杂质谱分析模板的整理
塞来昔布合成工艺及杂质谱分析
英文化学名 4-[5-(3-Methylphenyl)-3-(trifluoromethyl)-1H-pyrazol-1-
结构式
yl]benzenesulfonamide. CH3
分子式 分子量 CAS.NO.
C17H14F3N3O2S 381.37 170570-01-1
N
S NH2
N
OO
F3C Celecoxib杂质A
H3C
O
O
Hale Waihona Puke H2C C C CF3H2NO2S
NHNH2.HCl
O H2N S
O
H3C
NN CF3
OH
5、降解产物
C17H14F3N3O3S=397.36
End
分子结构
分子式 分子量
C6H9N3O2S.HCl 223.68
CAS 登录号 17852-52-7
物化性质 土黄色或红棕色鳞片状晶体。熔点 217-219℃。
2、中间体--三氟甲苯丁二酮
英文名 别名
产品名称
分子结构
l-(4-Methylphenyl)-4,4,4-trifluorobutane-1,3-dione
C17H14F3N3O2S 381.37 331943-04-5
N N F3C
Celecoxib杂质B
NH2 S
OO
4、副产物-1
通用名 3-三氟甲基-5-(4-甲基苯基)吡唑
其他名 塞来昔布副产物
中文化学名 3-三氟甲基-5-(4-甲基苯基)吡唑
H3C
O
O
CH3ONa
C CH3 + CH3CH2O C CF3
间甲基苯乙酮，邻甲基苯乙酮
色氨酸杂质整理总结文档
10mg-25mg50mg-100mg
Tryptophan 色氨酸杂质2（色 Impurity 2 氨酸EP杂质B） （Tryptophan EP
Impurity B）
2122S
184955-21- 10mg-25mg-
3
50mg-100mg
Tryptophan 色氨酸杂质3（色 Impurity 3 氨酸EP杂质C） （Tryptophan EP
Tryptophan Impurity 14（rac-
Tryptophan EP Impurity K）
21214S
N/A
10mg-25mg50mg-100mg
色氨酸杂质15
Tryptophan Impurity 15
21215S
54-16-0
10mg-25mg50mg-100mg
色氨酸杂质16
Tryptophan Impurity 16
Impurity H）
2125S
6052-68-2
10mg-25mg50mg-100mg
Tryptophan 色氨酸杂质6（色 Impurity 6
氨酸EP杂质I） （Tryptophan EP Impurity I）
2126S
5470-37-1
10mg-25mg50mg-100mg
色氨酸杂质7
Tryptophan Impurity 7
J）
Tryptophan Impurity 11 （Tryptophan EP Impurity J）
21211S
N/A
10mg-25mg50mg-100mg
色氨酸杂质12 （色氨酸EP杂质
K）
Tryptophan Impurity 12 （Tryptophan EP Impurity K）
3.2.P.5.5杂质谱分析模板的整理
3.2.P.5.5杂质谱分析模板的整理格式模板首先列出产品的杂志谱列表，比如：****产品杂质情况分析表反应过程的描述：1、详细的反应方程式，包括结构式，反应温度，所有试剂，助剂，溶剂，催化剂等。
2、结合CTD资料的其他部分，对物料控制进行说明，包括起始物料、其他原料、溶剂、辅料（活性炭，硅藻土，硅胶等。
）。
3、起始物料说明。
起始物料符合广泛、易得、质量稳定，适合保存运输等的原则；还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究，同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。
比如头孢克洛，要对起始物料7-ACCA的工艺、杂质控制和质量情况进行详细的说明。
4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据，比如头孢克洛的起始物料7-ACCA的关键杂质△异构体，结合工艺和实验数据，说明杂质产生来源，分布，控制策略等。
第2、3、4内容可以在CTD的其他部分，比如物料说明部分进行。
但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。
5、关于ICH的杂质鉴定、报告和质控限度：主要参考ICHQ3A（R2）到ICHQ3D的相关规定2 克/天结合上述反应过程对杂质谱进行分析，主要分起始物料引入杂质，反应杂质，降解杂质等。
