原料药中杂质研究基本思路及控制方法20130201.
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药物杂质研究基本思路 及控制方法
主要内容
1. 国内外对药物杂质研究的相关技术要求
2. 杂质来源和控制
有机杂质 无机杂质 残留溶剂
《化学药物杂质研究的技术指导原则》
ICH（International
Conferenceon Harmonizationof Technical Requirements for RegistrationofPharmaceuticalsfor Human Use）
（2）无机杂质的分析方法
无机杂质的产生主要与生产工艺过程有关。由于许多 无机杂质直接影响药品的稳定性，并可反映生产工艺 本身的情况，了解药品中无机杂质的情况对评价药品 生产工艺的状况有重要意义。
对于无机杂质，各国药典都收载了经典、简便而又行 之有效的检测方法。对于成熟生产工艺的仿制，可根 据实际情况，采用药典收载的方法进行质量考察及控 制。对于采用新生产工艺生产的新药，鼓励采用离子 色谱法及电感耦合等离子发射光谱－质谱（ICP-MS） 等分析技术，对产品中可能存在的各类无机杂质进行 定性、定量分析，以便对其生产工艺进行合理评价， 并为制定合理的质量标准提供依据。
重金属 铁盐 氯化物 硫酸盐 砷盐
0.001% 0.003% 0.014% 0.04%-0.1% 0.0002-0.0005%
3、残留溶剂限度确定
药物中常见残留溶剂及其限度
溶剂名称 PDE值 (mg/天） 第一类溶剂（应避免使用） 苯 四氯化碳 1,2-二氯乙烷 0.02 0.04 0.05 0.0002 0.0004 0.0005 限度 （％）
1,1-二氯乙烯
1,1,1-三氯乙烷
0.08
15.0
0.0008
0.15
溶剂名称
PDEFra Baidu bibliotek (mg/天）
限度 （％）
第二类溶剂 （应该限制使用）
乙腈 氯苯 氯仿 环己烷 4.1 3.6 0.6 38.8 0.041 0.036 0.006 0.388
N,N-二甲氧基甲酰胺
1,4-二氧六环 正己烷 甲醇 四氢呋喃 甲苯 二氯甲烷
按照其来源 按照其毒性
试剂、中间体、 副产物等）
降解产物 从反应物及试剂中混入的杂质等。
毒性杂质、普通杂质
按化学结构
如甾体、生物碱、几何异构体、光学异构体 聚合物等。
一、概述
（一）定义
任何影响药物纯度的物质统称为杂质。杂质的研究 是药品研发的一项重要内容。它包括选择合适的分析 方法，准确地分辨与测定杂质的含量并综合药学、毒 理及临床研究的结果确定杂质的合理限度。这一研究 贯穿于药品研发的整个过程。
药品质量研究的进展
纯度控制
杂质控制 杂质谱控制 第一次飞跃 第二次飞跃
杂质的个数、种类、限度等
1、有机杂质的限度确定
质量标准中对有机杂质的限度规定应包括：
每一个已知杂质、未知杂质及总杂质。 共存的异构体和抗生素的多组分一般不作为杂质进行控
制，必要时作为共存物质在质量标准中规定其比例。
单一的对映体药物，其对映异构体应作为杂质控制.由 于创新药物与仿制药情况不同，在确定杂质限度时，可 有所区别。
案例分析
1.杂质较大的，先用柱分离，有些杂质重结晶难以除去 2.根据杂质的反应性差异确定选择什么方法 3.化学新路线的设计 4.优化反应条件，提高选择性
注：萃取过程中可能引入新的杂质，特别是溶残，需要 重结晶除去。
有机杂质的定量方法
有机杂质的检测一般多采用HPLC法，有时也采用TLC、
（3）残留溶剂的检测方法
在确定了需要进行残留量研究的溶剂后，需要通过方 法学研究建立合理可行的检测方法。目前，常用的检 测方法为气相色谱法（Gas Chromatography，GC）， 也有其他一些检测方法。
三、杂质来源和控制
（一）有机杂质来源和控制
工艺杂质
反应物 试剂 中间体 副产物 降解产物 反应物 试剂
1.研究内容不全面、针对性不强
