第二章-光学曝光技术课件(1)资料讲解
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摄影曝光及用光技巧(课堂PPT)
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根据一天中太阳位置的高低大约 可分为：
• 早晨和黄昏时刻 • 正常时刻 • 顶光时刻 • 天光时刻
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早晨和黄昏时刻
• 太阳与地平线保持在15°之内时，阳光 要透过极厚的雾气和尘埃层才能照亮地 面上的景物
• 光线较弱且柔和，拍摄出的照片垂直面 和水平面的反差较大，照片画面冷暖对 比强烈。由于阳光照射的角度低，景物 的投影往往被拉得很长。
• 1. 确保我们自己的皮肤色调与被摄对象的 皮肤色调相差无几。
• 2. 确保落到我们自己手臂皮肤上的光线与 落到被摄对脸上的光线相同。
• 3. 转动手臂，让落到手臂上光线所呈的角 度与落到被摄对象脸上的光线所呈角度相 同。
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18%灰板
18
自动曝光
• 自动相机上三种不同的测光系统类型 • 全自动测光系统 • 内置式测光系统 • 模式型曝光系统
• （5）逆光：又称“背光”光线来自被摄 体的正后方，逆光能使被摄体产生生动 的轮廓线条，使主体与背景分离，从而 使画面产生立体感、空间感。
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2、光位
• （6）顶光：光线来自被摄体的正上方， 如正中午的阳光、顶光会使人物脸部产 生不讨巧的浓重阴影，通常忌拍人像。
•
• （7）脚光：光线来自被摄体的下方，常 用于丑化人物的一种灯光方向。自然光 中没有脚光的光位。
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6．光色——指“光的颜色”或者说“色光 成分”。
• 通常把光色称为“色温”。光色无论在 表达上还是在技术上都是重要的，光色 决定了光的冷暖感，这方面能引起许多 感情上的联想。
• 光色对构图的意义主要表现在彩色摄影 中。
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第三节：自然光的运用
根据一天中太阳位置的高低大约 可分为：
• 早晨和黄昏时刻 • 正常时刻 • 顶光时刻 • 天光时刻
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早晨和黄昏时刻
• 太阳与地平线保持在15°之内时，阳光 要透过极厚的雾气和尘埃层才能照亮地 面上的景物
• 光线较弱且柔和，拍摄出的照片垂直面 和水平面的反差较大，照片画面冷暖对 比强烈。由于阳光照射的角度低，景物 的投影往往被拉得很长。
• 1. 确保我们自己的皮肤色调与被摄对象的 皮肤色调相差无几。
• 2. 确保落到我们自己手臂皮肤上的光线与 落到被摄对脸上的光线相同。
• 3. 转动手臂，让落到手臂上光线所呈的角 度与落到被摄对象脸上的光线所呈角度相 同。
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18%灰板
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自动曝光
• 自动相机上三种不同的测光系统类型 • 全自动测光系统 • 内置式测光系统 • 模式型曝光系统
• （5）逆光：又称“背光”光线来自被摄 体的正后方，逆光能使被摄体产生生动 的轮廓线条，使主体与背景分离，从而 使画面产生立体感、空间感。
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2、光位
• （6）顶光：光线来自被摄体的正上方， 如正中午的阳光、顶光会使人物脸部产 生不讨巧的浓重阴影，通常忌拍人像。
•
• （7）脚光：光线来自被摄体的下方，常 用于丑化人物的一种灯光方向。自然光 中没有脚光的光位。
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6．光色——指“光的颜色”或者说“色光 成分”。
• 通常把光色称为“色温”。光色无论在 表达上还是在技术上都是重要的，光色 决定了光的冷暖感，这方面能引起许多 感情上的联想。
• 光色对构图的意义主要表现在彩色摄影 中。
