或合金的方法。
它在电子行业、材料科学和工程领域被广泛应用。
本文将介绍电化学沉积技术的操作流程,并通过实例分析加深对该技术的理解。
1. 操作流程:电化学沉积技术通常包括以下步骤:准备工作、电解质溶液制备、基板处理、沉积操作和后处理。
1.1 准备工作:在进行电化学沉积之前,需要准备好所有需要的设备和材料。
这包括电解槽、电源、阳极和阴极等。
1.2 电解质溶液制备:选择适当的电解液以及添加剂,根据所需沉积材料的特性和要求,计算出合适的溶液浓度。
然后将电解质溶液充分搅拌,确保各种组分均匀混合。
1.3 基板处理:将基板进行清洗和去氧化处理,以去除表面污垢和氧化物,保证沉积层与基板之间的结合强度。
常用的基板处理方法包括机械研磨、超声清洗和化学清洗等。
1.4 沉积操作:将处理好的基板放入电解槽中,使其成为沉积的阴极。
将阳极和阴极连接到电源上,并将电解质溶液倒入电解槽中。
通过调节电源参数(如电流密度、电位、沉积时间等),控制沉积速率和沉积层的性质。
1.5 后处理:将沉积完毕的样品取出,用纯水洗净以去除残留的电解质和其他杂质。
根据实际需要,可以进一步进行热处理、机械处理或涂层等后续工艺。
2. 实例分析:以镀金工艺为例,介绍电化学沉积技术的应用过程。
2.1 准备工作:准备电解槽、电源、阳极(金块)和阴极(铜基板)等设备和材料。
2.2 电解质溶液制备:选择适当的盐酸金溶液作为电解质,并添加适量的硫酸铜。
根据金属沉积层的要求,计算出合适的盐酸金浓度和溶液配比。
2.3 基板处理:将铜基板进行机械研磨、超声清洗和化学清洗等步骤,确保表面清洁无污染。
2.4 沉积操作:将处理好的铜基板作为阴极,金块作为阳极,连接到电源上。
将电解液倒入电解槽中。
根据所需镀金层的厚度和质量要求,调节电流密度和沉积时间,控制沉积层的均匀性和光亮度。
2.5 后处理:将镀好的金层取出,用纯水洗净并晾干。
电沉积法制备金属薄膜的实验步骤与操作
电沉积法制备金属薄膜的实验步骤与操作电沉积法是一种常用于制备金属薄膜的方法,它通过在电解液中施加电流,使金属离子在电极上沉积形成金属薄膜。
这种方法简单方便,操作灵活,可以用于制备不同金属薄膜,如铜薄膜、镍薄膜等。
下面将介绍电沉积法制备金属薄膜的实验步骤和操作。
首先,准备实验所需材料和器材。
需要准备的材料包括所需金属盐溶液、正极和负极电极片,电解液,以及实验所需的容器、电源等。
材料准备完毕后,进行实验台面的清洁和消毒,确保实验环境的干净和卫生。
接下来,准备电解液。
根据需要制备的金属薄膜类型选择相应的电解液。
一般情况下,电解液由金属盐和溶剂组成。
根据实验需求,可以选择不同的金属盐,如氯化铜、硫酸铜等。
将适量的金属盐溶解在溶剂中,搅拌均匀,使金属盐完全溶解。
然后,准备电极。
正极电极一般选择金属片或导电材料制成,负极电极可以选择不导电材料。
通过对电极进行清洗和消毒,确保表面干净无杂质,以便电解液中的金属离子能够在电极上充分沉积。
接下来,安排电解槽和电源。
将电解液倒入电解槽中,确保液面高度适中,以免过高或过低影响实验效果。
然后,将正负极电极片分别插入电解槽中,并调整电解槽内电极间的距离。
接着,将电解槽与电源连接,确保电极片与电源连接牢固。
然后,调整电流和电解时间。
根据实验的要求和电解液的特性,确定适宜的电流和电解时间。
调整电流的大小可以通过调节电源上的电流旋钮实现,而电解时间可以通过电源上的计时器设定。
最后,开始实验。
打开电源,让电流通过电极,使金属离子在电极上沉积形成金属薄膜。
在实验过程中,要密切观察电极表面的变化,控制电流的稳定性和均匀性。
一般情况下,电流稳定在合适的范围内,可使金属薄膜均匀沉积,且具有良好的质量和附着性。
实验结束后,关闭电源,取出电极。
将电极用溶剂清洗,以去除薄膜表面的杂质和溶液残留。
然后,将电极置于清洁干燥的容器中保存,以免薄膜受到污染或氧化。
综上所述,电沉积法制备金属薄膜的实验步骤包括准备材料和器材、准备电解液、准备电极、安排电解槽和电源、调整电流和电解时间,以及进行实验操作。