原则：仿产品而不是仿标准 前期工作：研究产品的结构特征、制备工艺、相关文献 项目设置：共性化项目、个性化项目、不同方法的互补。 共性化项目包括：性状、鉴别、检查、含量 个性化项目包括：检查、有关物质、溶残、无机杂质
2.质量标准制订中项目设置不全面，限度设定不 合理
3.实验内容很全面，资料表述模糊不清
申报成功率：50%的实验+50%的资料 1）正确理解CTD概念 2）理清脉络 3）环环相扣 以CTD格式（模块化）申报原料药杂质研究为例
模块 关注人员 3.2.S.2 合成 3.2.S.3 合成、分析 3.2.S.4 合成
分析是合成的眼睛
质量控制中共性问题探讨
3、对于创新药物，可对杂质的限度做初步的规定。
申报生产研究：
1、产生了新的杂质
2、已有杂质的含量超出限度 根据附件1或2来判断该杂质的含量是否合理，如不合理，
则应参照决策树来考虑下一步的研究工作。
（二）杂质检测技术要求 1、杂质分析方法
分析方法的选择直接关系到杂质测定结果的专属性 与准确性，因此，在进行杂质研究时首要问题是选择合 适的杂质分析方法。
>2g
0.03%
附件2：制剂的杂质限度
报告限度 最大日剂量 限度 最大日剂量 鉴定限度 限度 最大日剂量 质控限度 <1mg 1.0％或5μ g （取最小值） <10mg ≤1g 0.1% 1mg-10mg 0.5％或20μ g （取最小值） 10mg-100mg >1g 0.05% >10mg-2g >2g
50.0
50.0 50.0 50.0 50.0 50.0 50.0 50.0 50.0 50.0
0.5
0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5
4、临床研究申请与上市生产申请 阶段的杂质研究
申报临床研究：
1、申报临床研究前，应对已有批次产品的杂质进行比 较，根据安全性研究用样品的杂质含量情况来证明临床研 究用药品是安全的。 2、可在临床研究期间对杂质分析方法进行完善。
1.药物的整个合成工艺
药学
2.药物制剂工艺 3.药物结构及其性质
4.分析方法
有机杂质：
包括工艺中引入的杂质和降解产物等，由于这类杂质的化学结构一般与活 性成分类似或具渊源关系，故通常又可称之为有关物质。
无机杂质：
是指在原料药及制剂生产或传递过程中产生的杂质，这些杂质通常是已知 的，主要包括：反应试剂、配位体、催化剂、重金属、其它残留的金属、 无机盐、助滤剂、活性炭等。
（1）有机杂质的分析方法
化学法、光谱法、色谱法等，随着分离、检测技术 的发展与更新，高效、快速的分离技术与灵敏、稳 定、准确、适用的检测手段相结合。 目前普遍采用的杂质检测方法： 高效液相色谱法 薄层色谱法、 气相色谱法 毛细管电泳法
应根据药物及杂质的理化性质、化学结构、杂质的控 制要求等确定适宜的检测方法。由于各种分析方法均具 有一定的局限性，因此在进行杂质分析时，应注意不同 原理的分析方法间的相互补充与验证，如HPLC与TLC及 HPLC与CE的互相补充，反相HPLC系统与正相HPLC系统的 相互补充，HPLC不同检测器检测结果的相互补充等。
残留溶剂：
在合成、纯化、制剂过程中残留所使用的溶剂，这些溶剂通常是已知的。
二、国内外对药物杂质研究的 相关技术要求
(一)杂质限度要求
附件1：原料药的杂质限度
最大日剂量 ≤2g 报告限度 0.05% 鉴定限度 0.10%或1.0mg （取最小值） 0.05% 质控限度 0.15%或1.0mg （取最小值） 0.05%
（2）仿制已有国家标准的药品
可以根据已有的标准制订相应的杂质限度。 1、该标准中未规定杂质的限度： 应与已上市同品种药品进行全面的质量对比研究 杂质的种类与含量 稳定性考察 2、难以获得已上市同品种的标准，但有相同原料药的 其它剂型上市，则在制订杂质限度时，可参考此上市产品 质量标准，对杂质进行控制。 （具体操作：将合成的原料制
4.标准方法不同，如何统一
1）分析不同出处标准方法之间的差异 2）实验验证比较，以数据分析 3）以质量可控为基础，取长补短
