镀膜工艺

粒子碰撞原理：
Ar+
氣體 靶材
基材 靶材原子等粒子
Ar+
氣體
靶材
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主要工艺流程：
前处理
装配
清洗处理
真空溅镀
UV照Fra Baidu bibliotek烘干
UV光油底漆
提高基材待镀层的附着性
UV光油面漆
UV照射烘干
成品
提高基材已镀层的硬度和配色
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真空溅镀也可根据基材和靶材的特性直接溅射不用涂底漆，真空溅镀的镀层可通过调 节电流大小和时间来垒加，但不能太厚，太厚了表面原子垒加会出现小小的空洞间隙。 厚度范围0.2~2um。
一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使 用RF交流溅镀,基本的原理是在真 空中利用辉光放电 (glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面 ，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面 ，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜 。
真空賤鍍
（2）具有优良的耐折性和良好的韧性，很少出现针孔 和裂口，无揉曲龟裂现象，因此对气体、水蒸汽、气味、 光线等的阻隔性提高。
（3）具有极佳的金属光泽，光反射率可达97％；且可 以通过涂料处理形成彩色膜，其装潢效果是铝箔所不及的 。
（4）可采用屏蔽式进行部分镀铝，以获得任意图案或 透明窗口，能看到内装物。
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電鍍的目的
❖ 電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層 (deposit)，改變基材表面性質或尺寸。例如 賦予金屬光澤美觀、物品的防鏽、防止磨耗 、提高 導電度、潤滑性、強度、耐熱性、耐 候性、熱處理之防止滲碳、氮化 、尺寸錯誤 或磨耗之另件之修補。
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PVD主要生產設備
PVD真空爐
PVD真空爐
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要少；对吸湿性大的基材，在镀膜前理。 （3）基材应具有一定的强度和表面平
滑度。 （4）对蒸镀层的粘接性良好；对于PP
、PE等非极性材料，蒸镀前应进行表面处理 、以提高与镀层的粘接性。
真空賤鍍
❖ 真空溅镀：
通常指的是磁控溅镀，属于高速低温溅镀法。 在真空状充入惰性气体(Ar)，并在塑胶基材（ 阳极）和金属靶材（阴极）之间加入高压直流 电，由于辉光放电（glow discharge）产生的 电子激发惰性气体产生氩气正离子，正离子向 阴极靶材高速运动，将靶材原子轰出，沉积在 塑胶基材上形成薄膜
真空鍍膜工藝介紹
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李振強2015.02.04
電鍍
電鍍(Electroplating)
❖ 電鍍(electroplating)被定義為一種電沈積過程 (electrodepos- ition process)， 是利用電極 (electrode)通過電流，使金屬附著於 物體表面 上， 其目的是在改變物體表面之特性 或尺 寸
真空蒸镀中的金属镀层通常为铝膜，但其他金 属如铬也可通过蒸发沉淀；厚度在30um左右
真空鍍膜 ❖ 蒸鍍原理：
真空鍍膜
❖ 真空蒸镀具有如下特点： （1）大大减少了用铝量，节省了能源和材料，降低了
成本，复合用铝箔厚度多为0。07mm，而镀铝薄膜的铝层厚 度约为0．5um左右，其耗铝量约为铝箔的1／140～1／180 ，且生产速度可高达450m／min。
❖ 分類上架 (依素材外觀選擇適合掛具)
❖ 脫脂清洗 (溫度.濃度.時間 )
❖ 粗化 (溫度.濃度.時間)
❖ 中和 (溫度.濃度.時間)
❖ 水洗 (自來水連續循環 )
❖ 敏化 (溫度.濃度.時間 )
❖ 水洗 (自來水連續循環 )
❖ 活化 (溫度.濃度.時間 )
❖ 水洗 (自來水連續循環 )
❖ 化學鎳完成
真空賤鍍
❖ 賤鍍原理
主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材 (target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。
溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速 度却比蒸镀慢很多。
新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以 加速靶材周围的氩气离子化, 造成靶与氩气离子间的撞击 机率增加, 提高溅镀速率。
電鍍的基本構成元素
❖ 外部電路 ❖ 陰極、或鍍件(work)、掛具(rack)。 ❖ 電鍍液(bath solution)。 ❖ 陽極(anode)。 ❖ 鍍槽( plating tank ) ❖ 加熱或是冷卻器(heating or colling coil )
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電鍍前處理流程
（5）镀铝层导电性能好，能消除静电效应；其封口性 能好，尤其包装粉末状产品时，不会污染封口部分，保证 了包装的密封性能。
（6）对印刷、复合等后加工具有良好的适应性。
真空鍍膜
❖ 真空蒸镀工艺对被镀基材有以下几点要求： （1）耐热性好，基材必须能耐受蒸发
源的辐射热和蒸发物的冷凝潜热。 （2）从薄膜基材上产生的挥发性物质
•高流鎳
全光澤鎳
•微孔鎳
沙丁鎳(霧鎳)
•鎳合金(古銅)
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真空鍍膜
❖ 前言
真空镀膜作为一种新兴的镀膜技术，其产品表面有超强的金属质 感被越来越多的应用在化妆品、手机等电子产品的外壳、汽车标 志、汽车车灯等的表面处理，其膜面不仅亮度高，质感细腻逼真 ，可做出多种靓丽色彩，同时它还有制作成本较低，有利于环境 保护，较少受到基材材质限制的优点。
真空鍍膜 ❖ 真空镀膜：
真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属
（或者金属化合物）真以空蒸气镀相的形式沉积到材
料表面（真通空镀常膜 是非金真属空溅材镀料），属于物理气
相工艺。
离子镀
真空鍍膜
❖ 真空蒸发镀膜法（简称真空蒸镀）
真空蒸镀是将待成膜的物质置于真空中进行蒸 发或升华，使之在工件或基材表面析出的过程
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電鍍處理流程(一)
❖ 上架 (選擇合適掛具 )
❖ 超音波清洗 (時間. 電流 )
❖ 鍍銅 (溫度.濃度.時間.電流.電壓.大小 )
❖ 水洗 (自來水連續循環 )
❖ 鍍鎳 (溫度.濃度.時間.電流.電壓.大小.PH 值 )
❖ 選擇以下六種不同電鍍鎳層色澤及功能性
半光澤鎳