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第三节：自然光的运用
《曝光机要点技术》课件
详细描述
机械故障表现为运动部件异常、卡滞或磨损；电路故障表现为电源故障、传感器故障或控制电路故障；软件故障表现为程序崩溃、数据传输错误或系统更新失败。解决方案包括定期维护保养、检查更换损坏部件、修复电路故障和更新软件系统等。
总结词
06
CHAPTER
曝光机维护与保养
每天使用柔软的干布擦拭曝光机表面，保持清洁。
详细描述
高精度和高分辨率的曝光机需要采用先进的曝光技术，如光学曝光、电子束曝光等，同时还需要采用精密的制造工艺，如超精密加工、纳米加工等，以确保设备的稳定性和可靠性。
01
02
03
04
总结词：高效能和稳定性是曝光机发展的另一个重要趋势。详细描述：高效能的曝光机能够提高生产效率，降低生产成本，而高稳定性的曝光机能够保证设备的长期可靠运行，减少维护和维修成本。为了实现高效能和稳定性，需要采用先进的控制系统和精密的部件。总结词：高效的控制系统能够实现快速、准确的运动控制和精密的定位控制。详细描述：先进的控制系统能够实现快速、准确的运动控制和精密的定位控制，从而提高设备的加工效率和精度。同时，高效的控制系统还能够实现设备的自动化和智能化，进一步提高设备的生产效率和稳定性。
总结词：智能化和自动化已经成为现代曝光机的重要特征。详细描述：智能化和自动化的曝光机能够实现自动化加工、智能化检测和故障诊断等功能，从而提高设备的生产效率和可靠性。智能化和自动化的曝光机还能够减少人工干预，降低人为因素对设备精度和稳定性的影响。总结词：为了实现智能化和自动化，需要采用先进的人工智能技术和传感器技术。详细描述：先进的人工智能技术能够实现设备的自适应控制和自主学习，从而提高设备的智能化水平。传感器技术则能够实现设备的实时监测和故障预警，进一步提高设备的可靠性和稳定性。
机械故障表现为运动部件异常、卡滞或磨损；电路故障表现为电源故障、传感器故障或控制电路故障；软件故障表现为程序崩溃、数据传输错误或系统更新失败。解决方案包括定期维护保养、检查更换损坏部件、修复电路故障和更新软件系统等。
总结词
06
CHAPTER
曝光机维护与保养
每天使用柔软的干布擦拭曝光机表面，保持清洁。
详细描述
高精度和高分辨率的曝光机需要采用先进的曝光技术，如光学曝光、电子束曝光等，同时还需要采用精密的制造工艺，如超精密加工、纳米加工等，以确保设备的稳定性和可靠性。
01
02
03
04
总结词：高效能和稳定性是曝光机发展的另一个重要趋势。详细描述：高效能的曝光机能够提高生产效率，降低生产成本，而高稳定性的曝光机能够保证设备的长期可靠运行，减少维护和维修成本。为了实现高效能和稳定性，需要采用先进的控制系统和精密的部件。总结词：高效的控制系统能够实现快速、准确的运动控制和精密的定位控制。详细描述：先进的控制系统能够实现快速、准确的运动控制和精密的定位控制，从而提高设备的加工效率和精度。同时，高效的控制系统还能够实现设备的自动化和智能化，进一步提高设备的生产效率和稳定性。
总结词：智能化和自动化已经成为现代曝光机的重要特征。详细描述：智能化和自动化的曝光机能够实现自动化加工、智能化检测和故障诊断等功能，从而提高设备的生产效率和可靠性。智能化和自动化的曝光机还能够减少人工干预，降低人为因素对设备精度和稳定性的影响。总结词：为了实现智能化和自动化，需要采用先进的人工智能技术和传感器技术。详细描述：先进的人工智能技术能够实现设备的自适应控制和自主学习，从而提高设备的智能化水平。传感器技术则能够实现设备的实时监测和故障预警，进一步提高设备的可靠性和稳定性。
摄影曝光及用光ppt讲解
摄影曝光及用光ppt 讲解
• 摄影曝光基础知识 • 用光技巧与实例分析 • 曝光控制方法与技巧 • 特殊场景曝光与用光策略 • 后期处理中曝光和色彩调整 • 总结与展望
目录
Part
01
摄影曝光基础知识
曝光定义与原理
曝光定义
曝光是指相机在拍摄过程中，通过控制光线进入相机的时间和强度，使感光元件（胶片 或数字传感器）获得适当的光量，从而记录下被摄物体的影像。
作品三
肯定了曝光控制和色彩还原上的准 确性，建议加强主题表达和情感传 递的深度。
未来发展趋势预测
1 2 3
技术创新
随着科技的进步，未来摄影技术将更加注重智能 化、自动化和高效能，例如AI辅助构图、智能曝 光控制等。
艺术与科技的融合
摄影将更加注重与其他艺术形式的跨界融合，如 虚拟现实、增强现实等技术的结合，创造出更加 丰富多样的视觉体验。
测光模式
2
介绍了评价测光、中央重
点平均测光和点测光的原
理及应用场景。
曝光补偿 3 阐述了在复杂光线条件下，