总结： 1.围绕药品审评中心的审评理念，开展质量 控制工作 2.质量控制需要多学科的共同努力，取长补短
经典的纯化方法
1.重结晶 2.萃取 3.蒸馏 4.色谱法 5.化学法
成相同剂型的制剂，有关项进行比较）
3、工艺或处方的不同杂质的限度： 新杂质的含量高于附件1或2规定的合理限度 在研产品的杂质含量明显高于已上市的同品种产品 的杂质实测值。 优化产品的处方与制备工艺 安全性、稳定性研究。（与原研相比）
2、无机杂质的限度确定
原则：无机杂质的限度主要根据该杂质的毒性、对 药品本身质量（如稳定性）的影响及各批次产品的实测 结果而定。 各国药典收载的质量标准及我国已批准上市产品的 注册标准中对于我们确定在研产品的无机杂质限度具有 重要的参考价值。 给药途径、适应症、剂量等选择合适的参考标准， 确定合理的限度。
原则：质量可控、安全有效
例：限度制订——以有关物质为例 参考：1.药典、ICH、指导原则等 2.文献（关于杂质的安全性文献） 3.原研原料或制剂 4.其他国内上市的原料、制剂等 问题：限度设定？ 如何能达到平衡？
生产成本
用药安全 质量标准
限度不一定最低，但一定要
保证安全！
质量控制中共性问题探讨
0.2％或2mg 0.10% （取最小值） >100mg-2g >2g
限度
1.0％或50μ g 0.5％或200μ g （取最小值） （取最小值）
0.2％或3mg （取最小值）
0.15%
报告限度（Reporting Threshold）： 超出此限度的杂质均应在检测报告中报告，并应报告具 体的检测数据。 鉴定限度（Identification Threshold）： 超出此限度的杂质均应进行定性分析，确定其化学结构。 质控限度（Qualification Threshold）： 质量标准中一般允许的杂质限度，如制订的限度高于此 限度，则应有充分的依据。
8.8
3.8 2.9 30.0 7.2 8.9 6.0
0.088
0.038 0.029 0.3 0.072 0.089 0.06
溶剂名称
PDE值 (mg/天）
限度 （％）
第三类溶剂(GMP或 其他质量要求限制使用)
叔丁基甲基醚 50.0 0.5
异丙基苯
二甲亚砜 乙醇 乙酸乙酯 乙醚 甲酸乙酯 甲酸 正庚烷 乙酸异丁酯 乙酸异丙酯
GC等其它方法。 如采用HPLC法，须采用峰面积法，
①外标法（杂质对照品法）
②加校正因子的主成分自身对照法 ③不加校正因子的主成分自身对照法 ④峰面积归一化法。
①法定量比较准确
②法应对校正因子进行严格测定，仅适用于已知杂质的 控制 ③法的前提是假定杂质与主成分的响应因子基本相同。 ④法简便快捷，但因各杂质与主成分响应因子不一定相
美国药典（USP） 英国药典 (BP) 欧洲药典 (EP) 中国药典 (ChP)
相关内容的基础上，结合我国药物研发的特点，通过分 析、研究与药物的安全性、有效性及质量可控性之间的 内在关系而制定的
（二）杂质的分类
按理化性质
有机杂质、无机杂质、残留溶剂 工艺杂质（包括合成中未反应完全的反应物、
混入的杂质
杂质控制的理念
源头控制、过程控制和终点控制相结合 （CTD格式的要求）
杂质谱分析
源头控制
杂质控制
过程控制
杂质验证
质量源于设计，质量不是检验注入到产品中的，而是通过设 计赋予的。 源头控制：工艺控制包括原料、副产物、降解产物（通过破 坏实验完成） 起始原料的合成工艺
质量控制中共性问题探讨
不挥发性无机杂质采用炽灼残渣法进行检测。 某些金属阳离子杂质（银、铅、汞、铜、镉、铋、锑、 锡、砷、锌、钴与镍等）笼统地用重金属限度检查法进 行控制。因在药品生产中遇到铅的机会较多，且铅易积 蓄中毒，故作为重金属的代表，以铅的限量表示重金属 限度。
对某种（些）特定金属离子或上述方法不能检测到的
金属离子作限度要求，可采用专属性较强的原子吸收 分光光度法或具有一定专属性的经典比色法（如采用 药典已收载的铁盐、铵盐、硒等的检查法检测药品中 微量铁盐、铵盐和硒等杂质）。虽然重金属检查法可 同时检测砷，但因其毒性大，且易带入产品中，故需 采用灵敏度高、专属性强的砷盐检查法进行专项考察 和控制，各国药典收载的方法已历经多年验证，行之 有效，应加以引用。
