制绒原理及影响因素

Rena
捷佳创
制绒副槽对比
• rena
溢流管
• 捷佳创
溢流管
排液管
排液管
绿色
智慧 奉献
超越
硅片表 面质量 反应速率 搅拌 化学品浓度 添加剂
溶液温度
化学品浓度
化学药品浓度 HF:49% HNO3:69%
HNO3 500g/L 使用配方 246L 0.6L
HF 62g/L 52L 0.4L
DI-WATER
182L 0.05L
5:1:3
12℃
400g/L 原配方 197L 0.28L
120g/L 101L 0.42L 182L 0L 2:1:2 8℃
Rena与捷佳创比较
• 制冷方式 • 补液方式 • 液体循环方式
初始配液及补液方式
HF RENA 0.4L/100片 HNO3 0.6L/100片
捷佳创
0.3L/130片
0.22L/130片
热量
制冷机
制冷方式
• rena
制绒槽 制 冷 机
• 捷佳创
制绒槽
副槽
副槽
制
冷
机
储液罐对比
1.容积大小与流速的区别，易由于厂务原因造成补液超时 容积大小与流速的区别， 容积大小与流速的区别
制绒目的
1、去除多晶硅片表面的机械损伤层和氧化层; 2、去除表面油污及金属离子； 3、使硅片表面形成更加明显的凹凸面效果，增加光 在电池片表面的折射次数,增加对光的吸收
制绒原理
NO HNO3 氧化剂 SiO2 反应 试剂 HF 溶解SiO2 络合物 H2SiF6
附加剂
水和冰 醋酸
降低反 应速率
对比制绒与去psg制绒槽药液，浓H2SO4的作用 制绒槽药液， 对比制绒与去 制绒槽药液 的作用
赛维LDK太阳能高科技（新余） 赛维LDK太阳能高科技（新余）有限公司 LDK太阳能高科技
制绒原理及影响因素
向华斌 2011.9.22
百度文库
www.ldksolar.com
主要内容
一、制绒目的及原理 二、影响反应速度的各种因素 三、rena设备与捷佳创设备的比较 rena设备与捷佳创设备的比较
第一部分
硅片的酸腐蚀由两步组成， 硅片的酸腐蚀由两步组成，第一步为硅的氧化过程
第二步氧化物的溶解过程
总反应
形成腐蚀坑原理
当气泡在表面附着足够长的时间并使被遮盖和未被遮盖区域的腐蚀产生相 当的差别，就会产生凸凹不平的表面 HNO3横向腐蚀，HF纵向腐蚀
反应速度影响因素
制绒槽长度： 制绒槽长度：2.12m，单面腐蚀 ，单面腐蚀4-4.5um 1、Rena滚轮速度 、 滚轮速度1.45m/min（八道） 滚轮速度 （八道） 反应速率2.7-3.1um/min 反应速率 2、捷佳创滚轮速度 捷佳创滚轮速度1.95m/min（五道） 捷佳创滚轮速度 （五道） 反应速度3.6-4.2um/min 反应速度
HNO3 rena 捷佳创 246 240
HF 52 60
DI-WATER 182 180
反应速度曲线
硅片表面质量
• 多晶硅制绒反应的发生点为晶体表面的缺陷点，如果过分完整 的表面反而无法制绒—水之清则无鱼 • 对比单晶—大颗粒—正常片
温度
40℃
30 ℃
10 ℃
8℃
搅拌
• 当溶液中有扰动时，富氢氟酸体系中，反应速 度减小。这是因为，扰动降低了氧化过程中的 中间产物在硅片表面的浓度，降低氧化反应速 度。富硝酸体系中，扰动将会增大硅片腐蚀的 饱和电流。增加刻蚀速度，这是因为，扰动降 低HF的传质阻，降低HF的扩散梯度，减少扩散 层厚度。