如何运用曝光补偿功能来 调整曝光量。
学员作品点评与改进建议
作品一
点评了构图、光线运用和主题表 现等方面的优点，提出了在曝光 控制和色彩处理上的改进建议。
作品二
分析了创意构思和用光技巧上的亮 点，指出了在画面层次感和细节表 现上的不足。
Part
03
曝光控制方法与技巧
测光模式选择及调整策略
矩阵测光
对画面整体进行测光，适 用于光线均匀的场景。
中央重点测光
以画面中央区域为重点进 行测光，适用于主体位于 画面中央的场景。
点测光
对画面中的特定点进行测 光，适用于光线复杂或需 要精确控制曝光的场景。
• 摄影曝光基础知识 • 用光技巧与实例分析 • 曝光控制方法与技巧 • 特殊场景曝光与用光策略 • 后期处理中曝光和色彩调整 • 总结与展望
目录
Part
01
摄影曝光基础知识
曝光定义与原理
曝光定义
曝光是指相机在拍摄过程中，通过控制光线进入相机的时间和强度，使感光元件（胶片 或数字传感器）获得适当的光量，从而记录下被摄物体的影像。
作品三
肯定了曝光控制和色彩还原上的准 确性，建议加强主题表达和情感传 递的深度。
未来发展趋势预测
1 2 3
技术创新
随着科技的进步，未来摄影技术将更加注重智能 化、自动化和高效能，例如AI辅助构图、智能曝 光控制等。
艺术与科技的融合
摄影将更加注重与其他艺术形式的跨界融合，如 虚拟现实、增强现实等技术的结合，创造出更加 丰富多样的视觉体验。
测光模式
2
介绍了评价测光、中央重
点平均测光和点测光的原
理及应用场景。
曝光补偿 3 阐述了在复杂光线条件下，
如何运用曝光补偿功能来 调整曝光量。
学员作品点评与改进建议
作品一
点评了构图、光线运用和主题表 现等方面的优点，提出了在曝光 控制和色彩处理上的改进建议。
作品二
分析了创意构思和用光技巧上的亮 点，指出了在画面层次感和细节表 现上的不足。
Part
03
曝光控制方法与技巧
测光模式选择及调整策略
矩阵测光
对画面整体进行测光，适 用于光线均匀的场景。
中央重点测光
以画面中央区域为重点进 行测光，适用于主体位于 画面中央的场景。
点测光
对画面中的特定点进行测 光，适用于光线复杂或需 要精确控制曝光的场景。
曝光与滤光镜摄影知识课件ppt
1
光源的色温影响着人的日常生活，同样也 极明显地影响着彩色摄影。为了获得物质世界 色彩的真实还原，现代彩色感光材料分成高色 温的日光型和低色温的灯光型两大类。它们对 色温的要求分别是5400K和3200K。
1
自然光 直射光与散射光
人工光 夜景光
1
自然光
自然光是指大自然中固有的光源形态。主 要包括日光和天空光。
反射式测光
这种测光方式是把测光表从相机的位置对 向被摄体。为了得到精确的结果，测光表的测 光角和所用镜头的视角应一致。测光角如果大 大超过镜头的视角，就应该把测光表放到离主 体较近的地方，使测光表的视场和镜头一致。
1
反射式测光
1
在反射式测光中，测光表显示的是主体的 平均反射光，同时，测光角内一切其它反射光 也都能测量进去。
1
阴天、薄云遮日及曙、暮期均属散射光。
阴天本身也是十分丰富多样的，既有黑云 压城的阴天，也有薄云遮日的“假阴天”等， 共同特点是散射光形态。利用天空亮度高又呈 白色状，选择浅色景物为基准亮度把握曝光， 可以获得高亮调的画面。天空处在曝光过度的 情况，呈现成“白”，景物又无明显的阴影， 影调柔美、淡雅。
影之后，在底片的单位面积上银粒沉积量，用 以表示变黑的程度，称作密度。
1
密度与影像效果
曝光量愈大，胶片的感光愈过度，沉积的 银粒愈多，影像的黑度愈深，负片的密度愈大； 反之曝光量愈小，胶片的感光愈不足，沉积的 银粒愈少，影像的黑度愈浅，负片的密度愈小。
曝光正确、密度正常，能获得层次丰富、 反差正常、影调明快的影像效果。
正确曝光的含义是：在适当的时间里让感 光片受到适当的光量照射。
1
黑白底片、彩色底片曝光
1
曝光等于光线的强度乘以光线所作用的时间。
光源的色温影响着人的日常生活，同样也 极明显地影响着彩色摄影。为了获得物质世界 色彩的真实还原，现代彩色感光材料分成高色 温的日光型和低色温的灯光型两大类。它们对 色温的要求分别是5400K和3200K。
1
自然光 直射光与散射光
人工光 夜景光
1
自然光
自然光是指大自然中固有的光源形态。主 要包括日光和天空光。
反射式测光
这种测光方式是把测光表从相机的位置对 向被摄体。为了得到精确的结果，测光表的测 光角和所用镜头的视角应一致。测光角如果大 大超过镜头的视角，就应该把测光表放到离主 体较近的地方，使测光表的视场和镜头一致。
1
反射式测光
1
在反射式测光中，测光表显示的是主体的 平均反射光，同时，测光角内一切其它反射光 也都能测量进去。