主要内容
1. 国内外对药物杂质研究的相关技术要求
2. 杂质来源和控制
有机杂质 无机杂质 残留溶剂
《化学药物杂质研究的技术指导原则》
ICH（International
Conferenceon Harmonizationof Technical Requirements for RegistrationofPharmaceuticalsfor Human Use）
（2）无机杂质的分析方法
无机杂质的产生主要与生产工艺过程有关。由于许多 无机杂质直接影响药品的稳定性，并可反映生产工艺 本身的情况，了解药品中无机杂质的情况对评价药品 生产工艺的状况有重要意义。
对于无机杂质，各国药典都收载了经典、简便而又行 之有效的检测方法。对于成熟生产工艺的仿制，可根 据实际情况，采用药典收载的方法进行质量考察及控 制。对于采用新生产工艺生产的新药，鼓励采用离子 色谱法及电感耦合等离子发射光谱－质谱（ICP-MS） 等分析技术，对产品中可能存在的各类无机杂质进行 定性、定量分析，以便对其生产工艺进行合理评价， 并为制定合理的质量标准提供依据。
重金属 铁盐 氯化物 硫酸盐 砷盐
0.001% 0.003% 0.014% 0.04%-0.1% 0.0002-0.0005%
3、残留溶剂限度确定
药物中常见残留溶剂及其限度
溶剂名称 PDE值 (mg/天） 第一类溶剂（应避免使用） 苯 四氯化碳 1,2-二氯乙烷 0.02 0.04 0.05 0.0002 0.0004 0.0005 限度 （％）
1,1-二氯乙烯
1,1,1-三氯乙烷
0.08
15.0
0.0008
0.15
溶剂名称
PDEFra Baidu bibliotek (mg/天）
限度 （％）
第二类溶剂 （应该限制使用）
乙腈 氯苯 氯仿 环己烷 4.1 3.6 0.6 38.8 0.041 0.036 0.006 0.388
N,N-二甲氧基甲酰胺
1,4-二氧六环 正己烷 甲醇 四氢呋喃 甲苯 二氯甲烷
按照其来源 按照其毒性
试剂、中间体、 副产物等）
降解产物 从反应物及试剂中混入的杂质等。
毒性杂质、普通杂质
按化学结构
如甾体、生物碱、几何异构体、光学异构体 聚合物等。
一、概述
（一）定义
任何影响药物纯度的物质统称为杂质。杂质的研究 是药品研发的一项重要内容。它包括选择合适的分析 方法，准确地分辨与测定杂质的含量并综合药学、毒 理及临床研究的结果确定杂质的合理限度。这一研究 贯穿于药品研发的整个过程。
药品质量研究的进展
纯度控制
杂质控制 杂质谱控制 第一次飞跃 第二次飞跃
杂质的个数、种类、限度等
1、有机杂质的限度确定
质量标准中对有机杂质的限度规定应包括：
每一个已知杂质、未知杂质及总杂质。 共存的异构体和抗生素的多组分一般不作为杂质进行控
制，必要时作为共存物质在质量标准中规定其比例。
单一的对映体药物，其对映异构体应作为杂质控制.由 于创新药物与仿制药情况不同，在确定杂质限度时，可 有所区别。
案例分析
1.杂质较大的，先用柱分离，有些杂质重结晶难以除去 2.根据杂质的反应性差异确定选择什么方法 3.化学新路线的设计 4.优化反应条件，提高选择性
注：萃取过程中可能引入新的杂质，特别是溶残，需要 重结晶除去。
有机杂质的定量方法
有机杂质的检测一般多采用HPLC法，有时也采用TLC、
（3）残留溶剂的检测方法
在确定了需要进行残留量研究的溶剂后，需要通过方 法学研究建立合理可行的检测方法。目前，常用的检 测方法为气相色谱法（Gas Chromatography，GC）， 也有其他一些检测方法。
三、杂质来源和控制
（一）有机杂质来源和控制
工艺杂质
反应物 试剂 中间体 副产物 降解产物 反应物 试剂
1.研究内容不全面、针对性不强
原则：仿产品而不是仿标准 前期工作：研究产品的结构特征、制备工艺、相关文献 项目设置：共性化项目、个性化项目、不同方法的互补。 共性化项目包括：性状、鉴别、检查、含量 个性化项目包括：检查、有关物质、溶残、无机杂质