第一部分：起始物料引入的杂质分析（比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 引入的杂质）N SOH OONO 2OH N OC 22H 19N 3O 7S MW: 469.47NON OH SOOK C 16H 17KN 2O 4S MW: 372.48Br2+NON OH SOONO 2C 23H 23N 3O 6S MW: 469.51C 7H 6BrNO 2MW: 216.03PAA22N OH NOH S OONO 2OC 23H 23N O S MW: 485.51TMP toluene N S NH HOOO23H 21N 3O 5S N S N H HOH OO2OC 22H 19N 3O 6S MW: 453.47CH 2Cl 2/CH 3OHO 3, TMPCH 2Cl 2/TEBAC TsClmorpholineN S N HHN OONO 2OOC 26H 26N 4O 6S MW: 522.571) Br 2-pyrindineCH 2Cl 2N SCl OO2O2NC 14H 1235MW: 406.00HClHCl 1) (PhO)3P/CH 2Cl 22) N,N-dimethyl aniline, PCl 5 i BuOHNa 2S 2O 42N SOHOCl OH 2NH C 7H 7ClN 2O 3S MW: 234.661、 无机杂质：说明引入情况和消除渠道；以及相关的控制方法和标准以及依据。
原棉杂质分析实验数据汇总
原棉杂质分析实验数据汇总
对原棉杂质分析实验，我们现在要总结以下实验结果。
原棉采取了十二种不同的样本分析，这些样本按细度分为细中粗三个等级，从
粗细度比较细者即为P1到比较粗者即为P12，细度上分别有杂质含量、杂质重量
测定，粗杂质的不同种类也有测算棉及其他物料的比例。
根据实验结果，我们可以得出以下几个要点：
1.各个样本的杂质含量均高于标准规定，且其中P3、P4、P5、P7、P8、P9、P10、
P11、P12杂质含量偏高；
2.杂质重量以P7样本中最高，而P8样本中最低，以P7为原棉含杂量最多，以P8
为最低；
3.从原棉大小粗细度对比来看，随着细度的提高，杂质含量也越来越低，P11、P12处于较高位置；
4.杂质分析结果中，棉籽的含量最多，玉米籽簇、蒜头、杂草、杂质破损的棉絮等占主要比例。
综合上述实验结果，我们确定原始棉质量及其杂质含量超标情况。
此外，粗细
度对杂质含量也有明显影响，分析中发现，棉籽、玉米籽簇、蒜头、杂草及小麦等是棉原纤维的主要杂质。
综上所述，完整的原棉杂质分析实践也为我们的原棉分析提出了正确的方向，
有效地识别原棉中杂质种类、性能和含量，根据实验数据与标准分析对比，我们可以合理控制原棉质量及各个粗度杂质含量，保证质量，提高棉纤维材料的加工价值。
丙烯中微量烃类杂质的色谱分析
质量与检测40 | 2019年4月主导毒性气体；窗帘释放烟气中盐酸是主导毒性气体。
在11种毒性气体中，CO 2浓度是最高的。
材料燃烧8min 时释放出来的毒性气体远超过4min 时释放的毒性气体。
材料持续燃烧，毒性气体逐渐蓄积，释放气体的浓度也在逐渐提高。
4.2 CIT和FED值从理论上讲，烟气毒性带给人体的伤害符合加和原理，因此国际上对于烟气毒性的判断依据加和原理作为毒性。
根据CIT 数值的判断标准，轨道车辆的内装材料全部可以达到产烟毒性的具体要求，根据FED 数值可以判断出大部分材料都能够达到产烟的要求，只有有机玻璃产烟毒性没能通过毒性要求[3]。
同样一种材料的CIT 数值多数小于FED 数值，主要原因在于确定FED 浓度是根据半小时之内小白鼠吸入烟气致死量得到的，综合考虑呼吸换气效率给烟气毒性带来的影响。
确定CIT 数值浓度建立在生命健康数值的基础之上。
CIT 数值要使用4min 和8min 实时浓度展开计算。
例如：对橡胶地板进行热解产生烟气，在4min 和8min 的时候并没有产生丙烯醛和盐酸两种毒性气体。
在后续30min 测试中，热解橡胶地板才产生了这两种气体。
FED 数值要使用烟气平均浓度来反馈测试过程中产生烟气分成分以及浓度。
城市轨道交通在运行过程中，人流量密集，空间有限，一旦遭遇火灾，烟气会迅速蔓延，想要快速疏散人群十分困难。
因此，可以使用国际标准ISO13344的方法进行毒性评估。
4.3 烟气毒性分级根据小白鼠染毒情况以及毒性等级判断标准，可以发现橡胶地板、有机玻璃、管道和窗帘的产烟毒性相对较小，达到了ZA1级别。
门窗密封条、阻燃泡沫的产烟毒性相对较大，未能达到ZA2级别。
通过动物染毒的实际情况、对比CIT、FED 数值的成分分析方法，发现密封条和阻燃泡沫的烟气毒性都比较高，有机玻璃的烟气毒性相对较低。
动物染毒情况需要综合考虑烟气毒性带来的效果，尤其是烟气中还存在很多未知物以及烟尘，使用成分分析方法，并不能够对烟气毒性组分展开全面测试。
杂质分析知识点梳理总结
杂质分析知识点梳理总结一、引言杂质分析是化学分析的一个重要分支，其主要任务是对化合物中的杂质进行定性和定量分析，从而综合评价化合物的纯度和质量。
杂质分析在药物研发、制药工艺控制、环境监测、食品安全等领域都有重要应用。
本文将对杂质分析的基本概念、分析方法和应用进行总结和梳理，以期为相关领域的研究和应用提供一定的参考和指导。
二、杂质的概念和分类1. 杂质的概念杂质是指不同成分的混合物中，与主要成分性质不同的物质。
杂质可以改变物质的性质、影响制品的质量和使用效果，甚至具有毒性。
因此，对于制药原料和成品药品来说，控制和分析杂质是非常重要的。
2. 杂质的分类根据其性质和来源的不同，杂质可以分为以下几类：（1）进料杂质：指在原料药、所需药品或化工产品的生产过程中输入的杂质。
