真空镀膜期末复习资料

1、真空度可以划分为那些区？

2、目前获得真空的泵有那些，它们各有些什么特征，能达到什么级别的真空度。分子泵使用中应注意哪些问题？

3、分子泵和机械泵的工作初始压强是多少，他们的极限气压是多少？

4、常用的真空计有那些？

5、什么是质量流量控制器，它在真空镀膜中是什么作用？Sccm是气体流量的单位，它表示的意思是什么？

6、目前我们通常使用的基片材料有哪些？它们的光学性质有何不同？

7、如果我们要使用单晶的基片，你可以说出哪些？

8、基片的实验室清洗方法是如何清洗的？对于工业生产中，基片清洗的流程是怎样？

9、热蒸发制备薄膜的优缺点有哪些？

10、激光沉积制备薄膜的优缺点有哪些？

11、如何选择蒸发镀膜时的蒸发源？

12、要镀两种金属的混合膜，你需要考虑哪些问题，如何做才能得到较好的结果？

13、为什么说电阻热蒸发的膜叫“软膜”，而电子束蒸发制备的膜叫“硬膜”。

14、热蒸发镀膜过程中，蒸发粒子的平均动能大致多少？

15、热蒸发薄膜过程中，蒸发的粒子沉积到基板上要经历哪些过程？

16. 描述溅射产额？溅射率和沉积率的区别？

17. 解释溅射的物理过程。

18. 分别解释阴极溅射、三极溅射、磁控溅射、偏压溅射、非平衡磁控溅射、离子束溅射、射频溅射和反应溅射。

19. 溅射沉积的优点是什么？溅射适合于合金沉积吗？

20. 描述RF溅射系统？什么是它的主要限制？

21. 讨论磁控溅射系统是怎样提高沉积速率的？

22、靶中毒是什么意思？如何避免？

23、离子镀膜与离子束溅射的概念上是什么区别？

24、离子镀膜、热蒸发和溅射镀膜比较，它们中粒子离开源材料的能量大小、制备膜与基片的附着性能及应力等方面的区别？

25、离子镀膜有哪些优点？

26、为什么离子镀制备薄膜与基片的附着性能好？

27、分子束外延镀膜需要哪些最基本的条件？MBE目前主要有哪些应用？

28、什么叫化学气相沉积（CVD），CVD制备薄膜与物理物理方向制备薄膜相比，有何优缺点？

29、CVD装置主要包括哪些主要部分。

30、画出低压、常压CVD实验装置见图。

31、CVD镀膜技术可以有哪些分类。

32、阳极氧化实验中是否需要电源？化学方法制备多孔氧化铝模板是采用那种化学技术？

33、溶胶凝胶法制备薄膜可以分为提拉法和旋转涂法，分别说明这两

种方法制备薄膜的过程，以及其优缺点有哪些？

34、简述LB膜技术制备薄膜的过程。LB膜有什么主要特点。

35、根据金属薄膜的特性，在光学领域中，有那些常用的金属薄膜材料，它们各有什么特性？通常使用在那些场合？

36、作为光学薄膜的介质和半导体材料应当考虑那些因素？介质膜和半导体材料的光学性能主要区别有什么？

37、作为光学薄膜的介质和半导体材料你能写出几种，它们的特性有那些？

38、光学薄膜的折射率与材料的那些因素相关？什么是正常色散和反常色散？请写出柯希色散公式。

39、基片温度高低对物理气相沉积薄膜的结构有何影响？

40、在溅射镀膜中，若沉积时气压增大，则沉积速率如何变化？制备膜的密度如何变化？为什么？

41、物理气相沉积中，什么是沉积薄膜的阴影效应？

42、退火和老化对薄膜的特性有重要影响，正常情况下，退火对膜的结构会发生哪些作用？

43、有哪些方法测量基片温度，这些方法分别有哪些优缺点？