2.质量标准制订中项目设置不全面，限度设定不 合理
3.实验内容很全面，资料表述模糊不清
申报成功率：50%的实验+50%的资料 1）正确理解CTD概念 2）理清脉络 3）环环相扣 以CTD格式（模块化）申报原料药杂质研究为例
模块 关注人员 3.2.S.2 合成 3.2.S.3 合成、分析 3.2.S.4 合成
分析是合成的眼睛
质量控制中共性问题探讨
3、对于创新药物，可对杂质的限度做初步的规定。
申报生产研究：
1、产生了新的杂质
2、已有杂质的含量超出限度 根据附件1或2来判断该杂质的含量是否合理，如不合理，
则应参照决策树来考虑下一步的研究工作。
（二）杂质检测技术要求 1、杂质分析方法
分析方法的选择直接关系到杂质测定结果的专属性 与准确性，因此，在进行杂质研究时首要问题是选择合 适的杂质分析方法。
>2g
0.03%
附件2：制剂的杂质限度
报告限度 最大日剂量 限度 最大日剂量 鉴定限度 限度 最大日剂量 质控限度 <1mg 1.0％或5μ g （取最小值） <10mg ≤1g 0.1% 1mg-10mg 0.5％或20μ g （取最小值） 10mg-100mg >1g 0.05% >10mg-2g >2g
50.0
50.0 50.0 50.0 50.0 50.0 50.0 50.0 50.0 50.0
0.5
0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5
4、临床研究申请与上市生产申请 阶段的杂质研究
申报临床研究：
1、申报临床研究前，应对已有批次产品的杂质进行比 较，根据安全性研究用样品的杂质含量情况来证明临床研 究用药品是安全的。 2、可在临床研究期间对杂质分析方法进行完善。
1.药物的整个合成工艺
药学
2.药物制剂工艺 3.药物结构及其性质
4.分析方法
有机杂质：
包括工艺中引入的杂质和降解产物等，由于这类杂质的化学结构一般与活 性成分类似或具渊源关系，故通常又可称之为有关物质。
无机杂质：
是指在原料药及制剂生产或传递过程中产生的杂质，这些杂质通常是已知 的，主要包括：反应试剂、配位体、催化剂、重金属、其它残留的金属、 无机盐、助滤剂、活性炭等。
（1）有机杂质的分析方法
化学法、光谱法、色谱法等，随着分离、检测技术 的发展与更新，高效、快速的分离技术与灵敏、稳 定、准确、适用的检测手段相结合。 目前普遍采用的杂质检测方法： 高效液相色谱法 薄层色谱法、 气相色谱法 毛细管电泳法
应根据药物及杂质的理化性质、化学结构、杂质的控 制要求等确定适宜的检测方法。由于各种分析方法均具 有一定的局限性，因此在进行杂质分析时，应注意不同 原理的分析方法间的相互补充与验证，如HPLC与TLC及 HPLC与CE的互相补充，反相HPLC系统与正相HPLC系统的 相互补充，HPLC不同检测器检测结果的相互补充等。
残留溶剂：
在合成、纯化、制剂过程中残留所使用的溶剂，这些溶剂通常是已知的。
二、国内外对药物杂质研究的 相关技术要求
(一)杂质限度要求
附件1：原料药的杂质限度
最大日剂量 ≤2g 报告限度 0.05% 鉴定限度 0.10%或1.0mg （取最小值） 0.05% 质控限度 0.15%或1.0mg （取最小值） 0.05%
（2）仿制已有国家标准的药品
可以根据已有的标准制订相应的杂质限度。 1、该标准中未规定杂质的限度： 应与已上市同品种药品进行全面的质量对比研究 杂质的种类与含量 稳定性考察 2、难以获得已上市同品种的标准，但有相同原料药的 其它剂型上市，则在制订杂质限度时，可参考此上市产品 质量标准，对杂质进行控制。 （具体操作：将合成的原料制
4.标准方法不同，如何统一
1）分析不同出处标准方法之间的差异 2）实验验证比较，以数据分析 3）以质量可控为基础，取长补短
总结： 1.围绕药品审评中心的审评理念，开展质量 控制工作 2.质量控制需要多学科的共同努力，取长补短
经典的纯化方法