（2）产物杂质：指在产品生产过程中新生成的杂质。
（3）辅助剂杂质：指生产过程中直接加入的辅助剂的杂质。
（4）杂质混合物：指由多种杂质组成的混合物。
（5）环境杂质：指由于生产环境和外部环境的影响而污染产品的杂质。
三、杂质分析的基本原理和方法1. 杂质分析的基本原理杂质分析的基本原理是利用化学分析技术，对混合物中的各种杂质进行分离、鉴定和定量，从而评价样品的纯度和质量。
常见的杂质分析技术包括色谱分析、光谱分析、质谱分析、电化学分析、热分析等。
2. 色谱分析色谱分析是杂质分析中常用的一种技术手段，其原理是利用样品中各种成分在色谱柱中的不同保留时间来进行分离和鉴定。
常见的色谱分析方法包括气相色谱（GC）、液相色谱（HPLC）、超高效液相色谱（UPLC）、薄层色谱（TLC）等。
3. 光谱分析光谱分析是利用物质对辐射光的吸收、发射、散射等现象进行分析的一种方法。
常见的光谱分析技术包括紫外-可见吸收光谱分析、红外光谱分析、拉曼光谱分析、荧光光谱分析等。
4. 质谱分析质谱分析是利用物质的分子离子在电场作用下产生的碎片离子质荷比进行质量分析的一种方法。
常见的质谱分析技术包括质子转移质谱（MS）、三重四级杆质谱（QQQ-MS）、飞行时间质谱（TOF-MS）等。
原料药杂质档案模板
原料药杂质档案模板一、杂质名称杂质名称应准确描述，避免使用缩写或代号。
如果杂质名称有多个，请一并列出。
二、杂质代码为便于识别和追踪，为每一种杂质指定一个唯一的代码。
该代码应简洁明了，易于记忆。
三、杂质含量详细记录每一种杂质在原料药中的含量。
提供具体的数值以及含量范围，如果含量未知，请注明“未知”。
四、杂质来源描述杂质的来源，包括原料药生产过程中的各个步骤，如起始物料、合成过程、精制过程等。
分析杂质产生的可能原因，并提出改进措施。
五、杂质分析方法提供用于检测和定量每种杂质的分析方法。
包括使用的仪器、试剂、操作步骤和结果判定标准等。
详细描述方法的准确性和可靠性，并提供相关参考文献。
六、杂质风险评估根据杂质对原料药的安全性、有效性及质量可控性的影响，对杂质进行风险评估。
评估杂质对原料药质量的影响程度，以及在临床使用中可能带来的风险。
针对高风险杂质提出有效的控制措施。
七、控制标准根据风险评估结果，制定每种杂质的控制标准。
包括杂质的限量、检测频率、控制环节等方面的要求。
确保控制标准能够有效地降低杂质对原料药质量的影响。
八、检测记录记录原料药中每种杂质的检测数据，包括检测时间、检测方法、检测结果等。
确保检测记录的完整性和准确性，以便于追溯和分析。
对于不符合控制标准的批次，需详细记录处理措施和结果。
九、杂质处理方法提供针对不符合控制标准的杂质的处理方法，包括物理、化学或生物学方法。
说明处理方法的原理、操作步骤和效果评估。
对于不能处理的杂质，提出相应的风险控制措施。
杂质分析报告模板
****杂质档案******杂质档案回顾期限：**年*月*****年******月*****杂质档案一、概述******是采用*********为原料经过一系列工艺制成********。
主要用于********。
我公司****************，现对***********建立杂质档案。
二、********杂质分析1.无机杂质这类杂质主要来源于生产过程中使用的酸性的化学试剂（如*******）及其它盐类试剂（如**********）。
大部分以钠盐为主，少量钾盐、镁盐，毒性较小，且此类杂质通过后续工序及精制处理，较容易去除，质量标准中采用测试产品的炽灼残渣的方法来控制这类杂质的总量，限度为0.1%。
产品使用化工原料种类较多，原料可能会杂有少量的重金属类杂质，生产过程中使用设备可能引入重金属类杂质，质量标准采用重金属限度检查法进行控制，以铅的限量表示重金属的限度，其限度为*********。
2.残留溶剂这类杂质来源于*****生产中使用的有机溶剂或分解的有机溶剂，包括：一类溶剂有：*************；二类溶剂有：*************；*************** 三类溶剂：***************；其它溶剂：***************。
采用气相色谱法控制上述溶剂残留，限度参考《中国药典》规定的残留溶剂规定制定。
3 有机杂质3.1已知杂质**********在制备过程中可能产生的*************，采用正相色谱法检测，用手性色谱柱对对映异构体进行控制，以面积归一法计算，其限度为不得过*********。
**********在生产制备过程中产生的有机杂质还有工艺杂质（*************），各杂质反应机理详见附件1。
采用高效液相色谱法检测，按有关物质检查方法检查，以对照品定位并按自身对照法计算，*****************的峰面积计算（分别乘以校正因子*******************，其限度为不得过**************%，详见********的杂质概况表。
P杂质谱分析的
格式模板首先列出产品的杂志谱列表，比如：****产品杂质情况分析表1、详细的反应方程式，包括结构式，反应温度，所有试剂，助剂，溶剂，催化剂等。
2、结合CTD资料的其他部分，对物料控制进行说明，包括起始物料、其他原料、溶剂、辅料（活性炭，硅藻土，硅胶等。
）。
3、起始物料说明。
