化学品供应系统简介优秀课件

Trouble
1.当机台需求化学品时 ,传送Request 讯号给 OCP．
2.OCP 收到讯号后 ,会先检查 CDU 是否Ready供应
若是，则回传 Ready讯号．若否，则回传 Trouble 讯号
3.机台端 EMO被压下时，则停止供应化学品．
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CCB之流程图
GN2 inlet
充填槽车
Storage Tank
–原则
1. 维持呼吸，血液循环，维持患者生命 2. 减轻患者病痛，促使其能早日康复
–呼吸道吸入
1. 离开污染区( 避免自己或其它人再受污染) 2. 喊叫，打电话求救，请求支持 3. 确认吸入物质，维持呼吸心跳，尽速送医
–消化道食入
1. 喊叫，打电话求救，请求支持 2. 催吐( 若昏迷，意识不清或误食腐蚀性物质，则不得催吐) 3. 确认吸入物质，维持呼吸心跳，尽速送医
保养管路时需先 以PN2将化学品 Purge至机台端 Drain
Drain Port
Purge inlet
箱体内侧下方装 设泄漏侦测器
Drain Port Provided By N1O6 V A
SAMPLING-BOX之构造
inlet
1.箱体以SUS制成 2.钢丝玻璃外盖 3.箱体与外盖间以
O-Ring密合
NH4F 38.7-39.7% HF 0.95-1.05%
30-32
NMD-W 2.38
N-BUTYL-ALCO HOL
CH3C2H3COOH
用途 将感光过之光阻去除 清洗芯片表面之 EKC-265 去除 PARTICAL 去除金属离子 去除氮化硅 去除有机物 芯片表面之氧化膜清洁 清洗石英管制品
去除 POLY
兼容 ? 微粒子控制：过滤器循环过滤 ? 满足最大需求流量：高浓度化学品如 H2SO4 、
H3PO4 ? 自动控制操作运转：系统单元与机台界面自动化 ? 取样分析：系统、管路之粒子数、金属离子含量
取样分析 ? 泄漏警报：侦测泄漏及紧急关闭系统 (EMO) ? 系统诊断： Pump 、Filter 、Valve 运转时数 ? 维修保养管路 Auto Purge/Flush 功能 ? 化学品用量统计
T-BOX VMB
泄漏警报
CHEMICAL LINE
GN2 LINE
SIGNAL LINE
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系统之流程图( 四)
Electric Signal Interface Between BCDS & Tool
OCP Side
Tool Side
Request Stop
+24V
EMO
+24V
Ready
+24V
? 碱性:NH4OH,KOH,Developer... ? 有机溶剂
– 易燃液体 :IPA,Acetone,NBA, 光阻液... – 腐蚀性有机溶剂 :EKC,EBR,HMDS...
? 氧化性:HNO3,H2O2...
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化学品之种类与用途( 二)
NO
名称
百度文库
1 光阻去除剂 EKC-265
2 异丙醇 IPA
Supply Filter
Trans/Rec Filter
Outlet
Provided By Systems Chemistry,IN14C
TEE-BOX之构造
主管路
1.箱体以PP制成 2.CPVC外盖 3.箱体与外盖间以
O-Ring密合 4.管件以PFA制成
手动阀
主管路 VMB
一般酸碱类适用
箱体内侧下方装 设泄漏侦测器
Drain Port
Provided By N1O5 V A
1.箱体以PP制成 2.CPVC外盖 3.箱体与外盖间以
O-Ring密合 4.管件以PFA制成
一般酸碱类适用
VMB之构造
To Tools inlet
For The Future Use
手动阀 Exhaust
气动阀
1 23 4
CDA inlet From OCP to 气动阀
–眼睛接触
1. 迅速翻开眼睑，清水轻洗15分钟以上，立刻送医
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运转操作注意事项(一)
?充份阅读 MSDS，认识化学品之物质特性，危 害性，危害标示，危害途径及防护措施
?工作前，先行思考及演练各细节后，再行动 ?工作时应双人以上搭配作业，事前事后确认 ?正确选用及使用适当防护器具 ?正确处理化学品废弃物，避免造成后续伤害 ?良好个人安全卫生环保习惯 ?认知工作安全”意外”意识
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化学品供应质量要求
Geometry SizPearticles/ml Size
1μ
100
0.5
.8μ
100-200 0.2-0.3
.5μ
50-100
0.2
.35μ
＜20
0.2
.25μ
＜10
0.1
Metallics ＜10 PPb 1-2 PPb
1 PPb ＜1 PPb 100 PPt
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系统之流程图( 一)
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系统之目的
? 供应高纯度化学品以清洗芯片上之杂 质、微粒子
? 供应高纯度化学品以蚀刻芯片图案 ? 供应高纯度化学品以显影芯片图案 ? 供应高纯度化学品以为化学气相沉积
前置反应物 ? 供应高纯度化学品以研磨芯片 ? 供应高纯度化学品以清洗制程设备零
配件
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化学品之种类与用途( 一)
? 酸性:
– 腐蚀性:H2SO4,HCl,HNO3,HF,H3OP4... – 毒性:HF,HNO3,Poly-Mix,BOE...