1
阴天、薄云遮日及曙、暮期均属散射光。
阴天本身也是十分丰富多样的，既有黑云 压城的阴天，也有薄云遮日的“假阴天”等， 共同特点是散射光形态。利用天空亮度高又呈 白色状，选择浅色景物为基准亮度把握曝光， 可以获得高亮调的画面。天空处在曝光过度的 情况，呈现成“白”，景物又无明显的阴影， 影调柔美、淡雅。
影之后，在底片的单位面积上银粒沉积量，用 以表示变黑的程度，称作密度。
1
密度与影像效果
曝光量愈大，胶片的感光愈过度，沉积的 银粒愈多，影像的黑度愈深，负片的密度愈大； 反之曝光量愈小，胶片的感光愈不足，沉积的 银粒愈少，影像的黑度愈浅，负片的密度愈小。
曝光正确、密度正常，能获得层次丰富、 反差正常、影调明快的影像效果。
正确曝光的含义是：在适当的时间里让感 光片受到适当的光量照射。
1
黑白底片、彩色底片曝光
1
曝光等于光线的强度乘以光线所作用的时间。
曝光机的原理
曝光机的原理
曝光机是一种用于光刻制程的设备，其工作原理主要包括以下几个步骤：
1. 掩模对准：首先，在曝光机的工作台上放置所需曝光材料，如光刻胶涂层的硅片。
然后，将待曝光的掩模（通常由玻璃或石英制成）放置在硅片上，并确保掩模与硅片之间的对准精度。
2. 光源照射：曝光机会产生一束高能光源，如紫外光或激光光源。
这束光会经过光学系统的聚焦透镜，以获得更小的焦斑尺寸，并准确照射到掩模上。
3. 光束透射：经过掩模的光束会在透明区域透射，而在掩膜上的不透明区域则会遮挡光束。
4. 曝光材料反应：光刻胶等曝光材料会对光的能量做出反应。
在光束照射下，曝光材料会发生化学或物理上的变化，使其在暴露区域的特定区域上具有不同的物理或化学性质。
5. 光刻胶开发：经过曝光后，将硅片放入开发液中进行显影。
开发液将去除未曝光的部分光刻胶，从而只保留曝光区域的图案。
通过这个曝光机的工作原理，可以在硅片上制造出微细的光刻图案，用于制备微电子器件或光学元件等应用。
曝光机概论培训资料
清洁和处理
对芯片和掩模版进行清洁 和处理，以去除表面的杂 质和尘埃。
分析结果
通过显微镜等工具分析曝 光结果，评估曝光质量和 成功率。
04
曝光机的维护和保养
日常维护
每日清洁
检查温度和湿度
每天清理曝光机表面和内部部件，保持清洁 。
确保曝光机工作在适宜的温度和湿度环境中 。
检查电路连接
检查安全防护装置
2023
曝光机概论培训资料
目录
• 曝光机概述 • 曝光机的基本结构 • 曝光机的操作流程 • 曝光机的维护和保养 • 曝光机的安全操作规范 • 曝光机的未来发展趋势
01
曝光机概述
曝光机的定义
曝光机是一种用于将掩膜（mask）上的图案转移到硅片或其 他基板上的设备。
它是一种精密的仪器，常用于微电子工业、光学制造等领域 。
服务型制造转型
未来，曝光机行业将更加注重服务型制造，通过提供整体解决方案 和增值服务来提高企业竞争力和盈利能力。
THANK YOU.
检查所有电路连接是否牢固，避免接触不良 或短路。
确保曝光机的安全防护装置（如光罩）完好 无损，工作正常。
定期保养
每周保养
每周进行一次全面的检查和维护，包括清洁曝光机内部和外部，检查机械部件是否有磨损 或松动，及时进行维修或更换。
月度保养
每月对曝光机的光学系统进行检查和维护，确保光学部件的清洁和正常运行。同时检查电 气系统的工作情况，确保曝光机正常运行。
06
曝光机的未来发展趋势
技术升级
01 02
精密控制技术
随着工业制造对精度要求的提高，曝光机将进一步采用更精密的控制 技术，如高精度激光干涉仪、原子力显微镜等，以实现纳米级甚至更 精细的曝光。
光学光刻技术
光学光刻技术一、光学光刻光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。
限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关，而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。
因为这个原因，开发新型短波长光源光刻机一直是各个国家的研究热点。
除此之外，根据光的干涉特性，利用各种波前技术优化工艺参数也是提高分辨率的重要手段。
这些技术是运用电磁理论结合光刻实际对曝光成像进行深入的分析所取得的突破。
其中有移相掩膜、离轴照明技术、邻近效应校正等。
运用这些技术，可在目前的技术水平上获得更高分辨率的光刻图形。
20世纪70—80年代，光刻设备主要采用普通光源和汞灯作为曝光光源，其特征尺寸在微米级以上。
90年代以来，为了适应IC集成度逐步提高的要求，相继出现了g谱线、h谱线、I谱线光源以及KrF、ArF等准分子激光光源。