起始物料符合广泛、易得、质量稳定，适合保存运输等的原则；还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究，同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。
比如头孢克洛，要对起始物料7-ACCA的工艺、杂质控制和质量情况进行详细的说明。
4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据，比如头孢克洛的起始物料7-ACCA的关键杂质△异构体，结合工艺和实验数据，说明杂质产生来源，分布，控制策略等。
第2、3、4内容可以在CTD的其他部分，比如物料说明部分进行。
但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。
5、关于ICH的杂质鉴定、报告和质控限度：主要参考ICHQ3A（R2）到ICHQ3D的相关规定杂质，降解杂质等。
第一部分：起始物料引入的杂质分析（比如头孢克洛的起始物料7-ACCA引入的杂质）1、无机杂质：说明引入情况和消除渠道；以及相关的控制方法和标准以及依据。
比如上述列表中的钯元素控制。
2、普通有机杂质。
3、对映异构体（根据品种的情况具体分析）；考察不同的对应异构体对最终产品质量的影响情况。
4、非对映异构体：比如ACCA的△异构体；还包括非对应异构体自身的各种对映体。
第二部分：反应的每个步骤引入的杂质：需要结合实际反应监控（HPLC，LC-MS为主）过程对杂质消除过程以及对后续的影响进行实际说明。
这个内容主要在工艺描述部分进行，本部分引用工艺描述内容。
1、步骤1引入的杂质。
2、步骤2引入的杂质。
3、步骤3引入的杂质。
以及后续的步骤产生的杂质以及消除过程和简单的控制描述……4、精制过程引入的杂质。
第三部分：结合小试中试数据汇总列表、方法适用性、实际检测结果等内容说明各个有机杂质的分布情况。
组件中杂质分析报告
我司使用的帽子不能有效遮住所有头发
TPT丝、线形纤维及美纹胶纸
这三种不良均可以在排版处检查出来，均为操 作时不小心，检查不到位导致。 及时清洁，仔细检查，可以有效杜绝此类杂质。
总结
杂质不良在不良比例中所占比例惊人， 高达14.9%，其中锡渣、头发导电杂质 更是危害巨大。有效控制杂质引起的不 良，是一个公司整体质量水平的体现。 后续两张图片表明了在一些生产细节上 依旧很粗放，随意。
组件焊接车间地面上杂质
锡渣原因分析
在所有的不良中，锡渣占20%，头发占13%。而这个 比例只是针对不合格组件的统计，也就是说没有统计在标 准范围内的锡渣，在我日常的观察，及客户投诉反馈，我 们组件中的锡渣是很常见的。 电池在焊接过程中会产生锡渣不可避免，但是如果压 带后做好检查，串带后做好检查，排版时做好检查，锡渣 是可避免的；另外，及时对焊接台面进行清洁，及时对电 池片托盘进行清洁，均有有效避免锡渣进行组件。
组件车间图片
及时对台面及托盘进行清洁可以有效避免锡渣
头发原因分析
头发导致的不良一直是各组件公司头疼的问 题，建议我司使用一次性头罩，一次性头罩相应 的收缩性大，能有效遮住所有头发，并且不能因 为长时间戴而引起任何不适。 要控制头发带来的不良，更多的还是要员工 加强检查，特别是排版检查处。
组件车间图片
组件车间图片
滚筒上放玻璃纸
焊带随意摆放在传送带上
注：焊带是组件的一部分，焊带被污染导致的缺陷是不可预料的， 可以用金属托盘来放置焊带，并对托盘定期清洁。
组件中杂质分析报告
杂质统计
8月份，因杂质导致的不良共105块，具 体统计见下表。
杂质统计
C1 的 Pareto 图
120 100 80 C2 60 40 20 0 C1 C2 百分比 累积 % 100 80 60 40 20 0 不明杂质 43 41.0 41.0 锡渣 21 20.0 61.0 头发 15 14.3 75.2 TPT丝 12 11.4 86.7 美纹胶纸 线性纤维 6 5 5.7 4.8 92.4 97.1 其他 3 2.9 100.0 百分比
杂质报告格式要求
杂质报告格式要求F i n a l R e p o r t：Times New Roman ，一号加粗DKSC Project(制备950mg合格的DKSC-IMP-C杂质）：宋体Times New Roman ，三号目录格式：宋体Times New Roman ，五号表格格式：指定宽度17cm，居中，无环绕；或者指定宽度100%百分比，居中，无环绕；全文统一一种格式即可表格标题：宋体Times New Roman ，五号；居于表格正上居中图标题：宋体Times New Roman ，五号；居于图谱正下居中表格、图备注：宋体Times New Roman ，五号；表格内：宋体Times New Roman ，五号，标点使用英文Times New Roman正文：宋体Times New Roman ，小四标题一级标题：宋体Times New Roman ，三号二级标题：宋体Times New Roman ，小三三级标题：宋体Times New Roman ，四号四级及以下标题：宋体Times New Roman ，小四MS结果：按照图谱显示小数位数书写：从MS谱图看，1508.6793为DKSC-IMP-C的准离子峰[M+H+]离子峰。