电沉积的分
电沉积是指金属或合金从其化合物水溶液、非水溶液或熔盐中电化学沉积的过程。
是金属电解冶炼、电解精炼、电镀、电铸过程的基础。
这些过程在一定的电解质和操作条件下进行,金属电沉积的难易程度以及沉积物的形态与沉积金属的性质有关,也依赖于电解质的组成、pH值、温度、电流密度等因素。
电沉积过程中非常关键的步骤是新晶核的生成和晶体的成长,这两个步骤的竞争直接影响到镀层中生成晶粒的大小,其决定的因素是由于吸附表面的扩散速率和电荷传递反应速率不一致造成的。
如果在阴极表面具有高的表面扩散速率,由于较慢的电荷传递反应引起的少量吸附原子以及低的过电势将有利于晶体的成长;相反,低的表面扩散速率和大量的吸附原子以及高的过电势,都将增加成核速率。
研究表明,高的阴极过电势、高的吸附原子总数和低的吸附原子表面迁移率是大量形核和减少晶粒生长的必要条件[1] 。
脉冲电沉积脉冲电沉积过程中,除可以选择不同的电流波形外,还有三个独立的参数可调,即脉冲电流密度、脉冲导通时间和脉冲关断时间。
采用脉冲电沉积时,当给一个脉冲电流后,阴极-溶液界面处消耗的沉积离子可在脉冲间隔内得到补充,因而可采用较高的峰值电流密度,得到的晶粒尺寸比直流电沉积的小。
此外,采用脉冲电流时由于脉冲间隔的存在,使增长的晶体受到阻碍,减少了外延生长,生长的趋势也发生改变,从而不易形成粗大的晶体。
电沉积纳米晶较多采用脉冲电沉积法,所用脉冲电流的波形一般为矩形波。
脉冲电沉积与直流电沉积相比,更容易得到纳米晶镀层。
脉冲电沉积可通过控制波形、频率、通断比及平均电流密度等参数,从而可以获得具有特殊性能的纳米镀层。
喷射电沉积喷射电沉积是一种局部高速电沉积技术,由于其特殊的流体动力学特性,兼有高的热量和物质传递速率,尤其是高的沉积速率而引人注目。
电沉积时,一定流量和压力的电解液从阳极喷嘴垂直喷射到阴极表面,使得电沉积反应在喷射流与阴极表面冲击的区域发生。
电解液的冲击不仅对镀层进行了机械活化,同时还有效地减少了扩散层的厚度,改善了电沉积过程,使镀层组织致密,晶粒细化,性能提高。
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⑵阴极还原产物不是纯金属而是合金有利于还原 反应的实现。
⑶在非水溶液中,由于各种溶剂性质不同于水, 往往在水溶液中不能阴极还原的某些金属元素, 可以在适当的有机溶剂中电沉积出来。
⑷电沉积层的质量
3、溶剂对金属电化学性质的影响
表9-2金属在水和某些有机溶液中25℃时的标准电极电位(V) 电极 Li|Li+ K|K+ Na|Na+ Ca|Ca2+ Zn|Zn2+ Cd|Cd2+ Pb|Pb2+ H|H+ Ag|AgCl,ClCu|Cu2+ Hg|Hg2+ Ag|Ag+ H2O -3.045 -2.925 -2.714 -2.870 -0.763 -0.402 -0.129 0 0.222 0.337 0.789 0.799 CH3OH -3.095 -2.925 -2.728 --0.74 -0.43 -0 -0.010 --0.764 C2H5OH -3.042 --2.657 ----0 -0.088 ---N2H4 -2.20 -2.02 -1.83 -1.91 -0.41 -0.10 0.35 0 --0.77 -CH3CN -3.23 -3.16 -2.87 -2.75 -0.74 -0.47 -0.12 0 --0.28 -0.23 HCOOH -3.48 -3.36 -3.42 -3.20 -1.05 -0.75 -0.72 0 --0.14 0.18 0.17
⑵新生态金属原 子在电极表面的 结晶过程(电结晶)
因此,二者相互依存、相互影响,造成了金属电沉积过程的复 杂性和不同于其他电极过程的一些特点。
2、金属电沉积过程的特点 ⑴与所有的电极过程一样,阴极过电位是电沉积过程进行的动
力。
