PCB干膜培训教材(完整)PPT课件

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机器保养
二、贴 膜
贴膜的作用:是将干膜贴在粗化的铜面上。
保护膜
干菲林
贴膜机将干膜通过压轳与铜面附着,同时 撕掉一面的保护膜。
• 曝光即在紫外光照射下,光引发剂吸收了光能分解成游离基,游离基
再引发光聚合单体进行聚合交联反应,反应后形成不溶于稀碱溶液的 体型大分子结构。
三、对位曝光
• 1.对位时干膜的聚脂薄膜不被撕起 • 2.对位时没有偏孔、对反等情况 • 3.曝光图象清晰,无曝光不良情况
曝光操作环境的条件(无尘房控制)
1. 温湿度要求:20±3°C,55±10%。 (干菲林储存的要求,曝光机精度的要求,底片储存
减少变形的要求等等。) 2. 洁净度要求: 达到万级。
(主要是图形转移过程中完全正确的将图形转移到板 面上,而不允许出现偏差。) 3. 抽真空要求:图形转移的要求,使图形转移过程中不 失真。
曝光的作用是曝光机的紫外线通过底片使菲林 上部分图形感光,从而使图形转移到铜板上。
底片 干菲林 Cu
基材





诱导 区
单体耗

单体耗
尽区
尽区
曝光时间增加
• 4.抽真空时需要加赶气动作,确保曝光良好 • 5.对位10-15pnl板需用粘尘辘清洁曝光菲林、曝光 台面、对位台一次;每对位20-30pnl板需送检菲林一 次;每曝光30分钟,需用菲林水清洁曝光机玻璃与 MYLAR一次。 • 6.曝光完成后的板停放15MIN以上再显影 • 7.每菲林曝光次数严格按照程序文件规定控制:500600次报废
干膜工艺流程详细介绍
磨板 贴膜 曝光
显影
蚀刻或电镀
褪膜
干菲林 Cu
基材 底片
一、磨 板
磨板的作用:基板前处理主要是解决表面清洁度和表 面粗糙度的问题。粗化铜面,便于菲林附着在铜面上 。 磨板的种类:化学磨板、机械磨板。 机械磨板工艺:
酸洗 水洗 磨板 水洗 水洗 吸干 热风干
以上关键步骤为酸洗和磨板段。
PCB干膜培训教材
撰写: 日期:2009年5月4日
培训概要
• 1.简单叙述干膜的特性、种类及结构 • 2.详细介绍干膜工艺流程:
A操作规范
B工艺控制参数
C生产控制(注意)事项 D品质要求 E机器保养 • 3.干膜工序常见问题的讲解
什么是图像转移
• 制造印制板过程中的一道工序就是将照相底版上的电路图 像转移到覆铜箔层压板上,形成一种抗蚀或抗电镀的掩膜 图像。抗蚀图像用于“印制蚀刻工艺”,即用保护性的抗 蚀材料在覆铜箔层压板上形成正相图像,那些未被抗蚀剂 保护的不需要的铜箔,在随后的化学蚀刻工序中被去掉, 蚀刻后去除抗蚀层,便得到所需的裸铜电路图像。而抗电 镀图像用于“图形电镀工艺”,即用保护性的抗蚀材料在 覆铜层压板上形成负相图像,使所需要的图像是铜表面, 经过清洁、粗化等处理后,在其上电镀铜或电镀金属保护 层(锡铅、锡镍、锡、金等),然后去掉抗蚀层进行蚀刻, 电镀的金属保护层在蚀刻工序中起抗蚀作用。
1.有较高的分辨率,一般线宽可做4mil; 2.干膜应用在图形电镀工艺中,电镀加厚在高而 垂直的夹壁间进行,在镀层厚度小于抗蚀剂厚 度时,可以防止产生镀层突延和防止去膜时抗 蚀剂嵌入镀层下面,保证线条精度;
3.干膜的厚度和组成一致,避免成像时的不连 续性,可靠性高; 4.应用干膜,大大简化了印制板制造工序,有利 于实现机械化、自动化。
干膜的类型
• v 1.溶剂型干膜
使用有机溶剂作显影剂和去膜剂,例如用 1.1.1三氯乙烷显影,二氯甲烷去膜,这两种溶 剂遇
火不燃烧。醋酸丁酯等有机溶剂也可用作显影和去膜, 但易燃烧,很不安全。 溶剂型干膜是美国最早研制并投 入大量生产的一种干膜,我国早期也研制过。它的优点 是 技术成熟,工艺稳定,耐酸耐碱,应用范围广。但是, 使用这种干膜需要消耗大量的有机溶剂,需 要价格昂贵 的显影和去膜设备及辅助装置,生产成本高,溶剂有毒, 污染环境,所以日趋以水溶 性干膜所取代,仅在特殊要 求时才使用。
四、 显 影
显影的作用:
是将未曝光部分的干菲林去掉,留下感光的部分 。
显影的原理:
未曝光部分的感光材料没有发生聚合反应,遇弱 碱Na2CO3(0.8-1.2%)溶解。而聚合的感光材料则留在 板面上,保护下面的铜面不被电镀或蚀刻药水溶解。
• 6.干膜起皱 • 7.干膜与基板铜表面之间出现气泡
谢谢大家!
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