NMR结果：准确标注IR结果：准确标注，注意和图谱数据的一致性行间距：1.5倍附件2药品注册申报资料的体例与整理规范为加强药品注册纸质申报资料的规范管理，特制定本规范。
当申报资料同时进行CTD格式提交时，纸质申报资料的体例设置必须与CTD申报格式电子文档相一致。
1.申报资料的体例要求1.1字体、字号、字体颜色、行间距离及页边距离1.1.1 字体中文：宋体英文：Times New Roman1.1.2 字号中文：不小于小4号字，表格不小于5号字；申报资料封面加粗4号；申报资料目录小4号，脚注5号字。
英文：不小于12号字。
1.1.3 字体颜色黑色1.1.4 行间距离及页边距离行间距离：单倍。
杂质谱的分析
杂质谱的分析(总3页) -CAL-FENGHAI.-(YICAI)-Company One1-CAL-本页仅作为文档封面，使用请直接删除杂质谱的分析在药品研发及药品评价的过程中，杂质研究是一项非常重要的内容。
因为药物在临床使用过程中所发生的不良反应除了与药品本身的药理活性有关外，有时还与药品中所含有的杂质有很大的关系。
众所周知，从事药品研发及药品评价所要遵循的一个基本原则就是要保证上市药品的安全性和有效性，由于药品质量的稳定可控是保证药品安全有效的前提和基础，而杂质研究又是药品质量研究的一项重要内容，所以杂质研究及杂质控制是药品质量保证的关键要素，是确保药品安全有效性的重要体现。
2005年SFDA颁布的《化学药物杂质研究技术指导原则》中明确说明任何影响药物纯度的物质统称为杂质。
具体的解释就是指药物中所含有的没有治疗作用、可能影响药物的稳定性和疗效，甚至是对人体健康有害的物质。
杂质的来源有工艺杂质和降解产物等，工艺杂质指的是药品在制备工艺过程中引入的杂质，它包括没有反应完全的反应物、反应过程中所生成的中间体及副产物、反应过程中所使用的试剂及催化剂等。
降解产物指的是药品在生产和贮藏过程中发生化学变化而产生的杂质，如发生水解、氧化、开环等反应，降解产物主要与药物的结构特征密切相关。
由于杂质研究与药品的质量及安全有效性直接相关，为了提高药品的质量，保障公众的用药安全，因此，在药品研发过程中需规范地进行杂质研究，并将其控制在安全、合理的限度范围内。
在杂质研究总体原则的指导下，其中杂质谱的分析应是杂质研究的重要内容之一。
一、杂质研究的总体原则杂质研究的总体原则就是要结合在研产品具体的工艺以及产品的特点开展研究。
首先，要结合具体工艺及产品特点来分析产品中可能产生什么样的杂质，通过杂质谱的分析对产品中杂质的来源及结构情况有较为全面的了解；然后，在杂质谱分析的基础上，有针对性地选择合适的分析方法，以确保杂质的有效检出及控制；最后，需综合药学、药理毒理及临床研究结果确定合理的杂质限度，从而保证药品的质量及安全性。
3.2.P.5.5杂质谱分析模板的整理
32P.5.5 杂质谱分析模板的整理格式模板首先列出产品的杂志谱列表，比如：****产品杂质情况分析表反应过程的描述:1、详细的反应方程式，包括结构式，反应温度，所有试剂，助剂，溶剂，催化剂等。
2、结合CTD资料的其他部分，对物料控制进行说明，包括起始物料、其他原料、溶剂、辅料（活性炭，硅藻土，硅胶等。
）。
3、起始物料说明。
起始物料符合广泛、易得、质量稳定，适合保存运输等的原贝V;还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究，同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。
比如头抱克洛，要对起始物料7-ACCA的工艺、杂质控制和质量情况进行详细的说明。
4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据，比如头抱克洛的起始物料7-ACCA的关键杂质△异构体，结合工艺和实验数据，说明杂质产生来源，分布，控制策略等。
第2、3、4内容可以在CTD的其他部分，比如物料说明部分进行。
但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。
5、关于ICH的杂质鉴定、报告和质控限度：主要参考ICHQ3A （R2）到ICHQ3D的相关规定阈值（原料药）au ICH刮订的杞学廉料药中有关物康的鉴定、报吿和质控限度< 2ft0 10%应i omgf in舖小佈0 IS% ■< 1 .Omg f 呪圮小朗，-■2g0,0^.0 05%1-2 ICH^J订的化学药制珮杂质限度*4jft大日削柠« )>限廈Od%0M%1 + lOmg>2g|g 戎■ JUW0.5 Tj i或2U]ug0.2 .4Mi星小傭】OLIO%<IOmj10 - IDO THF>l(X)TTip * 2g1.0 i 或SOpg『皿竝小恒】0 5召或200跑0.2 1 2 3 jjJEo r%结合上述反应过程对杂质谱进行分析，主要分起始物料引入杂质，反应杂质，降解杂质等。
第一部分：起始物料引入的杂质分析（比如头抱克洛的起始物料7-ACCA引入的杂质）4、非对映异构体：比如ACCA的△异构体；还包括非对应异构体自身的各种对映体。
杂质回顾分析报告
杂质回顾分析报告1. 引言本报告旨在回顾分析杂质的情况，以便进一步改进产品质量控制措施。