①在电沉积过程中,金属的析出需要一定的阴极过电位,即只 有阴极极化达到金属析出电位时才能发生金属离子的还原反应。
⑶沉积层的结构、性能与电结晶过程中新晶粒的生长方式和 过程密切相关,同时与电极表面(基体金属表面)的结晶状态密切 相关。
9.2金属的阴极还原过程
9.2.1金属离子从水溶液中阴极还原的可能性
1、在水溶液中金属离子阴极还原的可能性
⑴电解液中金属络离子使金属离子的还原更加困难
2、在分析金属 离子能否沉积 的规律时,应 考虑的问题
②在电结晶过程中,在一定的阴极极化下,只有达到一定的临 界尺寸的晶格,才能稳定存在。凡是达不到临界尺寸的晶核就会重 新溶解。而阴极过电位愈大,晶核生成功愈小,形成晶核的临界尺 寸才能减小,这样生成的晶核既小又多,结晶才能细致。
⑵双电层的结构,特别是粒子在紧密层中的吸附对电沉积过程 有明显影响。反应粒子和非反应粒子的吸附,即使是微量的吸附, 都将在很大程度上既影响金属的阴极析出速度和位置,又影响随后 的金属结晶方式和致密性,因而是影响镀层结构和性能的重要因素 。
9.1.1金属电沉积的基本历程
⑴液相传质 溶液中的反应粒子向电极表面迁移。
⑵前置转化 迁移到电极表面附近的反应粒子发生 化学转化反应,如金属水化离子水化程度降低和重 排;金属络离子配位数降低等。 ⑶电荷传递 反应粒子得电子、还原为吸附态金属原子。 ⑷电结晶 新生的吸附态金属原子沿电极表面扩散 到适当位置(生长点)进入金属晶格生长,或与其他 新生原子集聚而形成晶核并长大,从而形成晶体。
第9章 金属的电沉积过程
金属的电沉积是通过电解方法,即通过在电解池阴极上金属离 子的还原反应和电结晶过程,在固体表面生成金属层的过程。目的 是改变固体材料的表面性能或制取特定成分和性能的金属材料。
电冶炼
金属电沉积 的应用领域 电精炼
电铸
电镀
本章将阐述金属从水溶液中电沉积的基本理论。
9.1金属电沉积的基本历程和特点
金属电沉积 的阴极过程
9.1.2金属电沉积过程的特点
1、电沉积过程包括两个方面: ⑴金属离子的阴极还原 (析出金属原子)的过程
符合一般水溶液中阴极还原过程的 基本规律,但由于在电沉积过程中, 电极表面不断生成新的晶体,表面 状态不断变化,使得金属阴极还原 过程的动力学规律复杂化; 遵循结晶过程的动力学基本规律,但 以金属原子的析出为前提,又受到阴 极界面电场的作用。
n
9.2.3金属络离子的阴极还原
1、络合物对金属电极的平衡电位的影响
络合物平衡电极电位的变化不仅可以测量出来,而且可以通过 热力学公式(能斯特方程)计算出来。 g C N 0 R T A 2 A g C N eA g 2 C N l n 2 n F 2 A g C N / A g 2 C N
0 R T A ge A g l n n F A g / A g A g
g C N k 2 稳 2 *
A g C N
C A g N
0 R T A l n n F g C N / A g
9.2.2简单金属离子的阴极还原
简单金属离子在阴极上的还原历程遵循金属电沉积基本历程。
M . m H O n eM m H O 2 2
(1)简单金属离子在水溶液中都是以水化离子形式存在的。金 属离子在阴极还原时必须首先发生水化离子周围水分子的重排和水 化程度的降低,才能实现电子在电极与水化离子之间的的跃迁,形 成部分脱水化膜的吸附在电极表面的所谓吸附原子。计算和试验结 果表明,这种原子还可能带有部分电荷,因而也有人称之为吸附离 子。然后,这些吸附原子脱去剩余的水化膜,成为金属原子。 (2)多价金属离子的阴极还原符合多电子电极反应的规律,即 电子的转移是多步骤完成的,因而阴极还原的电极过程比较复杂。
2
A g C N
2 2 C N
0 R T 2 l n 2 F A g C N/ A g n
g A g C N A
A C N g
2
0 0 R T R T R T l n k l n l n F F F 稳n A g A g/ A g n A g A g C N/ A g n