–自救 -- 救人前应先保护自己 –冲 -- 清水不断冲洗至少 15分钟 –脱 -- 边冲边脱并避免二次伤害 –支持 -- 请求支持成立紧急处理 ERT
对HF时- 须不断地涂抹葡萄酸钙 ( 涂抹- 按摩- 擦净- 涂抹) –送 -- 尽速送医
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运转操作注意事项(四)
?熟知化学品 吸入/ 食入/ 眼睛接触之处理
3 氢氧化胺 NH4OH
4 盐酸 HCl
5 磷酸 H3PO4
6 硫酸 H2SO4
7 氢氟酸 1 HF-1
8 氢氟酸 2 HF-2
醋酸 9 混酸 硝酸
MAE 氢氟酸
10 硝酸 HNO3
11
Buffer Oxide Etchant BOE 10:1
12 Buffer Oxide Etchant
BOE 50:1
? 一般无机酸碱类
– 外管：CPVC – 内管：PFA Piping & Tubing – 管件：铁弗龙材质制品
? 有机溶剂类
– 外管：SUS 304 – 内管：SUS 316L EP – 管件：SUS 316L以上制品
? 有机碱类
– 外管：SUS 304 – 内管：PFA Piping & Tubing – 管件：铁弗龙材质制品
-----------------------------------
-----------------H2SO4+H2O2 ? H2SO4+ H2O
------------------
------------------
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系统之基本要求
? 操作安全：腐蚀性、毒性、耐压、防爆之考虑 ? 化学品零污染：与化学品接触部份完全与化学品
化学槽车充填衔
接站将化学品由 槽车以N2加压直
接输送至Tank
CCB
6m3
适合使用量较
可 依
大之化学品,如 H2O2,H2SO4等
实
际
用
适合使用量中
量
等之化学品,如
需 求
HF,H3PO4等
选
择
适合使用量较
使 用
小之化学品,如 BOE,HNO3等
Storge Tank 12m 3
Tote 1m3
200L
CDU
Provided By N1O2 V A
CDU之流程图(型一)
CDA
GN2
inlet
inlet
Outlet
Drum
Tank
Transfer Filter
Pump
Supply Filter
Day Tank
Provided By N1O3 V A
CDU之流程图(型二)
Tank Drum
Pump
Drum
Tee Box
T
VMB
Tool-1
T
CDU
T
将化学品经循环 过滤,再经N2或 Pump加压输送 至有需求之生产
机台内
将化学品经管路分 配至不同生产机台
VMB
Tool-2
VMB
Tool-3
VMB
Tool-4
S
Sampling Box
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系统之流程图( 二)
OCP Tool
FMCS
HUB
Tee Box
13 过氧化氢 H2O2
14 显影剂 DEVELOPER 15 清洁剂 NBA
16 清洁剂 EBR-10
成分比例 -----99.9 28-30 35-37 85-87
96-97
48.9-49.2 48.9-49.2 46.1-48.1 33.2-35.7
1.5-2.5 69.5-71
NH4F 35.7-36.7% HF 4.6-5.0%
有机溶剂类适用
手动阀
按钮
1.将取样瓶置入 ,并关闭 箱门
2.按压按钮 ,再打开取样 手动阀
3.化学品流出达需求之 量后 ,关闭手动阀 ,放开 按钮
4.打开箱门 ,盖上瓶盖 ,取 出取样瓶
5.清洁取样箱
箱体内侧下方装 设泄漏侦测器
Drain Port
Provided By N1O7 V A
系统设备之材料要求
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运转操作注意事项(二)
?熟知化学品泄漏处理七项步骤 –远离泄漏源辨示泄漏状况 – 寻求协助支持 – 管制隔离污染区 – 拯救伤员 – 围堵外泄物 – 清除污染物及环境检测 – 事故调查记录留存
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运转操作注意事项(三)
?熟知化学品淋溅烧伤之急救处理 –稀释 、去除污染在皮肤或粘膜上之有害 化学物质
Chemical Supply System 化学品供应系统简介
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课程大纲
? 系统之目的 ? 化学品之种类与用途 ? 系统之基本要求 ? 化学品供应质量要求 ? 系统之流程图 ? CDU之流程图 ? TEE-BOX之构造 ? VMB之构造 ? SAMPLING BOX之构造 ? 系统设备之材料要求 ? 运转操作注意事项
清洗石英管制品 化学蚀刻用
化学蚀刻用
H2SO4 之氧化再生剂 光阻图形显影 去除光阻 去除晶背 /芯片边缘光阻
REMARK ----------------------------------NH4OH+H2O2+H2O ? HCl+ H2O2+H2O ? H3PO4+SiN4 ? CxHy+H2SO4 ? CO2+H2 O+H2SO4 SiO2+4HF ? SiF4+H2O SiO2+4HF ? SiF4+H2O Si+MAE ? SiO2 ? SiF4
VMB
CDU
Provided By Systems Chemistry,IN9C
系统之流程图( 三)
启动CDU 循环过滤后，同时由OCP供应GN2， 打开VMB内气动阀，将化学品供应至TOOL
TOOL 机台
供酸
GN2
OCP
SCADA Computer
循环过滤 25”后 供酸
HUB 加强讯号
CDU
主管路