杂质是指在产品制造过程中出现的不应出现的物质，可能会对产品的性能和安全性产生负面影响。
通过对杂质进行分析和评估，我们可以确定其来源，并采取相应的措施以减少或消除杂质的存在。
2. 杂质情况分析2.1 杂质的种类和分布情况我们首先对产品中存在的杂质进行分类和数量统计。
经过检测和分析，我们发现以下几类常见的杂质：1.金属杂质：包括铁、铝、铜等金属片或颗粒状物质。
2.纤维杂质：主要是由于生产过程中使用的纤维材料或原料产生的。
3.化学杂质：例如有机溶剂、氧化物等。
4.颗粒杂质：如颗粒状物质、粉末等。
5.生物杂质：如微生物、霉菌等。
根据对产品样本的检测结果，我们发现大部分杂质主要分布在表面或最外层，少量杂质可能会深入产品内部。
2.2 杂质的来源分析通过对原料、生产工艺和设备的调查和分析，我们推测杂质可能来自以下几个方面：2.2.1 原料污染原料可能在采集、运输和储存过程中受到污染。
如果原料的质量控制不严格，其中可能存在杂质，这些杂质可能会随着原料进入生产线。
2.2.2 生产工艺控制不严生产工艺中的每个环节都可能引入杂质。
例如，不适当的搅拌或混合过程可能导致杂质的生成，不恰当的温度控制可能导致杂质的沉淀或挥发。
2.2.3 设备污染生产设备的清洁程度和维护状况可能对杂质的存在有一定影响。
设备表面的污垢或陈列物质可能成为杂质的来源。
3. 杂质控制改进建议鉴于上述分析结果，我们提出以下改进建议，以减少或消除产品中的杂质：3.1 原料质量控制加强对原料供应商的审核和管理，确保原料的质量符合要求。
建立完善的原料采样和检测流程，及时发现和处理可能存在的污染问题。
3.2 生产工艺优化对生产工艺进行细致的优化，确保每个环节控制得当。
强化搅拌、混合和温度控制环节的操作规程，减少杂质的生成和存在。
3.3 设备清洁与维护加强设备清洁和维护工作，确保设备表面的卫生状况良好。
化工产品杂质分析报告模板
化工产品杂质分析报告模板
1. 引言
本报告旨在对化工产品样品中出现的杂质进行分析和评估。
杂质的存在可能会对产品的质量和安全性产生影响，因此对其进行分析和识别至关重要。
本报告将通过样品的表征和分析结果，提供对存在的杂质的详细描述和评估。
2. 样品信息
- 样品名称：
- 样品来源：
- 样品编号：
- 分析日期：
- 样品描述：
3. 样品表征
在本部分，将对样品进行常规的表征和描述，包括外观、颜色、形状、气味等方面的观察。
4. 分析方法
在本部分，将描述所采用的分析技术和方法，包括样品准备、检测仪器和设备的规格等。
5. 分析结果
在本部分，将详细描述对样品进行的分析结果。
5.1 杂质A的分析结果
- 外观描述：
- 化学成分分析结果：
- 可能的来源：
- 对产品质量的影响：
5.2 杂质B的分析结果
- 外观描述：
- 化学成分分析结果：
- 可能的来源：
- 对产品质量的影响：
5.3 其他杂质的分析结果
(根据实际情况增加)
6. 评估和建议
在本部分，将分析并评估各个杂质对产品质量和安全性的可能影响，并提供相应的建议。
7. 结论
在本部分，将对整个分析过程进行总结，并总结出对样品中各个杂质的鉴定和分析结果。
8. 致谢
在本部分，将对参与分析的成员和机构表示感谢。
注意：以上报告模板仅供参考，具体报告内容和结构应根据实际情况进行调整和修改。
原料药的杂质谱分析技术要点
原料药的杂质谱分析技术要点来源：煤炭与化工引言杂质作为药品的一项关键质量属性，其研究是一项重要系统工程。
杂质谱分析对指引药品制备工艺的研发和优化具有指导意义，只有在全面杂质谱分析基础上，药品质量控制才能有的放矢；杂质谱分析也是杂质检查工作和建立合理可行检查方法的前提。
本文对化学合成原料药的杂质分析的一般原则、研究思路和实际工作情况进行梳理。
1、杂质分析的法规要求CTD 格式申报资料要求药品研发企业对杂质分析必须具备以下分析研究：（1）列出产品中可能的杂质列表，分析杂质的来源；（2）对已知杂质给出化学结构并提供结构确证研究资料；（3）杂质情况分析：杂质名称、杂质结构、杂质来源、杂质控制限度、是否定入质量标准。
2、杂质分类及应对策略2.1 有机杂质分析有机杂质分析是研究产品中实际存在的杂质和潜在杂质。
有机杂质潜在来源为工艺杂质及降解产物。
2.1.1 工艺杂质工艺杂质包括起始原料、中间体、试剂、配位体、催化剂等。
原料引入的杂质（根据其合成工艺分析杂质情况，重点关注可引入后续反应的潜在杂质）；副产物（结合工艺分析可能的副产物，清楚或了解及后续工艺中的去向，后续反应情况，重点关注可引入后续反应的副产物）；合成过程中产生的降解产物（通过对药物中的活性基团和不稳定基团进行分析推测，药物的降解途径和降解产物）。
对原料药合成过程和储存过程中最可能产生的实际存在和潜在的杂质进行综述分析，评估原料引入的杂质情况，深入理解制备工艺，掌握杂质的由来、去向，科学分析工艺杂质。
2.1.2 降解产物2.1.2.1 研究方法研究方法包括结构特征分析、稳定性试验、强制降解试验。
2.1.2.2 强制降解试验的目的强制降解试验的目的如下：（1）了解待测药品对氧化、光照、酸、碱、湿、热等的敏感程度，潜在的降解途径和降解产物情况；（2）验证分析方法是否可行，是否为专属性的检查方法；（3）为药品的长期试验和加速试验放置条件提供依据；（4）为选择包装材料提供依据。