1.重结晶 2.萃取 3.蒸馏 4.色谱法 5.化学法
成相同剂型的制剂，有关项进行比较）
3、工艺或处方的不同杂质的限度： 新杂质的含量高于附件1或2规定的合理限度 在研产品的杂质含量明显高于已上市的同品种产品 的杂质实测值。 优化产品的处方与制备工艺 安全性、稳定性研究。（与原研相比）
2、无机杂质的限度确定
原则：无机杂质的限度主要根据该杂质的毒性、对 药品本身质量（如稳定性）的影响及各批次产品的实测 结果而定。 各国药典收载的质量标准及我国已批准上市产品的 注册标准中对于我们确定在研产品的无机杂质限度具有 重要的参考价值。 给药途径、适应症、剂量等选择合适的参考标准， 确定合理的限度。
原则：质量可控、安全有效
例：限度制订——以有关物质为例 参考：1.药典、ICH、指导原则等 2.文献（关于杂质的安全性文献） 3.原研原料或制剂 4.其他国内上市的原料、制剂等 问题：限度设定？ 如何能达到平衡？
生产成本
用药安全 质量标准
限度不一定最低，但一定要
保证安全！
质量控制中共性问题探讨
0.2％或2mg 0.10% （取最小值） >100mg-2g >2g
限度
1.0％或50μ g 0.5％或200μ g （取最小值） （取最小值）
0.2％或3mg （取最小值）
0.15%
报告限度（Reporting Threshold）： 超出此限度的杂质均应在检测报告中报告，并应报告具 体的检测数据。 鉴定限度（Identification Threshold）： 超出此限度的杂质均应进行定性分析，确定其化学结构。 质控限度（Qualification Threshold）： 质量标准中一般允许的杂质限度，如制订的限度高于此 限度，则应有充分的依据。
8.8
3.8 2.9 30.0 7.2 8.9 6.0
0.088
0.038 0.029 0.3 0.072 0.089 0.06
溶剂名称
PDE值 (mg/天）
限度 （％）
第三类溶剂(GMP或 其他质量要求限制使用)
叔丁基甲基醚 50.0 0.5
异丙基苯
二甲亚砜 乙醇 乙酸乙酯 乙醚 甲酸乙酯 甲酸 正庚烷 乙酸异丁酯 乙酸异丙酯
GC等其它方法。 如采用HPLC法，须采用峰面积法，
①外标法（杂质对照品法）
②加校正因子的主成分自身对照法 ③不加校正因子的主成分自身对照法 ④峰面积归一化法。
①法定量比较准确
②法应对校正因子进行严格测定，仅适用于已知杂质的 控制 ③法的前提是假定杂质与主成分的响应因子基本相同。 ④法简便快捷，但因各杂质与主成分响应因子不一定相
美国药典（USP） 英国药典 (BP) 欧洲药典 (EP) 中国药典 (ChP)
相关内容的基础上，结合我国药物研发的特点，通过分 析、研究与药物的安全性、有效性及质量可控性之间的 内在关系而制定的
（二）杂质的分类
按理化性质
有机杂质、无机杂质、残留溶剂 工艺杂质（包括合成中未反应完全的反应物、
混入的杂质
杂质控制的理念
源头控制、过程控制和终点控制相结合 （CTD格式的要求）
杂质谱分析
源头控制
杂质控制
过程控制
杂质验证
质量源于设计，质量不是检验注入到产品中的，而是通过设 计赋予的。 源头控制：工艺控制包括原料、副产物、降解产物（通过破 坏实验完成） 起始原料的合成工艺
质量控制中共性问题探讨
不挥发性无机杂质采用炽灼残渣法进行检测。 某些金属阳离子杂质（银、铅、汞、铜、镉、铋、锑、 锡、砷、锌、钴与镍等）笼统地用重金属限度检查法进 行控制。因在药品生产中遇到铅的机会较多，且铅易积 蓄中毒，故作为重金属的代表，以铅的限量表示重金属 限度。
对某种（些）特定金属离子或上述方法不能检测到的
金属离子作限度要求，可采用专属性较强的原子吸收 分光光度法或具有一定专属性的经典比色法（如采用 药典已收载的铁盐、铵盐、硒等的检查法检测药品中 微量铁盐、铵盐和硒等杂质）。虽然重金属检查法可 同时检测砷，但因其毒性大，且易带入产品中，故需 采用灵敏度高、专属性强的砷盐检查法进行专项考察 和控制，各国药典收载的方法已历经多年验证，行之 有效，应加以引用。