目前光学光刻技术的发展方向主要表现为缩短曝光光源波长、提高数值孔径和改进曝光方式。
二、移相掩模光刻分辨率取决于照明系统的部分相干性、掩模图形空间频率和衬比及成象系统的数值孔径等。
相移掩模技术的应用有可能用传统的光刻技术和i线光刻机在最佳照明下刻划出尺寸为传统方法之半的图形，而且具有更大的焦深和曝光量范围。
相移掩模方法有可能克服线/间隔图形传统光刻方法的局限性。
随着移相掩模技术的发展,涌现出众多的种类,大体上可分为交替式移相掩膜技术、衰减式移相掩模技术；边缘增强型相移掩模,包括亚分辨率相移掩模和自对准相移掩模；无铬全透明移相掩模及复合移相方式(交替移相+全透明移相+衰减移相+二元铬掩模)几类。
尤其以交替型和全透明移相掩模对分辨率改善最显著,为实现亚波长光刻创造了有利条件。
全透明移相掩模的特点是利用大于某宽度的透明移相器图形边缘光相位突然发生180度变化,在移相器边缘两侧衍射场的干涉效应产生一个形如“刀刃”光强分布,并在移相器所有边界线上形成光强为零的暗区,具有微细线条一分为二的分裂效果,使成像分辨率提高近1倍。
第一讲 曝光知识PPT演示课件
2、AV/A档光圈优先模式是指在拍摄前预先设置好照相机的 光圈值，在按下快门时的正确曝光量是由数码照相机自动 来调整快门速度来实现正确的曝光。
15
程序自动拍摄模式
1、程序自动控制-简称P档，它和全自动拍摄 模式是十分相似的，所以它也是属于“傻 瓜”拍摄模式。但是P档的程序自动拍摄模 式与全自动拍摄模式在本质上是有区别的
16
1、一是采用AUTO档拍摄模式时是无法对数码照相机的ISO 感光度、白平衡以及图像锐度等许多功能的参数来进行相 应的调整的；而使用P档拍摄模式时，这些功能参数是可 以进行必要的手动调整的。
摄影讲座
控制好你的曝光 使你的照片更精彩
王成
1
不可否认数码时代到来了-如今数码相机已经走进 了家庭，成为了大众化记录工具。 拥有一架数码相机，是一件快乐的事情，因为我们可 以轻而易举地捕捉身边的人和事，记录如画的风景， 让美好的回忆定格在小小的机器里。 当您已经拥有，又或者即将购置一台数码相机，您应 该首先熟悉使用、操作这手中的设备，进一步提高您 的摄影技能。如何用数码相机？当我们手中的相机， 可能是小型的、甚至是低端的数码相机，除了能记录 我们的生活，也许我们会更急切地希望: 无需经过太多 的学习，能马上拍出艺术照片，拍出与众不同艺术效 果的作品吗？ 答案是: 只要您拥有一架数码相机，尽官可能是小型的、 低档的，通过学习，掌握基本的技能取长补短 那一定 使您梦想成真，拍摄出赏心悦目的艺术作品。
9
曝光正常
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ10
曝光过度
11
合理运用光线 这里简单说一下旅游纪念照 用光特点；用光－侧光立体感强，逆光层次丰富 散射光最好
1.顺光拍摄时，画面白、平、闭眼、（调动） 2.顶光拍摄容易产生阴影尽量避免（旅游时） 3.逆光要使用曝光补偿或者闪光点补光（了解你的灯
15
程序自动拍摄模式
1、程序自动控制-简称P档，它和全自动拍摄 模式是十分相似的，所以它也是属于“傻 瓜”拍摄模式。但是P档的程序自动拍摄模 式与全自动拍摄模式在本质上是有区别的
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1、一是采用AUTO档拍摄模式时是无法对数码照相机的ISO 感光度、白平衡以及图像锐度等许多功能的参数来进行相 应的调整的；而使用P档拍摄模式时，这些功能参数是可 以进行必要的手动调整的。
摄影讲座
控制好你的曝光 使你的照片更精彩
王成
1
不可否认数码时代到来了-如今数码相机已经走进 了家庭，成为了大众化记录工具。 拥有一架数码相机，是一件快乐的事情，因为我们可 以轻而易举地捕捉身边的人和事，记录如画的风景， 让美好的回忆定格在小小的机器里。 当您已经拥有，又或者即将购置一台数码相机，您应 该首先熟悉使用、操作这手中的设备，进一步提高您 的摄影技能。如何用数码相机？当我们手中的相机， 可能是小型的、甚至是低端的数码相机，除了能记录 我们的生活，也许我们会更急切地希望: 无需经过太多 的学习，能马上拍出艺术照片，拍出与众不同艺术效 果的作品吗？ 答案是: 只要您拥有一架数码相机，尽官可能是小型的、 低档的，通过学习，掌握基本的技能取长补短 那一定 使您梦想成真，拍摄出赏心悦目的艺术作品。
9
曝光正常
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ10
曝光过度
11
合理运用光线 这里简单说一下旅游纪念照 用光特点；用光－侧光立体感强，逆光层次丰富 散射光最好