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3.2.P.5.5杂质谱分析模板的整理格式模板首先列出产品的杂志谱列表，比如：****产品杂质情况分析表反应过程的描述：1、详细的反应方程式，包括结构式，反应温度，所有试剂，助剂，溶剂，催化剂等。
2、结合CTD资料的其他部分，对物料控制进行说明，包括起始物料、其他原料、溶剂、辅料（活性炭，硅藻土，硅胶等。
）。
3、起始物料说明。
起始物料符合广泛、易得、质量稳定，适合保存运输等的原则；还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究，同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。
比如头孢克洛，要对起始物料7-ACCA的工艺、杂质控制和质量情况进行详细的说明。
4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据，比如头孢克洛的起始物料7-ACCA的关键杂质△异构体，结合工艺和实验数据，说明杂质产生来源，分布，控制策略等。
第2、3、4内容可以在CTD的其他部分，比如物料说明部分进行。
但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。
5、关于ICH的杂质鉴定、报告和质控限度：主要参考ICHQ3A（R2）到ICHQ3D的相关规定结合上述反应过程对杂质谱进行分析，主要分起始物料引入杂质，反应杂质，降解杂质等。
第一部分：起始物料引入的杂质分析（比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 引入的杂质）N SOH OONO OH N OC H N O S MW: 469.47NON OH SOOK C H KN O S MW: 372.48BrNO +NON OH SOONO C H N O S MW: 469.51C H BrNO MW: 216.03N OH NOH S OONO OC H N O S MW: 485.51TMP toluene N S NH HOOOH N O S N S N H HOH OOOC H N O S MW: 453.47CH Cl /TEBAC TsClmorpholineN S N HHN OONO OOC H N O S MW: 522.571) Br -pyrindineCH Cl N SCl OOONC H MW: 406.00HClHCl 1) (PhO)P/CH Cl 2) N,N-dimethyl aniline, PCl i BuOHNa S O N SOHOCl OH NH C H ClN O S MW: 234.661、 无机杂质：说明引入情况和消除渠道；以及相关的控制方法和标准以及依据。
比如上述列表中的钯元素控制。
2、 普通有机杂质。
3、对映异构体（根据品种的情况具体分析）；考察不同的对应异构体对最终产品质量的影响情况。
4、非对映异构体：比如ACCA的△异构体；还包括非对应异构体自身的各种对映体。
第二部分：反应的每个步骤引入的杂质：需要结合实际反应监控（HPLC，LC-MS为主）过程对杂质消除过程以及对后续的影响进行实际说明。
这个内容主要在工艺描述部分进行，本部分引用工艺描述内容。
1、步骤1引入的杂质。
2、步骤2引入的杂质。
3、步骤3引入的杂质。
以及后续的步骤产生的杂质以及消除过程和简单的控制描述……4、精制过程引入的杂质。
第三部分：结合小试中试数据汇总列表、方法适用性、实际检测结果等内容说明各个有机杂质的分布情况。
第四部分：潜在杂质在成品中的检测结果第五部分：自制原料与原研片杂质对比：对上述表格进行综述性总结。
主要是用不同来源的样品的液相图谱和列表数据进行对比性说明。
第六部分：制剂中的特定杂质：主要分析制剂与原料药储存过程中降解产生的杂质，以及因为辅料和原料药相容性而产生的特定杂质：比如纤维素类的曼德拉反应产生的杂质等。
储存降解产生的杂质包括酸碱氧热光降解杂质，空气中水分造成的水解杂质，或者跟空气中二氧化碳反应产生的杂质。
1.说明各杂质的限度：****杂质阈值（举例）2. 3.2.P.5.5.1潜在杂质的推测由****公司提供**原料药简单工艺路线，分析整理本品的杂质见下表。
表3.2.P.** ，-------------潜在杂质推测3.潜在杂质特征的鉴定a)原料合成过程带入的相关杂质特征的鉴定由厂家提供的原料药合成过程中所用的起始原料及各步中间产物的色谱行为和紫外光谱特征进行汇总分析，初步鉴定注射用头孢地嗪钠成品中原料合成过程中带入的杂质。
起始原料及各步中间产物鉴定特征如下表：表3.2.P.5-X ****原料合成过程相关杂质特征鉴定b)注射用头孢地嗪钠强制降解试验中杂质的特征鉴定试品与对照品强制降解试验表3.2.P.** 热破坏试验主要降解产物色谱信息表3.2.P.5-50 酸破坏试验主要降解产物色谱信息表3.2.P.5-51 碱破坏试验主要降解产物色谱信息表3.2.P.5-52 氧化破坏试验主要降解产物色谱信息表3.2.P.5-53 光照破坏试验主要降解产物4.制剂杂质列表留说明：a)以列表的方式列明产品中可能含有的杂质，分析杂质的产生来源，结合相关指导原则要求，对于已知杂质给出化学结构并提供结构确证资料，并提供控制限度。
杂质的结构和种类的鉴定在其他模块或者附件中体现。
按照以前惯例，自制杂质的结构确认是通过工艺描述加氢谱确认即可，特殊的需要提供其他佐证手段。
外购杂质的结构确认一般是要提供完整的结构鉴定谱图。
b)说明各杂质在最终质量标准中是否进行控制以及控制的限度，并提供充分的依据。
报告阈值是指所有高于此阈值的杂质及其含量均应在每批产品的检验报告中记录,并在申报资料中反映;鉴定阈值是指所有高于此阈值的杂质均应对其结构进行确证;合理限度是指只要质量标准中制订的杂质限度不高于此限度，就不需要提供该限度的制订依据,认为该限度是合理的。
c)提供详细的降解途径与降解产物研究资料与图谱。
应在对原料药的降解途径与降解产物有充分了解的基础上，进行系统的降解途径与降解产物研究，明确说明本品的降解途径与降解产物5.对比自制制剂片和原料药杂质谱以及纯度数据,6.对比自制制剂片和参比制剂杂质谱以及纯度数据,谱以及纯度数据。
************************************************************************************ ************************************************************************************ 附件1：《CTD申报资料中杂质研究的几个问题》这篇需要我们认真研究一下：下面做了简单的抄录。
（/dzkw.do?method=largePage&id=312898）杂志谱研究需要以杂质谱分析为主线，安全性为核心，按照风险控制的策略，将杂质研究与CMC各项研究，乃至药理毒理及临床安全性研究等环节关联思考、综合考虑，而不仅仅拘泥于提供准确分析数据的传统思维，不是一项孤立的分析工作。
1、杂质控制要做到源头控制、过程控制与终点控制相结合的杂质控制理念：CTD格式中杂质控制的考虑要体现在CMC的各个环节，而不是仅仅局限在“质量控制”模块。
比如原辅料首先要满足制剂质量要求；关键工艺步骤及参数的确立、工艺开发过程等要考虑以杂质是否得到有效控制为重点关注。
制剂相关特性中要体现与原研产品杂质谱等的对比情况；包材、贮藏条件以及有效期的确立等也要以杂质是否处于安全合理的可控范围内为核心。
2、关注杂质分析与控制的系统性与整体性，不能割裂各项内容的必然联系和有机统一：杂质分析与控制的相关内容会分布在分析方法（3.2.S.4.2）、方法学验证（3.2.S.4.3）、杂质对比研究与杂质谱分析（3.2.S.4.5）、杂质情况分析总结（3.2.S.3.2）、样品检测与数据积累（3.2.S.4.4）、控制限度（2.3.S.4.1）等各模块中，但杂质研究又是一项系统工程，具有统一的整体性。
因此，不要因为申报资料格式的模块化而人为割裂各项研究内容的相互联系。
3、从杂质谱分析入手确立科学的杂质研究基本思路。
杂质谱包括药物中所有杂质的种类、来源及特性等信息。
有针对性地选择合适的杂质分析方法，以确保杂质的有效检出和确认；通过与原研产品杂质谱的对比研究，根据各相应杂质的一致性求证，或跟踪杂质谱对安全性试验或临床试验结果产生的影响，评估各杂质的安全性风险和可接受水平；结合规模化生产时杂质谱的变化情况，确立安全合理的杂质控制水平。
4、分析方法的验证应具备针对性和全面性。
5、杂质限度的确定应符合相关技术指导原则的要求。
在分析方法相同的情况下，各特定杂质应不超过同品种或同类品种法定标准的相应限度；非特定杂质应采用LC/UV、LC/MS、PDA等多种方法与原研产品或ICH成员国产品进行杂质比较，说明各杂质与原研产品的一致性，相同杂质限度可参考ChP、USP、BP/EP、JP等药典同品种最严格的单个杂质限度确定。
附件2：引用的5.30文件的要求：化学仿制药电子通用技术文档申报指导原则（征求意见稿）A.以列表的方式列明产品中可能含有的杂质，分析杂质的产生来源，结合相关指导原则要求，对于已知杂质给出化学结构并提供结构确证资料，并提供控制限度B.说明各杂质在最终质量标准中是否进行控制以及控制的限度，并提供充分的依据。
C.提供详细的降解途径与降解产物研究资料与图谱。
应在对原料药的降解途径与降解产物有充分了解的基础上，进行系统的降解途径与降解产物研究，明确说明本品的降解途径与降解产物化学药品新注册分类申报资料要求（试行）-4类A.以列表的方式列明产品中可能含有的杂质，分析杂质的产生来源，结合相关指导原则要求，对于已知杂质给出化学结构并提供结构确证资料，并提供控制限度。
可以表格形式整理B.说明各杂质在最终质量标准中是否进行控制以及控制的限度，并提供充分的依据。
C.提供详细的降解途径与降解产物研究资料与图谱。
应在对原料药的降解途径与降解产物有充分了解的基础上，进行系统的降解途径与降解产物研究，明确说明本品的降解途径与降解产物化学药品新注册分类申报资料要求（试行）-3类A.以列表的方式列明产品中可能含有的杂质，分析杂质的产生来源，结合相关指导原则要求，对于已知杂质给出化学结构并提供结构确证资料，并提供控制限度。
B.对于最终质量标准中是否进行控制以及控制的限度，应提供依据。