1.顺光拍摄时，画面白、平、闭眼、（调动） 2.顶光拍摄容易产生阴影尽量避免（旅游时） 3.逆光要使用曝光补偿或者闪光点补光（了解你的灯
微细和纳米加工技术 光学曝光技术(. 光刻胶的特性)
★剖面形状除了和对比度有关外，还与光在胶层里度胶形成的剖面
(b)高对比度胶形成的剖面
图2.12 不同对比度的胶形成的剖面形状 (负型胶，相同曝光与显影条件，计算机模拟结果)
8
三、光刻胶的抗刻蚀比
★如果光刻胶图形将作为等离子体刻 蚀掩模，就需要有较高的抗刻蚀性。 ★这一性能通常是以刻蚀胶的速率与 刻蚀衬底材料的速率之比来表示的。 ★例如，某一光刻胶与硅的抗刻蚀比 为10，这说明当刻蚀硅的速率为1 μm／min时，胶的损失只有100 nm／min。 ★抗刻蚀比的高低也决定了要涂多厚 的胶才能实现对衬底材料某一深度 的刻蚀。
6
对比度对光刻胶剖面形状的影响
★对比度直接影响到胶的分辨能力。对比度越大，剖面越陡。
★虽然曝光时间越长，曝光能量越大，剖面越陡，但是生产效率太低。
(a)正型胶显影曲线
(b)负型胶显影曲线
7
不同对比度的胶形成的剖面形状
★不同对比度的胶所形成的图形轮廓不同。在同样的曝光条件下，由于胶 的对比度不同而形成了完全不同的曝光结果。
4
二、光刻胶的对比度
★对比度高的光刻胶所得到的曝光图形具有 陡直的边壁和较高的图形高宽比。 ★对比度与灵敏度的定义如图中的显影曲线所示。该曲线也称做对比度函 数。显影曲线上的横坐标表示曝光剂量，纵坐标代表显影后胶膜留下的 厚度（归一化值）。显影曲线的斜率越大，光刻胶的对比度越高。
(a)正型胶显影曲线
12
七、光刻胶的热流动性
★每一种胶都有一个玻璃化温度Tg 。超过这一温度，胶就会 呈熔融状态。
★由于已成型胶的热流动，会使显影形成的图形变形，影响 图形质量和分辨率。
13
八、膨胀效应
★有些负型胶在显影过程中会发生膨胀现象。这主要是由于 显影液分子进入胶的分子链，使胶的体积增加，从而使胶 的图形变形。
(b)高对比度胶形成的剖面
图2.12 不同对比度的胶形成的剖面形状 (负型胶，相同曝光与显影条件，计算机模拟结果)
8
三、光刻胶的抗刻蚀比
★如果光刻胶图形将作为等离子体刻 蚀掩模，就需要有较高的抗刻蚀性。 ★这一性能通常是以刻蚀胶的速率与 刻蚀衬底材料的速率之比来表示的。 ★例如，某一光刻胶与硅的抗刻蚀比 为10，这说明当刻蚀硅的速率为1 μm／min时，胶的损失只有100 nm／min。 ★抗刻蚀比的高低也决定了要涂多厚 的胶才能实现对衬底材料某一深度 的刻蚀。
6
对比度对光刻胶剖面形状的影响
★对比度直接影响到胶的分辨能力。对比度越大，剖面越陡。
★虽然曝光时间越长，曝光能量越大，剖面越陡，但是生产效率太低。
(a)正型胶显影曲线
(b)负型胶显影曲线
7
不同对比度的胶形成的剖面形状
★不同对比度的胶所形成的图形轮廓不同。在同样的曝光条件下，由于胶 的对比度不同而形成了完全不同的曝光结果。
4
二、光刻胶的对比度
★对比度高的光刻胶所得到的曝光图形具有 陡直的边壁和较高的图形高宽比。 ★对比度与灵敏度的定义如图中的显影曲线所示。该曲线也称做对比度函 数。显影曲线上的横坐标表示曝光剂量，纵坐标代表显影后胶膜留下的 厚度（归一化值）。显影曲线的斜率越大，光刻胶的对比度越高。
(a)正型胶显影曲线
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七、光刻胶的热流动性
★每一种胶都有一个玻璃化温度Tg 。超过这一温度，胶就会 呈熔融状态。
★由于已成型胶的热流动，会使显影形成的图形变形，影响 图形质量和分辨率。
13
八、膨胀效应
★有些负型胶在显影过程中会发生膨胀现象。这主要是由于 显影液分子进入胶的分子链，使胶的体积增加，从而使胶 的图形变形。
第二章-光学曝光技术PPT课件
虽然业界一再强调EUV的技术,我们有理由相信，EUV （极端远紫外光刻）将是未来纳米级光刻技术的主流工艺， 而一直沉默不语的Intel是否已经使用了这种技术呢？
10
Intel巨资开发的Intel’s Micro Exposure Tool（MET）
IMEC开发的EUV alpha demonstration tool
敏感性
差
好 非常好 一般 一般
分辨率 很好 一般 很差 好 很好
侧壁光滑性 很好 很差 很差 好 很好
耐强腐蚀 差 很好 好 很差 很好
在基底地 好 好 好 差 好 粘附性能
27
LIGA技术应用
微齿轮（sandia 国家实验室）
28
29
LIGA技术的优点:
( 1) 深宽比大, 准确度高。所加工的图形准确度小于 0. 5微米, 表面粗糙度仅10nm, 侧壁垂直度>89. 9°, 纵向高度可500微米以上; ( 2) 用材广泛。从塑料( PMMA、聚甲醛、聚酰胺、 聚碳酸酯等) 到金属( Au, Ag, Ni, Cu) 到陶瓷( ZnO2) 等, 都可以用LIGA技术实现三维微结构; ( 3) 由于采用微复制技术, 可降低成本, 进行批量生 产。 LIGA的缺点： （1）成本昂贵（X光源需要昂贵的加速器） （2）用于X光光刻的掩膜板本身就是3D微结构，复 杂，周期长
东南大学 · 南京
MEMS
教育部重点实验室
5
(1) 光学无掩模光刻
无掩膜光刻技术的两大研究方向为光学无掩模光刻（Optical Maskless Lithography）和带电粒子无掩膜光刻（Charged Particle Maskless Lithography）。
光学无掩膜技术是从传统的光学光刻机 构造发展而来的，最大的不同是掩膜版 被一排光调制器（DMD，Digital Micromirror Device，数字微镜阵列）取代， 通过实时控制制作出需要的图形。
10
Intel巨资开发的Intel’s Micro Exposure Tool（MET）
IMEC开发的EUV alpha demonstration tool
敏感性
差
好 非常好 一般 一般
分辨率 很好 一般 很差 好 很好
侧壁光滑性 很好 很差 很差 好 很好
耐强腐蚀 差 很好 好 很差 很好
在基底地 好 好 好 差 好 粘附性能
27
LIGA技术应用
微齿轮（sandia 国家实验室）
28
29
LIGA技术的优点:
( 1) 深宽比大, 准确度高。所加工的图形准确度小于 0. 5微米, 表面粗糙度仅10nm, 侧壁垂直度>89. 9°, 纵向高度可500微米以上; ( 2) 用材广泛。从塑料( PMMA、聚甲醛、聚酰胺、 聚碳酸酯等) 到金属( Au, Ag, Ni, Cu) 到陶瓷( ZnO2) 等, 都可以用LIGA技术实现三维微结构; ( 3) 由于采用微复制技术, 可降低成本, 进行批量生 产。 LIGA的缺点： （1）成本昂贵（X光源需要昂贵的加速器） （2）用于X光光刻的掩膜板本身就是3D微结构，复 杂，周期长
东南大学 · 南京
MEMS
教育部重点实验室
5
(1) 光学无掩模光刻
无掩膜光刻技术的两大研究方向为光学无掩模光刻（Optical Maskless Lithography）和带电粒子无掩膜光刻（Charged Particle Maskless Lithography）。
光学无掩膜技术是从传统的光学光刻机 构造发展而来的，最大的不同是掩膜版 被一排光调制器（DMD，Digital Micromirror Device，数字微镜阵列）取代， 通过实时控制制作出需要的图形。
曝光机概论培训资料课件(2)
故障二
曝光图像模糊
排除方法
检查镜头是否清洁，检查曝光参数是否设置正确。
曝光机运行缓慢
故障三
排除方法
清理设备内部灰尘，检查散热系统是否正常工作。
04
曝光机的发展趋势
与展望
新型曝光机技术的研发
纳米压印技术
利用高分子材料和纳米结 构，实现高分辨率、高效 率的曝光。
电子束曝光技术
利用电子束在材料表面进 行精细加工，适用于高精 度、小规模制造。
根据用途，曝光机可分为接触式曝光机和非接触式曝光机。
接触式曝光机是指掩模版直接与基板接触，通过物理接触将图案转移到基板上。
非接触式曝光机是指掩模版与基板保持一定距离，通过投影镜头将图案投射到基板 上。
曝光机在生产中的
02
应用
曝光机在PCB制造中的应用
曝光机在PCB制造中主要用于将电路板上的图案转移到光敏材料上，通 过光化学反应将图案刻画在光敏材料上，为后续的蚀刻和电镀等工艺提 供基础。
曝光机在光刻技术中需要高分 辨率和高对比度，以实现精细 电路的刻画。
曝光机在光刻技术中还需要与 其它设备如涂胶机、显影机和 蚀刻机等配合使用，完成整个 集成电路制造流程。
曝光机的维护与保
03
养
曝光机的日常保养
01
02
03
每日清洁
使用柔软的干布清洁曝光 机表面，保持设备整洁。
检查设备连接
确保曝光机与电源、电脑 等设备的连接稳定。
操作过程中的安全注意事项
1 2
注意辐射安全
曝光机在工作过程中会产生辐射，操作时应避免 直接接触设备，尽量减少暴露时间，防止对身体 健康造成影响。
避免触电
操作时应避免接触设备内部的电线和电器元件， 以防触电。
曝光图像模糊
排除方法
检查镜头是否清洁，检查曝光参数是否设置正确。
曝光机运行缓慢
故障三
排除方法
清理设备内部灰尘，检查散热系统是否正常工作。
04
曝光机的发展趋势
与展望
新型曝光机技术的研发
纳米压印技术
利用高分子材料和纳米结 构，实现高分辨率、高效 率的曝光。
电子束曝光技术
利用电子束在材料表面进 行精细加工，适用于高精 度、小规模制造。
根据用途，曝光机可分为接触式曝光机和非接触式曝光机。
接触式曝光机是指掩模版直接与基板接触，通过物理接触将图案转移到基板上。
非接触式曝光机是指掩模版与基板保持一定距离，通过投影镜头将图案投射到基板 上。
曝光机在生产中的
02
应用
曝光机在PCB制造中的应用
曝光机在PCB制造中主要用于将电路板上的图案转移到光敏材料上，通 过光化学反应将图案刻画在光敏材料上，为后续的蚀刻和电镀等工艺提 供基础。
曝光机在光刻技术中需要高分 辨率和高对比度，以实现精细 电路的刻画。
曝光机在光刻技术中还需要与 其它设备如涂胶机、显影机和 蚀刻机等配合使用，完成整个 集成电路制造流程。
曝光机的维护与保
03
养
曝光机的日常保养
01
02
03
每日清洁
使用柔软的干布清洁曝光 机表面，保持设备整洁。
检查设备连接
确保曝光机与电源、电脑 等设备的连接稳定。
操作过程中的安全注意事项
1 2
注意辐射安全
曝光机在工作过程中会产生辐射，操作时应避免 直接接触设备，尽量减少暴露时间，防止对身体 健康造成影响。
避免触电
操作时应避免接触设备内部的电线和电器元件， 以防触电。
摄影技术学习之摄影曝光问题课件
ISO：感光度，表示相机传感器对光线的敏感程度，影响照片的亮度和噪点。
03
曝光技巧与运用
正确曝光的判断标准
曝光过度：照片过亮，细节丢失 曝光不足：照片过暗，细节不清晰 曝光正确：细节丰富，色彩还原自然 对比度合适：明暗过渡自然，层次感强
曝光补偿的运用
曝光补偿的概念：在 拍摄过程中，通过调 整相机曝光参数来控 制照片亮度的技术。
确定测光点 位置
实际操作并 分析结果
不同场景下的曝光实战案例
阳光明媚的户外场景：通过调整光圈和快门速度，确保画面明亮自然，细节清晰 室内低光环境：使用高感光度和大光圈，提高曝光补偿，减少噪点，保持画面清晰 夜景拍摄：利用三脚架和慢速快门，搭配合适的曝光参数，展现城市夜景的繁华与宁静 动态拍摄：根据运动主体的速度和方向，快速调整曝光参数，捕捉精彩瞬间
局部曝光问题
背景过曝：适当 减少曝光补偿， 或缩小光圈
前景欠曝：适当 增加曝光补偿， 或使用反光板补 光
动态范围超出相 机能力：采用多 张合成或HDR技 术
局部细节丢失： 使用中性密度滤 镜或后期处理软 件进行修复
05
实践操作与案例分析
如何使用测光表进行测光
了解测光表 的工作原理
选择合适的 测光模式
展望未来摄影技术的发展趋势
人工智能技术：AI将进一步优化摄影技术，实现更精准的曝光控制和智能化的后期处理
5G技术：5G将为摄影带来更快的传输速度和更稳定的图像质量，实现实时远程拍摄和实时预 览
传感器技术：未来传感器技术将更加先进，能够实现更高的像素和更低的噪声，提升摄影画质
虚拟现实技术：VR将为摄影带来全新的视角和体验，实现沉浸式的拍摄和观影效果
感谢观看
汇报人：XX
03
曝光技巧与运用
正确曝光的判断标准
曝光过度：照片过亮，细节丢失 曝光不足：照片过暗，细节不清晰 曝光正确：细节丰富，色彩还原自然 对比度合适：明暗过渡自然，层次感强
曝光补偿的运用
曝光补偿的概念：在 拍摄过程中，通过调 整相机曝光参数来控 制照片亮度的技术。
确定测光点 位置
实际操作并 分析结果
不同场景下的曝光实战案例
阳光明媚的户外场景：通过调整光圈和快门速度，确保画面明亮自然，细节清晰 室内低光环境：使用高感光度和大光圈，提高曝光补偿，减少噪点，保持画面清晰 夜景拍摄：利用三脚架和慢速快门，搭配合适的曝光参数，展现城市夜景的繁华与宁静 动态拍摄：根据运动主体的速度和方向，快速调整曝光参数，捕捉精彩瞬间
局部曝光问题
背景过曝：适当 减少曝光补偿， 或缩小光圈
前景欠曝：适当 增加曝光补偿， 或使用反光板补 光
动态范围超出相 机能力：采用多 张合成或HDR技 术
局部细节丢失： 使用中性密度滤 镜或后期处理软 件进行修复
05
实践操作与案例分析
如何使用测光表进行测光
了解测光表 的工作原理
选择合适的 测光模式
展望未来摄影技术的发展趋势
人工智能技术：AI将进一步优化摄影技术，实现更精准的曝光控制和智能化的后期处理
5G技术：5G将为摄影带来更快的传输速度和更稳定的图像质量，实现实时远程拍摄和实时预 览
传感器技术：未来传感器技术将更加先进，能够实现更高的像素和更低的噪声，提升摄影画质
虚拟现实技术：VR将为摄影带来全新的视角和体验，实现沉浸式的拍摄和观影效果
感谢观看
汇报人：XX
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